Установка для химической обработки круглых деталей со сложным геометрическим профилем Советский патент 1976 года по МПК H01L7/68 

ванна в продольном разрезе; на фиг. 3 - ванна в понеречном разрезе; на фиг. 4 - кассета со структурой; на фиг. 5 - структура с подведенным к ней соплом.

Установка для химической обработки содержит установленную на основании 1 химически стойкую камеру 2 (фиг. 1), в которой расположены идентичные ванны предварительного травления 3, финишного травления 4, ванна отмывки 5 и сушки 6. В установке предусмотрен также блок управления 7 и узел газораспределения 8. В ваннах установлены вращающиеся валики 9 (фиг. 2), кинематически соединенными системой шестерен 10 с приводом 11, и сальниковые узлы 12. На дне ванны расположена газоприемная полость 13 с соплами 14, сориентированными относительно обрабатываемых структур 15, удерживаемых кассетой 16 (фиг. 3). На фиг. 4 показано расположение структуры 15 в кассете 16 перед установкой ее в ванну. В процессе обработки п/п структура 15 (см. фиг. 3) опирается на валики 9 ванны, между кассетой и структурой образуется зазор а для свободного вращения структуры на валиках, вертикальное положение п/п структур предопределяется расположением их в пазах кассеты и валиков.

Расположение сопла 14 относительно п/п структуры 15 показано на фиг. 5.

Цикл работы установки начинается с подачи инертного газа из узла газораспределения 8 через газоприемнуню камеру 13 к соплам 14, расположенным в ванне 3. Одновременно инертный газ подается в сальниковый узел 12 для предотвращения вытекания травителя в месте выхода валиков 9 из ванны. Затем ванна заполняется травителем и валики 9 приводятся во вращение. Осуществляется общий барботаж травителя. Кассета 16 с уложенными в ней структурами 15 опускается в ванну и устанавливается таким образом, что структуры 15 опираются на валики 9 и удерживаются в вертикальном положении пазами валиков и кассеты. При этом между структурой и кассетой образуется зазор а для свободного вращения структуры на валиках 9. Из сопел 14 (фиг. 5), сориентированных относительно структур, газ тонкой направленной струей захватывает травитель и подает его в прорезь структуры, при этом осуществляется интенсивная смена травителя в зоне травления прорези. В связи с общим барботажем и интенсивной сменой травителя в зоне травления прорези время травления всей поверхности структуры и поверхности прорези выравнивается, в результате чего повышается качество травления и уменьшается расход травителя.

По окончании обработки в ванне предварительного травления кассета со структурами вынимается и передается во все последующие ванны по установленному технологическому циклу.

В ванне финишного травления 4 происходит обработка аналогичная травлению в ванне 3. В ванне отмывки 5 происходит аналогичный процесс, но вместо травителя ванна заполняется водой. Сушка проводится в ванне 6 подогретым газом, подаваемым через сопла.

Формула изобретения

Установка для химической обработки круглых деталей со сложным геометрическим профилем, например, полупроводниковых структур, содержащая ванны последовательной обработки, кассеты для деталей, узел вращения обрабатываемых деталей, систему подачи и отвода реактивов, привод, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества и производительности обработки, а также уменьшения расхода реактивов, узел вращения деталей выполнен в виде параллельнорасположенных горизонтальных валиков с поперечными проточками, установленных под опорными элементами кассет так, что ребра деталей входят в проточки валиков.

Soda

и

M3Su/f ovffoe

10

11

1Z

15

0US. )

5

CPUS. 5