Устройство для нанесения тонких пленок на объектодержатель электронного микроскопа Советский патент 1983 года по МПК C23C13/12 

Изобретение относится к электронной микроскопии, преимущественно к, приборам просвечивающего типа. Известно устройство для нанесения тонких пленок на объектодержатель электронного микроскопа, содержащеее нагреваемый электронной бомбардировкой источник наносимого материала, закрепленный в камере объектов элект ронного микроскопа. Однако такое устройство- отличается сложностью конструкции и высоким уровнем помех от источника. Цель изобретения - снижение уровня помех от источника и упрощение конструкции. Это достигается тем, что в предлагаемом устройстве источник испар1яе мого материгша выполнен в виде слоя, нанесенного на сменную диафрагму, закрепленную в канале объектодержателя со стороны, обращенной к объектодержателю. Сущность изобретения поясняется чертежом. . Объект 1 расположен в патроне 2 и прижат к поверхности патрона втулкой объектодержателя 3, в расишрении канала объектодержателя псмещена диафрагма 4, покрытая слоем испаряемого вещества 5 на части поверхности обргиценной к объекту.Трубка 6 препят- .; ствует перекосу диафрагмы при установке объектодержателя в прибор. Испаряемое вещество наносят предварительно на несколько диафрагм во вспомогательной вакуумной установ ке или другим путем, например электролитическим осаждением. Одну из диафрагм устанавливают в канал объек тодержателя так, чтобы слой испаряемого вещества находился на стороне, обращенной к объекту. Нагрев диафрагмы осуществляется электронным лучом микроскопа, часть которого проходит через отверстие в диафрагме и создает изображение объекта. Так как диафрагма прижимается к поверхности объектодержателя только за счет собственного веса, отвод тепла от диафрагмы мал. Если между диафрагмой и объектодержателем. находится теплоизолирующий слой, которым может.быть и естественная . окисная пленка на поверхности металла, то мощности электронного луча достаточно для нагрева диафрагмы до . Температуру нагрева, а значит, и скорость напыления, можно менять потенциометрг1мк регулировки тока луча и тока конденсорной линзы. Смену диaфpaг вi после окончания испарения производят одновременно со сменой объекта. Для этого объектодержатель выводят из колонны микроскопа с помопц ю шлюзового устройства, имеющегося,во всех современенных приборах. Промежуток времени между циклами напыления может быть таким путем уменьшен до нескольких ютнут. ; Другим преимуществом установки испарителя в виде диафрагмы непосредственно в объектодержатель является уменьшение загрязнения колонны микроскопа испаряег оым веществом. Испарение электронным лучом может осуществляться с любой требуемой скоростью. Яркость изображения, снижающаяся из-за расфокусировки луча, достаточна для наблюдения объекта при увеличении порядка 10 тыс. При напылении пленок на объект не происходит ухудшения-качества изобргисения или |отклонения электронного луча, затрудняющего использование стандартных испарительных приспособлений.

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ОБЪЕКТОДЕРЖАТЕЛЬ ЭЛЕКТРОННОГО МИКРОСКОПА, содержащее нагреваемый электронной бомбарцрров- кой источник наносимо'го материала,закрепленный в камере объектов электронного микроскопа, от_личаю-' ГЦ е е с я тем, что, с целью снижения уровня помех от источника и упрощения конструкции, источник испаряемого материала выполнен в виде слоя, нанесенного на сменную диафрагму, закрепленную в канале объектодержа- теля со стороны, обращенной к объек-' тодержателю.%4чч /^^i?rgс €(Лсел!UD ^00