Вакуумная установка для нанесения покрытий на подложки с рельефной поверхностью Советский патент 1976 года по МПК C23C13/12 

1

Изобретение относится к вакуумному нанесению материалов на подложки с рельефной поверхностью и может использоваться пра производстве полупроводниковых приборов и микросхем.

Известна вакуумная установка для нанесения покрытий на подложки с рельефной поверхностью, содержащая камеру с горизонтально размещенным в ней барабаном, кинематически связанным с приводом вращения, испарители, расположенные внутри барабана, и подложкодержатели с подложками, закрепленные на цилиндрической образующей барабана и снабженные индивидуальными приводами вращения. Однако известная установка не обеспечивает требуемой равномерности покрытия подложек используемым материалом.

Цель изобретения - повыщение равномерности покрытия.

Это достигается тем, что в предлагаемой установке испарители расположены симметрично относительно вертикальной оси симметрии плоскости пооперечного сечения барабана и не выше горизонтальной оси симметрии плоскости поперечного сечения барабана.

На фиг. 1 представлена предлагаемая установка; на фиг. 2 - подлол ка с нанесенным покрытием.

В вакуумной камере 1 размещен барабан 2, внутри которого расположены испарители 3.

На барабане закреплены подложкодержатели 4 с подложками 5, на которые наносится пленка 6 (фиг. 2). С внутренней и внешней сторон барабана расположены нагреватели 7.

Установка работает следующим образом.

Вакуумная камера 1 откачивается до давления, необходимого для термического испарения напыляемого материала. Затем включается вращение барабана 2. Подложкодержатели 4 начинают вращаться вокруг своей оси. Включаются нагреватели 7, и барабан с подложками нагревается до необходимой температуры. Затем испарители 3 нагреваются до температуры термического испарения наносимых материалов. Пары материала при соприкосновении с более холодными подложками осаждаются на них в виде тонких пленок.

В связи с тем, что испарителу расположены симметрично относительно вертикальной оси плоскости поперечного сечения барабана, подложки во время напыления находятся под разными углами относительно испарителей. Такое расположение испарителей позволяет наносить равномерную пленку на рельефную поверхность подложки.

Когда на подложках получена пленка требуемой толщины, отключается питание испарителей, в вакуумную камеру напускается воздух или инертный газ, и подложки готовы для дальнейшей обработки.

Формула изобретения

1. Вакуумная установка для нанесения покрытий на подложки с рельефной поверхностью, содержащая камеру с горизонтально размещенным в ней барабаном, кинематически связанным с приводом вращения, испарители, расположенные внутри барабана, и иодложкодержатели с подложками, закрепленные на цилиндрической образующей барабана

и снабженные индивидуальными приводами вращения, отличающаяся тем, что, с целью повышения равномерности покрытия, испарители расположены симметрично относительно вертикальной оси симметрии плоскости поперечного сечения барабана.

2. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что испарители расположены не выше горизонтальной оси симметрии плоскости поперечного сечения барабана.