1
Изобретение относится к области гальваностегии, в частности к электрохимическому осаждению сплавов галлий - фосфор.
В настоящее время тонкие слои сплавом галлий - фосфор получают методом вакуумпого испарения.
Однако этот метод требует использования сложной аппаратуры.
Наиболее близким к изобретению по составу компонентов является известный электролит для осаждения галлия, содержащий хлористый галлий, аммоиий хлористый, желатин, комплексообразователь, например винную кислоту, и растворитель, иапример глицерин.
Однако данный электролит предназначен для осаждения покрытий из чистого галлия и из него невозможно получить покрытие из сплаза галлия с фосфором.
Предлагаемый электролит
отличается от повышения фиизвестного тем, что с целью знко-механических свойств покрытия при осаждении сплавов галлий - фосфор он дополнительно содержит гипофосфит аммония, а в качестве комилексообразователя и растворителя - соответстггенно трилон Б и воду при следующем соотношении компонентов, г: Галлий хлористый11,2-23,5
Гипофосфит аммония8,3-24,9
Аммоний хлористый46-60
Трилон Б23-48
Желатин0,3-0,5
ВодаДо 1 (л)
Электролит готовят растворением хлористого галлия, трилона Б, хлористого аммония и лселатина при 80-90°С. Полученный раствор охлаждают до комнатной температуры, после чего в него вводят гипофосфит аммония. Хлористый аммоний вводят в электролит для активизации катодного процесса электроосаждения. При его отсутствии совместного осаждения галлия с фосфором почти не происходит.
Желатин вводят в электролит как поверхпостно-активное вещество, способствующее получению равномерного покрытия.
Процесс осаждения рекомендуется проводить при рН 2,0-2,5, температуре 60-80°С и катодной плотности тока 2,5-15,0 а/дм. Катодом является медь, анодом - платина или графит.
Рассеиваюш,ая способность электролита составляет 50%.
Из указанного электролита осаждаются иокрытия, содержапиге 1,5-12% фосфора и обладающие хорошим сцеплением с основой (при изгибе под углом 90 п 180° излом покрытия происходит совместно с основой).
Покрытия являются практически беспорнстыми.
Толщина покрытия составляет 10 мкм, удельное сопротивление-10 ом-см, что на два порядка больше, чем у покрытия из чистого галлия.
Величина интегрального коэффициента отражения (зеркального+диффузнонного) в
видимом диапазоне света составляет 50±2%. Зависимость некоторых характеристик покрытия из сплава галлий - фосфор от содержания фосфора в покрытии представлена в табл. 1.
Таблица 1
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ СПЛАВА ВИСМУТ-ГАЛЛИЙ | 2009 |
|
RU2410474C2 |
Композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, дисперсная система для осаждения композиционного металл-алмазного покрытия и способ ее получения | 2019 |
|
RU2706931C1 |
Электролит для осаждения покрытий на основе никеля, кобальта и фосфора | 1990 |
|
SU1726567A1 |
Электролит для осаждения аморфного железо-фосфорного сплава | 1988 |
|
SU1565920A1 |
ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ СПЛАВА ЖЕЛЕЗО-ВАНАДИЙ-ФОСФОР | 2005 |
|
RU2291231C1 |
Электролит для осаждения хромового покрытия, легированного молибденом | 2022 |
|
RU2778529C1 |
Способ нанесения гальванических покрытий сплавом индий-свинец | 2020 |
|
RU2739741C1 |
Способ получения композиционного металл-дисперсного покрытия, дисперсная система для осаждения композиционного металл-дисперсного покрытия и способ ее получения | 2020 |
|
RU2746863C1 |
Способ получения композиционного металл-алмазного покрытия на поверхности медицинского изделия, дисперсная система для осаждения металл-алмазного покрытия и способ ее получения | 2020 |
|
RU2746730C1 |
Способ получения композиционного металл-дисперсного покрытия, дисперсная система для осаждения композиционного металл-дисперсного покрытия и способ ее получения | 2020 |
|
RU2746861C1 |
Существенное влияние на состав сплава и выход по току оказывает концентрация ионов
галлия и гипофосфита, а также плотность тока, что наглядно иллюстрируется данными, приведенными в табл. 2.
Таблица 2
Авторы
Даты
1976-10-30—Публикация
1975-04-21—Подача