Раствор для удаления защитных полимерных масок Советский патент 1976 года по МПК G03C1/68 

Описание патента на изобретение SU540246A1

1

Изобретение предназначено для удаления защитных полимерных масок с поверхности кремниевых пластин и может быть использовано в технологии изготовления полупроводниковых приборов с применением фоторезистов на основе нафтохинондиазидов и фенолформальдегидных смол.

Известен раствор, в котором эффективно разрушается пленка фоторезистов, следующего состава 1, вес. %:

Едкое кали6-4

Изопропиловый спирт 32-34 Вода60-64

Однако при удалении защитной полимерной маски данный раствор частично стравливает поверхность кремния.

Целью изобретения является раствор, обеспечивающий высокую чистоту поверхности при неизменном ее рельефе.

Эта цель достигается тем, что в водно-щелочной раствор введена перекись водорода при следующем соотношении компонентов, вес. %:

Щелочь (например, едкое кали) 0,,0 Перекись водорода2,0-10,0

ВодаОстальное

В предлагаемый раствор перекись водорода введена для предотвращения травления щелочью кремния. При этом удается получить более чистую поверхность пластин после снятия фоторезиста.

Пример 1. Процесс фотолитографии проводят на термически окисленных пластинах кремния марки КДБ-10 диаметром 40 мм. Толщина окисла составляет 0,4-0,5 мкм. Для получения защитных полимерных масок используют позитивный фоторезист марки ФП-383, толщина пленки фоторезиста составляет 0,8-1,2 мкм.

Удаляют защитную полимерную маску путем двукратной в течение 10-15 мин обработки пластин в нагретом до 50-60°С растворе следующего состава, вес. %: Едкое кали0,4

Перекись водорода3,8

Вода95,8

Пластины промывают проточной деионизированной водой (удельное сопротивление воды 12 мОм-см) в течение 10 мин и сушат на центрифуге. Плотность кристаллитов SiOz на этих пластинах после проведения процесса диффузии сурьмы составляет 1-1 У--2103 см-г.

Формула изобретения

Раствор для удаления защитных полимерных масок с поверхности кремниевых пластин, содержащий воду и щелочь, отличающийся тем, что, с целью повышения чисто3ты поверхности при пеизменном ее рельефе, он содержит перекись водорода при следующем соотношении компонентов, вес. %: Щелочь 0,4-4,0 Перекись водорода 2,0-10,05 Вода остальное 4 Источник информации, принятый во внимание при экспертизе: 1. Авторское свидетельство СССР № 448253, М. Кл. С 23f 1/00, 08.01.73.

Похожие патенты SU540246A1

название год авторы номер документа
Анизотропный травитель 1976
  • Карантиров Николай Федосеевич
  • Клюбина Зоя Дмитриевна
  • Михайлов Юрий Александрович
  • Носков Анатолий Иванович
  • Петров Сергей Васильевич
SU557434A1
Травитель 1973
  • Михайлов Юрий Александрович
  • Новиков Валентин Васильевич
  • Носков Анатолий Иванович
  • Уманская Светлана Нахимовна
SU448253A1
Раствор для удаления защитного рельефа, сформированного из позитивного фоторезиста на основе нафтохинондиазидов и фенолформальдегидных смол 1973
  • Родионова Алевтина Алексеевна
  • Евстифеева Анастасия Федоровна
SU455312A1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТЕРМОСТОЙКОГО ПОЗИТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА 2008
  • Рудая Людмила Ивановна
  • Шаманин Валерий Владимирович
  • Лебедева Галина Константиновна
  • Климова Наталья Владимировна
  • Большаков Максим Николаевич
RU2379731C2
Раствор для травления силицидов металлов 1991
  • Тарасенко Сергей Олегович
  • Ильченко Василий Васильевич
  • Шевчук Петр Павлович
SU1795985A3
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ КРИСТАЛЛОВ 1992
  • Коломицкий Николай Григорьевич
  • Астапов Борис Александрович
RU2012094C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ 3D МИКРОСТРУКТУР КРЕМНИЯ МЕТАЛЛ-СТИМУЛИРОВАННЫМ ТРАВЛЕНИЕМ 2016
  • Воловликова Ольга Вениаминовна
  • Гаврилов Сергей Александрович
  • Сыса Артем Владимирович
RU2620987C1
КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ РЕЗИСТА И СПОСОБЫ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ 2010
  • Клипп Андреас
RU2551841C2
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ СО ВСТРОЕННЫМ ДИОДОМ 2012
  • Самсоненко Борис Николаевич
  • Битков Владимир Александрович
  • Василенко Анатолий Михайлович
  • Королева Наталья Александровна
RU2515420C2
СПОСОБ АНИЗОТРОПНОГО ПЛАЗМЕННОГО ТРАВЛЕНИЯ КРЕМНИЕВЫХ МИКРОСТРУКТУР В ЦИКЛИЧЕСКОМ ПРОЦЕССЕ НИТРИДИЗАЦИЯ-ТРАВЛЕНИЕ 2022
  • Аверин Сергей Николаевич
  • Кузьменко Виталий Олегович
  • Лукичев Владимир Федорович
  • Мяконьких Андрей Валерьевич
  • Руденко Константин Васильевич
  • Семин Юрий Федорович
RU2796239C1

Реферат патента 1976 года Раствор для удаления защитных полимерных масок

Формула изобретения SU 540 246 A1

SU 540 246 A1

Авторы

Новиков Валентин Васильевич

Носков Анатолий Иванович

Петров Сергей Васильевич

Даты

1976-12-25Публикация

1974-05-07Подача