ных луча после этого переводятся неподвижным 5 и подвижным 6 зеркалами примерно на 90°. Лругое подвижное зеркало 7 еще раз переводит частичный луч 3 так, что оба частичных луча 3 и 4 образуют вместе подобие прямоугольника. Оба частичных луча 3 и 4 сходятся из противоположных направлений на поверхности спирального проводящего слоя 8, зтот слой приводится во вращение механическими средствами вокруг оси, перпендикулярной к плоскости чертежа. При повороте зеркал 6 и 7 зокруг своей оси пятно падения данного луча энергии 3, соответственно луча 4, смещается на проводящем слое 8 параллельно его оси вращения. Для получения точечного пятна,падения обоих частичных лучей 3, 4 установлены сферические линзы 9, 10. Они вызьшают появление пунктирного пятна падения на проводящем слое 8 и линейную выемку, описьшаемую частичными лучами энергии 3 и 4 на проводящем слое. Интенсивность лучей 3 и 4 регулируется так, чтобы материал слоя 8 на данном месте падения и только на .лем по возможности немедленно испарился. По мере необходимости во время спиралеобоазования проводящего слоя следят за тем, чтобы последний, а также несущий его сердечник не слишком нагревались и чтобы сохранялся проводящий слой во всех местах, к которым не Могут непосредственно проходить лучи энергии 3 и4. Формула изобретения Устройство для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов, содержащее лазер, оптическое средство для расщепления лазерного луча на два непрерывных частичных луча в виде накло1шого полупрозрачного зеркала, оптические средства для отклонения и средства для фокусирования лучей на поверхности заготовки резистора, включающие систему подвижных и неподвижных зеркал, и механические средства для вращения резистора вокруг его продольной оси, отличающееся тем, что, с делью обеспечения непрерывности обработки, зеркала оптических средств для отклонения расщепленных лучей установлены так, что по ходу одного из расщепленных лучей расположено подвижное зеркало, а по ходу другого последовательно расположены неподвижное и подвижное зеркала, причем подвижные зеркала установлены с возможностью поворота вокруг осей, соосиых с направлениями лучей, исходящих от неподвижнь1Х зеркал, и с обеспечением смещения попадания лучей на поверхность загот;овки резистора. Источники информащш, принятые во внимание .при экспертизе: 1. Заявка Франции N 2090020, МКИ G 02 в 27/00, опубл. 18.02.72.
Авторы
Даты
1977-09-25—Публикация
1973-08-03—Подача