Устройство для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов Советский патент 1977 года по МПК H01C17/242 

Описание патента на изобретение SU574174A3

ных луча после этого переводятся неподвижным 5 и подвижным 6 зеркалами примерно на 90°. Лругое подвижное зеркало 7 еще раз переводит частичный луч 3 так, что оба частичных луча 3 и 4 образуют вместе подобие прямоугольника. Оба частичных луча 3 и 4 сходятся из противоположных направлений на поверхности спирального проводящего слоя 8, зтот слой приводится во вращение механическими средствами вокруг оси, перпендикулярной к плоскости чертежа. При повороте зеркал 6 и 7 зокруг своей оси пятно падения данного луча энергии 3, соответственно луча 4, смещается на проводящем слое 8 параллельно его оси вращения. Для получения точечного пятна,падения обоих частичных лучей 3, 4 установлены сферические линзы 9, 10. Они вызьшают появление пунктирного пятна падения на проводящем слое 8 и линейную выемку, описьшаемую частичными лучами энергии 3 и 4 на проводящем слое. Интенсивность лучей 3 и 4 регулируется так, чтобы материал слоя 8 на данном месте падения и только на .лем по возможности немедленно испарился. По мере необходимости во время спиралеобоазования проводящего слоя следят за тем, чтобы последний, а также несущий его сердечник не слишком нагревались и чтобы сохранялся проводящий слой во всех местах, к которым не Могут непосредственно проходить лучи энергии 3 и4. Формула изобретения Устройство для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов, содержащее лазер, оптическое средство для расщепления лазерного луча на два непрерывных частичных луча в виде накло1шого полупрозрачного зеркала, оптические средства для отклонения и средства для фокусирования лучей на поверхности заготовки резистора, включающие систему подвижных и неподвижных зеркал, и механические средства для вращения резистора вокруг его продольной оси, отличающееся тем, что, с делью обеспечения непрерывности обработки, зеркала оптических средств для отклонения расщепленных лучей установлены так, что по ходу одного из расщепленных лучей расположено подвижное зеркало, а по ходу другого последовательно расположены неподвижное и подвижное зеркала, причем подвижные зеркала установлены с возможностью поворота вокруг осей, соосиых с направлениями лучей, исходящих от неподвижнь1Х зеркал, и с обеспечением смещения попадания лучей на поверхность загот;овки резистора. Источники информащш, принятые во внимание .при экспертизе: 1. Заявка Франции N 2090020, МКИ G 02 в 27/00, опубл. 18.02.72.

Похожие патенты SU574174A3

название год авторы номер документа
Устройство для подгонки пленочных резисторов 1981
  • Тягунов Александр Анатольевич
SU997105A1
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПЕРЕМЕЩАЕМОЙ ПОДЛОЖКИ ПРИ ПОМОЩИ ЛАЗЕРА 2009
  • Коббен Йоханнес Игнатиус Мари
RU2496623C2
РУЧНОЕ ИМПУЛЬСНОЕ ЛАЗЕРНОЕ УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ ИЛИ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ 2018
  • Филиппрон, Жан Клод Мари
RU2730325C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛУЧЕВОЙ ОБРАБОТКИ 2011
  • Кондо Киеюки
RU2587367C2
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО СПЕКТРАЛЬНОГО АНАЛИЗА СЛОЯ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ, НАНОСИМОГО НА ПОВЕРХНОСТЬ СТАЛЬНОЙ ПОЛОСЫ 2009
  • Перре Жан
  • Мишо Марк
  • Клуто Лоран
RU2502057C2
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ НАПЛАВКИ 1999
  • Мазумдер Джиоти
  • Коч Джастин
RU2228243C2
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ОБЪЕКТА С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ПУЧКА ЭНЕРГИИ 2016
  • Санчо Диас, Паула
  • Иглесиас Валье, Ирати
  • Домингес Собрерос, Хесус
RU2707166C2
СОЛНЕЧНАЯ ЭЛЕКТРОСТАНЦИЯ (ВАРИАНТЫ) 1992
  • Геруни Парис Мисакович[Am]
RU2034204C1
Двухлучевой интерферометр 2018
  • Угожаев Владимир Дмитриевич
RU2697892C1
ОПТИЧЕСКАЯ СИСТЕМА С РЕГУЛИРУЕМЫМИ КАСКАДАМИ ДЛЯ ОФТАЛЬМОЛОГИЧЕСКОГО ЛАЗЕРНОГО СКАЛЬПЕЛЯ 2010
  • Ракши Ференц
RU2569129C2

Иллюстрации к изобретению SU 574 174 A3

Реферат патента 1977 года Устройство для нарезания спиральной канавки на заготовках пленочных резисторов

Формула изобретения SU 574 174 A3

SU 574 174 A3

Авторы

Альфред Энгл

Курт Март

Даты

1977-09-25Публикация

1973-08-03Подача