Устройство для очистки газа Советский патент 1977 года по МПК B01D47/00 

1

Изобретение относится к технике очистки газовых выбросов в атмосферу от пыли и токсичных газообразных компонентов и может быть применено в химической, металлургической, горно-добывающей и перерабатывающей промышленности при производстве строительных материалов, в пищевой и фармацевтической отраслях народного хозяйства

Известен аппарат с орошаемой (подвижной) насадкой, корпус которого содержит опорные решетки, подвижную насадку, штуцера для входа и выхода газа и жидкости 1 .

В аппарате обеспечивается интенсивное взаимодействие газов с жидкостью и насадкой в трехфазном слое. Насадка, циркулирующая в рабочем объеме, турлубнзует и способствует хорошему контакту фаз при многократном обновлении межфазной поверхности. Пульсации скорости газового потока между шарами вследствие непрерывного изменения расстояния между ними способствуют интенсификации массообмена между жидкостью и газом и инерционному осаждению пылевых частиц. Аппарат устойчиво работает при изменении нагрузки по газу.

Недостатком указанного аппарата является невозможность возникновения периодического проскока газа вследствие неравномерности его распределения по сечению аппарата, повышение брызгоуноса и, как следствие, недостаточная очистка газа. Особенно это заметно для аппаратов высокой производительности по газу.

Кроме того, в известном аппарате необходим большой расход обычно дефицитного абсорбента и невозможна работа с периодической подачей абсорбента с целью снижения его расхода и получения насыщенного абсорбента при отсутствии рециркуляционного контура.

Известно устройство для очистки газа, корпус которого выполнен со штуцерами ввода и вывода газа и жидкости. Устройство имеет распределитель газа, преимущественно колпачковую тарелку, над которым размещена опорно-распределительная решетка 2 .

В известном устройстве над тарелкой установлен переливной порог, регулирующий слив жидкости с тарелки. Такая конструкция регулятора уровня способствует созданию перекрестного тока газового и жидкостного потоков при непрерывной подаче последнего, что снижает степень очистки газа. С .целью увеличения степени очистки и надежности работы устройства оно снабжено дополнительнь л штуцером отво да жидкости, ,расположенным под опорно распределительной решеткой. Кроме того, устройство имеет насад ку, размещенную на опорно-распределит тельной решетке. Причем колпачковая тарелка установ лена наклонно. На фиг. 1 показано предлагаемое устройство, разрез; на фиг. 2 - разрез А-А фиг. 1; на фиг. 3 - узел 1 Фиг.1. Устройство имеет корпус 1 с днищем и крышкой, внутри которого установлен распределитель газа, например колпачковая тарелка, на основании 2 которой установлены один Или несколько газовых патрубков 3. Над газовыми патрубками 3 установлены отражатели 4. Над колпачковой тарелкой размещена опорно распределительная решетка 5, на которой расположена подвижная насадка 6. Устройство снабжено патрубками 7 и 8 соответственно для ввода и вывода газа и патрубками 9 и 10 соответствен но для ввода и вывода жидкости, а также дополнительным регулирующим шту дером 11 отвода жидкости, расположенным под опорно-распределительной решеткой 5. Газовые патрубки 3 и отражатели 4 могут быть круглого или прямоугольного сечения. Отражатели могут быть сферические, конические. Предложенное устройство работает следующим образом. Газовый поток поступает в аппарат; через патрубок 7 и для равномерного распределения по сечению колонны направляется в патрубки 3, поварачивает-ся на 180°с помощью отражателей 4 и с высокой скоростью сверху вниз ударяется о зеркало сплошной жидкости, расположенной на основании тарелки. При этом возникают значительные инерционные силы, под действием которых крупные частицы твердых примесей осаж даются в жидкости (первая стадия очистки газа в аппарате). Затем газовый поток вторично изме няет направление на 180°и, проходя через решетку 5, поступает в слой насадки. Под действием газового потока насадка приводится во взвешенное состояние,образуя сильно турбулизован ный трехфазный слой из насадки, газа и жидкости, поднятой в эту зону газо.вым потоком из бункера. В этом слое осуществляется эффективная вторая стадия очистки газа рт пыли и газообразных примесей и сепарация брызг. Промывная жидкость подается в устройство через патрубок 5, нужный ее уровень на основании тарелки регулируется с помощью штуцера 11с автоматическим устройством, поддерживающим постоянный уровень. Аппарат может работать в зависимости от технологических нужд как при непрерывной подаче жидкости, так и с периодическим добавлением жидкости в требуемом количестве. Шлам выводится из аппарата чере патрубок 10, а очищенный газ - через патрубок 8. Достижение общей требуемой эффективности процесса- осуществляется нацлежаш 1М изменением уровня промывной жидкости, высоты слоя взвешенной насадки, величины скорости газа в аппарате. Концентрация взвесей или химических ингредиентов в отработанном растворе регулируется наличием периодической или непрерывной подпитки с одновременным выводом части раствора в зависимости от условий процесса очистки газа. Фбрмула изобретения 1.Устройство для очистки газа, корпус которого выполнен со штуцерами ввода и вывода газа и жидкости, содержащее распределитель газа, преимущественно колпачковую тарелку, над которым размещена опорно-распределительная решетка, отличающееся тем, что, с целью увеличения степени очистки и надежности работы устройства, оно снабжено дополнительным штуцером отвода жидкости, расположенным под опорно-распределительной решеткой. 2.Устройство поп.1,отличаю щ е е с я тем, что оно имеет насадку, размещенную на опорно-распределительной решетке. 3.Устройство по п.1, отличающее с я тем, что колпачковая тарелка установлена наклонно. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе: 1.Патент ФРГ 834087,Кл.12е 1/02, 1952. 2.Рамм В.М. Лбсорция газов.М., Химия,1966, с.505.

Фиг.)

/

оН

оУ Ъ

о

//о о .

(б,. о 0(

уг. J