Высокочастотный плазматрон Советский патент 1981 года по МПК H05H1/24 

на внутренней поверхности камеры. На верхнем торце камеры размещен патрубок 3 подачи газа и обрг,батываемых дисперсных материалов. Нижний торзц камеры помещен в стакан 4, предназначенный для сбора жидкости, которая оводится патрубком 5. Обрабатываемые вещества выводятся через патрубок б. В камере создается емкостный разряд с помощью двух вне111них электродов 7, подсоединенных к ВЧ-генератору.

Второй возможный вариант предлагамого устройства (см. фиг. 2) отличается от первого варианта тем, что поток жидкости создается одним кольцевым соплом, угол f в этом случае равен 0. Жидкость также подается вдоль внутренней поверхности камеры. Нижней своей частью камера состыкована со стаканом (либо он образован стенками камеры и пробкой, сквозь которую проходит патрубок 6).

Работает предлагаемое устройство следу ощим образом.

Газ с порошкообразным материалом вводится по оси камеры через патрубок 3. Частицы материала, нагреваясь в зоне разряда, выходят через патрубок 6. Те дисперсные частицы, которые вследствие различных причин движутся к стенке камеры, неизбежно попадут в слой жидкости и будут унесены из камеры. Выйти же через патрубок 6 смогут лишь те частицы, которые двигались вдоль оси камеры через зону разряда. Таким образом, в выходном продукте будут присутствовать лишь хорошо обработанные частицы, за счет чего будет обеспечена высокая однородность обработанных в плазмотроне дисперсных материалов. Частицы, унесенные потоком жидкости могут быть собраны фильтром и использованы повторно. Помимо описанного эффекта в этой конструкции достгается хорошая защита стенок разрядной камеры от оседания оплавленных

в разряде частиц; тем самым устраняется шунтирование разряда, происходящее при оседании на стенках металли- ческих порошков, устраняется закупорка камер диэлектрическими порошка и, , следовательно, увеличивается ресурс плазмотрона.

Для ввода в разрядную камеру могут использоваться различные жидкости. При обработке в разряде окислов с успехом может использоваться вода. Если наличие в камере окислителя недопустимо, можно использовать углеводороды, альде иды, спирты (бензин, ацетон, спирт и т. д.), диэлектрические потери в которых невелики.

Проведенные испытания показали, что предложенная конструкция в 4-6 раз уменьшает количество необработын0 ных в разряде дисперсных материалов в выходном продукте.

Формула изобретения

Высокочастотный плазмотрон, содержащий разрядную камеру с патрубками для подачи в нее рабочего газа и обрабатываемых дисперсных материалов и выводным патрубком, устройство для возбуждения в камере разряда, отличающийся тем, .что, с целью повышения степени однородности обработки частиц дисперсного материала, попадающего в выводной патрубок, разрядная камера снабжена по крайней мере одним соплом для подачи жидкости в камеру, которое расположено у одного из торцов камеры и ось которого образует

0 острый угол с тангенциальным направлением к внутренней поверхности камеры в месте расположения сопла, и патрубком для отвода жидкости, расположенным у второго торца камеры.

(PUSJ

(Риг г