Устройство для стабилизации температуры резистивных испарителей Советский патент 1978 года по МПК G05D23/19 

Изобретение относится к приборостронию, в частности, к устройствам стабилизации температуры нагретых тел в вакууме, например, резистивных испарителей, применяемых в вакуумной технологии для получения пленочных покрыт1й.

Имеются объекты, находящиеся в вакууме, которые нагревают, пропуская через них ток накала, причем температура их должна поддерживаться постоянной с высокой точностью (например, реэистивные испарители). Однако применение контактных датчиков температуры на этих объектах не всегда возможно. В таких случаях стабилизируют температуру косвенным образом, например, с помощью стабили затора тока накала.

Известно устройство для стабилизации температуры резистивных испа|лггелей, имеющее источник тока накала испарителя l.

В вакуумной технологии получения пл -ночных покрытий широко пркменяйтся резистивные испарители. Температура испарения (особенно для сложных

веществ) цолжна стабилизироваться с погреипюстью не более 1%. Устройства для стабилизации температурь, стабилизирующие ток накала, часто не соответствуют этим требованиям, особенно в динамике, так как имеют место различные возмущающие воздействия на температуру непосредственно в испарителе (погрешность установки испарителя, изменение количества испаряемого вещества и т. п.).

Целью изобретения является повышение точности устройства.

Эта цель достигается тем, что содержит устройство источник постоянного напряжения и металлический электрод, подключенный к положительному полюсу источника постоянного напряжения, отрицательный полюс которого подЧи1ючен к резистивному испарителю, являюшемусн вторым электродом.

На чертеже изображена функциональная схема предлагаемоI-o устройства ля стабилиза1дии температуры резистивioro испарителя.