Как известно, иопытание шариков на эллиптичность производится измерением их диаметров с помощью микрометра, оптиметра и т. п. приборов. Однако, величина эллиптичности редко превышает несколько десятых микрона и; эти приборы оказываются -недостаточйо чувствительными. Кроме тога результаты измерения сильно искажаются из-за наличия случайных пылинок или забоин на испытуемой поверхности, а также вследствие температурных воздействий.
Предметом изобретения является способ измерения эллиптичности шариков путём сравнения их поверхностей с эталойньши на интерферометре сравнения типа Тваймана.
Оптическая схема интерферометра для измерения эллипггичности шариков представлена на чертеже, где обоЗначенЫ: Q - ла-мпа накаливания, L-конденсо.рная линза, Т - диа фрагма с круглым о-тверстием, К - плоское зеркало, Oi и О - аст;роноМ;И1ческие объективы, Sai, 822, 823 и Sii, 842, 843 - плоские зеркала. La, L4 и L2, U-склеенные линзы, М - две склеенные плоокопараллельные пластины с полупрозрачным слоем серебра .между НИми, R - испытуемый шарик, R- и R4 -сферические зеркала. О - окуляр.
ВЫХОДЯЩИЙ из объектива Oi параллельный пучок лучей разделяется пластинкой М -на две части. Из каждой части вырезается четыре узких пучка Ni, No, N3, N и Ni, N2, Ns, N4, причём пучки N2, N4, Na, и N4 показаны на чертеже, а оси остальных пучков лежат в плоскости, перпендикулярной чертежу. После отражения от сферическк.к поверхностей .все пучки идут обратно по прежнему направлению и собираю1-ся объективом Ог в фокальЕой ллоокооти окуляра- О . Установку собирают так, чтобы пучок NI интерферировал с пучком Ni, пучок Ni - с пучком N2 и т. д.
ЧетЫре инггерфереНЦИонные картины наблюдают на поверхности объектива Oi непосредственно глазом (убрав окуляр О и помести в глаз на его место) с помощью телескопической лупы.
Юстировкой интерферометра добиваются того, чтобы при испытании заведомо идеального шарика
