Способ электроискрового легирования Советский патент 1978 года по МПК B23P1/18 

I

Изобретение относится к электрическим методам обработки материалов и аредназначено для электроискрового легирования изделий из токопроводящих материалов.

Известно, что электроискровые легированные покрытия обладают повышенной шероховатостью, поэтому их подвергают шлифованию, например электроискровому, при котором меняют полярность источника технологического тока I|.

Однако, во-первых, повторную обработку легированной поверхности проводят после застываиия и кристаллизации иаиесеииого слоя материала, что требует повышения мощности источиика «шлифующего тока и снижает качество «шлифованной поверхности; во-вторых, повторный проход инструмента вдоль поверхности требует дополнительных затрат времени.

Целью изобретения является снижение расхода электроэнергии и повышение качества поверхности.

Достигается она тем, что в процессе обработки электроискровое легирование совмещают с электроискровым шлифованием путем подачи чередующихся во времени импульсов разной полярности; причем амплитудй прямого импульса (1) и обратного импульса () выбирают в соотношении

г- fc V

Во времи легирования электрододержателю сообщают вращение и подают на него и

деталь импульсное напряжение. Соприкосновение электродов с деталью сопровожддется прохождением импульсов тока, направление и амплитуда которых обусловлены приложенным напряжением.

Через место контакта проходит первоначальный импульс тока, сопровождающийся переносом материала с электродов на деталь. Перенесенный материал располагается на поверхности детали отдельными микрообъемами. Высота микрообъемо.. с-одной

стороны определяет толщину наносимого слоя, с другой - шероховатость поверхности. Материал с электрода на деталь переносится, как правило, в жидкой фазе. Соприкасаясь с холодной поверхностью, материал охлаждается. Переохлаждение расплава сопровождается кристаллизацией.

При легировании данным способом импульс и лифующего тока подается в тот момент, когда материал еще находится в жидкой фазе. В эгон случае, с одной стороны, не затрачивается энергия на плавление удаляемой части материала, с другой - улучшаются условия распределения электродом рас плавленных масс материала по поверхности обрабатываемой детали.

Отношение амплитуд прямого и обратного импульсов тока выбирается из следуяэщих соображений. Чем выше требования к шероховатости поверхности, тем больше материала приходятся убирать споверхности детали импульсами обратной полярности. Экспериментами установлено, что уже при отношении I ; 0,5 шероховатость, полученная в результате шлифоаанйя, соизмерима с шероховатостью, полученной при легировании, В случае высокяк требований к чистоте поверхкостй ведут процесс при отношении амплмтуд, близком к 1 : 0,4. При необходимости получения яокрытий достаточной толщины бег предъявления жестких требований к чистоте поверхности, процесс ведут с соотношением амплитуд в пределах I :0,1 -0,2.

Предварительные испытания показали, что предлагаемый способ позволяет на 20 - 30% снизить расход и повысить качество обработки {снижение высоты неровностей профиля покрытия-шероховатости) в 1Л - ,25 раза по сравнению с известными способами.

Формула изобретения

Способ элентроискрового легирования импульсами тоКа, протекающими через векровой промежуток, отличающийся гем, что с целью снижения расхода электрбэнергии и повышения качества легированно поверхности, процесс ведут чередуюшийися импульсами прямой и обратной поляр юе ти при отношении амплитуды импульсда-прямой полярности к амплитуде импульсов обратной полярности в пределах от 2,5 до 10.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

I. Авторское свидетельство СССР № 75592, кл. В 23 Р 1/18, 1948.