Установка для химического никелирования Советский патент 1980 года по МПК C25D17/00 C23C3/00 

(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО НИ|ЕЛЙРОВАНЙЯ

fefj ; . f « Поставленная цепь дсютнгается тем, что установка снабжена системой осаждения катода и дна ванны. При этом катод вьшолнен в виде трубки и -образной формы, нодключенной к системе охлаждения, и выполнением дна ванны двойным, для образования замкнутой полости, соединенной с системой охлаждения. На чертеже изображена установка для химического никелирования, в которой емкость 1 состоит из корпуса 2, изготовленного из углеродистой стали и рабочей ванны 3, изготовленной из нержавеющей стали и помещенной в корпус 2 емкости 1, между стенками которых имеется заполненное жидкостью пространство, образующее водяную рубашку 4 В стенке корпуса 2 вмонт фовано нагревательное устройство 5, состоящее из ряда нагревательных элементов, и снабженное регулятором температуры (на чертеже не показан). Нагрев рабочего раствора осуществляют через водя)1ую рубашку 4 во избе жание его перегрева. Корпус рабочей вшщы 3, являющш 1ся одновременно анодом, а также трубчатый медный катод б U -образной формы, помещенный в рабочий раствор, хлорсеребряный электрод 7 сравне гия, связанные с потенциостатичес КИМ устройст вом 8, в совокупности представляют электродную С1к;тему схемы анодной защиты установки для химического -никелир вания. Внутри катода 6 циркулирует охлажда ющая жидкость, подача которой регул№руется, вентилем 9, . Дно рабочей ванны 3 выполнено двойным с образованием полости 10, к которой циркулирует охлаждающая внутреннюю поверхность дна ванны жидкость, например вода. На выходных штуцерах катода 6 и анны 3 установлены термометры (на чертеже не показаны) по показателям ко торых определяют среднюю температуру поверхности ; катода 6 и дна ванны 3. Установка для химического никелиров ния работает следующим образом. Специально приготовленный рабочий раствор подают в рабочую ванну 3 с по мощью насоса (на чертеже не показан). По эаполпенки ванны 3 необходимым количеством раствора, ее подключают к схеме анодной защиты, состо$пцей из по тешшостатического устройства 8, корпус са рабочей ванны 3 в качестве анода, а также установлошых в специальные гне: да катода 6 и электрода 7 сравнения. На корпус ванны 3 подают защитный потенциал, равный 600 мВ, который устанавлгшается. и авток-итически поддерживается в процессе работы с помощью потекциостатпческого устройства 8. После того как будет налажена устойчивая работа системы анодной защиты, включают нагревательное устройство 5 для нагрева рабочей ванны 3, а через катод 6, выполненный в виде трубки и -образной формы и через полость 10, o6pa3OJ6aHHyio дво,йными стенками дна рабочей ванны 3 начшгает Ш1ркулировать охлаждающая жидкость, например вода. Охлаждение наружной поверхности катода 6 и внутренней поверхности дна ванны 3 ос тдествляют до температуры, способствующей поддержанию внутренней поверхности ванны в устойчивом пассивном состоянии, т.е. до 40-60 С на протяжении всего технологического процесса химического никел фования. Поддержание заданного температурного режима осуществляют уменьшением или увеличением потока подаваемой воды. По завершени нагрева раствора хи мического никелирования до 82-96 С в рабочую, ванну 3 помешают обрабатываемые детали для нанесения покрытия. После окончания процесса химического никелирования, покрываемые детали удаляют из рабочей ванны 3, нагреватель ное устройство 5 отключают, рабочий раствор охлаждают до 40-45°С, после чего отключают электродную систему схемы анодной зашиты. Подачу охлаждающей жидкости прекращают, рабочий раствор сливают, а рабочую ванну 3 промываюТо Таким образом установка для химического никелирования готова к повторному использованию. В результате применения трубчатого и -образногб катода в схеме анодной зашиты и одновременного охлаждения поверхности катода и дна рабочей ванны, достигается высокая стабильность работы электродной схемы системы анодной защт1- ты и надежная зашита ванны от непроизводительного осаждения покрытия на ее поверхности без нарушения тепловогю баланса процесса. Покрытия, получаемые в установке для химического никелирования, отличаются хорошим блеском, отсутствием щерохова- тости и высокой прочностью сцепления .с основой при изгибе, Г1овышение ка чества покрытия достигается за счет существенного уменьшения в объеме раст -вора каталитически активных: частиц, Таким образом установка улучшает технико-экономические показатели про цесса за счет его интенсификащиц непре рывного осаждения покрытия, корректиро вания состава раствора в горячем состо янии, повышения качества получаемого покрытия, снижения затрат на его эксплуатацию. Формула изобретения 1. Установка для химического никел рования, содержащая металлическую ван- , соединенную с потенциостат ческим устройством, катод, электрод сравнения и нагревательное устройство, отличающаяся тем, что, с целью повышения производительности и улучшения качества покрытия за счет предотвращения осаждения по1фытия на стенках и дне ванны, она системой охлаждения катода и дна ванны, 2,Установка по п, 1, отличающаяся тем, что катод выполнен в виде трубки и -образной формы, подключенной к системе охлаждения, 3,Установка по п, 1, отличающаяся тем, что дно ванны выполнено двойным для образования замкнутой полости, соединенной с систе- 1ой охлаждения. Источники инфо{эмации, принятые во внимание при экспертизе 1,Авторское свидетельство СССР № 258798, кл. 23 С 3/00. 2.Патент ФРГ № 192О294, кл. С 23 С 3/02, 1969.