Устройство для получения пленок в вакууме Советский патент 1980 года по МПК C30B23/00 

(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ

1

Изобретение относится к устройствам для получения.пленок и может быть использовано в полупроводниковой технике и других отраслях,связанных с получением и использованием пленок, разлагающихся при испарении материалов.

Известны устройства для получения пленок, содержащие вакуумную камеру, -подложку и тигель-испаритель, заполненный материалом стехиометрического состава, с подогревателем l Подобные устройства позволяют получать пленку с определенными свойствами и свойствами элементарных материалов сложных составов, не разлагающихся при испарении,

Наиболее близким к предложенному является устройство, включающее вакуумную камеру, установленный, внутри нее тигель-испаритель в виде емкости с отверстием для загрузки испаряемого материала, размещенный в графитовом стакане и снабженной нагревателем 2, Это устройство не обеспечивает получения пленок однородных по составу многокомпонент.ных разлагающихся соединений.

, Цель изобретения - получение более однородных по составу пленок многокомпонентных разлагающихся соединений.

С этой целью предложено емкость выполнять в виде цилиндра, имеющего в центре по всей высоте цилиндрическую выемку, в нижней части которой имеется капиллярное отверстие

10 и объем которой меньше объема емкости в 10-30 раз,- а стакан преимущественно имеет отверстие в центре, диаметр которого равен диаметру выемки .

15

На чертеже схематически изображено устройство в разрезе, Устройство включает вакуумную камеру 1, внутри которой установлен стакан 2, снабженный нагревателем

20 3. Тигель-испаритель выполнен в виде цилиндрической емкости 4, имеющей в центре по всей высоте цилиндрическую выемку 5, в нижней части которой имеется капилярное отверстие б, Над

25 цилиндром 4 в стакане 2.установлена крыщка 7 с отверстием по цилиндру 8, диаметр которого равен диаметру выемки. Над крышкой установлена .обрабатываемая подложка 9, Для загрузки

30 исходного материала в цилиндрической

емкости 4 имеется отверстие и шлиф 10.

Устройство работает следующим образом.

Для получения пленок многокомпонентных разлагакяцихся соединений стехиометрического состава в выемку 5 перед испарением помещают материал, по составу смещенный в сторону избытка труднолетучего компонента этих соединений. При испарении такого соединения в первый момент испаряются компоненты соединения в отношения, соответствующем стехиометрическому составу пленок (затем будет испарятся материал, обедненный легколетучими компонентами).Чтобы сохранить этот состав постоянным на все время испарения, необходимо подпитывать его материалом стехиометрического состава, который помещают в цилиндрическую емкость 4.

При этом перед испарением количества соответствующих материалов таковы, что после расплавления уровни в емкости 4 и выемке 5 сравниваются и начинается перетекание материала из емкости 4 по капилярному отверстию 6. Испаряемый материал конденсируется на подложке 9.

За счёт постоянной подпитки испаряемого материала получают пленки с идентичным составом и свойствами. В результате высокой однородности по составу получены пленки TcjC термоЭДС о(. 260 мкВ/град, что выше в сравнении

с исходным материалом,

у которого d 170 мкВ/град.

Формула изобретения

с отверстием для загрузки испаряемого материала, размещенной в графитовом стакане и снабженной нагревателем, отличающееся тем, что, с целью получения более однородных по составу пленок, многогокомпонентных и разлагающихся соединений, емкость выполнена в виде цилиндра, имеющего в центре по всей высоте цилиндрическую выемку, в нижней части которой имеется капиллярное отверстие и объем которой меньш объема емкости в 10-30 раз.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

2.Технология тонких пленок. Под ред. Майссела. т.1. М., Совет|:кое радио, 1977, с. 90-92 (прототип) .