Устройство для контроля фотошаблонов Советский патент 1981 года по МПК H05K3/00 

I

Изобретение относится к технологии радиоэлектроники и предназначено для контроля позиционной точности топологии

фотошаблонов двусторонних и МНО1Х СЛОЙных плат.

Известно устройство для контроля, в кагором позиционная точность контролируется путем совмещения по единым технологическим базам топологии контролируемого объекта с контрольной сеткой, представляющей соёой прозрачный шаблон, на поверхности которого тонкими линиями нанесено изображение координатной сетки, с принятым шагом. Позиционная точносугь топологии в -ЭТОМ случае определяется как точность совмещения перекрестия кон трольной сетки с центром контактной площадки Г1

Однако производительность контроля по сетке невысока из-за необхоЕЁимюсти производит замеры на измерительных, микроскопах.

Наиболее близким по достигаемому э4ь фекту является устройство контроля, в котором для контроля позиционной точности элементов готовых фотошаблонов исполь- зуется контрольный шаблон, расположенный в рамке с базовыми штифтами и представляющий собой пластину с контрольными отверстиями, центры которых находятся в местах расположения контролируемых элементов, например, монтажных и переходных отверстий. Принцип контроля позиционной точности по такому шаблону сос10тоит в совмещении контролируемого фотошаблона с шаблоном устройства по единым технологическим базам (базовым штифтам) и контроле наличия или отсутствия просвета между краем контрольного отверстия

15 и краем контролируемой контактной площадки фотошаблона 2 .

Малая производительность процесса контроля в этом устройстве обусловлена тем, что оценка наличия илн отсутствия

М просвета затруднена из-за парадакса, возникающего вследствие того, что шаблон имеет определенную толщину. При испопьзовании талого шаблона требуется при 38 контроле каждой контактной плошадки располагать шаблон строго перпендикулярно . лучу зрения. Цепь изобретения - повышение производительности процесса контроля. Цель достигается тем, что в устройстве для контроля фотошаблонов, содержа:щем рамку с базовыми штифтами и шаблон из прозрачного материала с контрольными метками, .последние выполнены в виде нанесенных на поверхности шаблона площадок, расположение и конфигурация которых соответствуют расположению и конфигурации контролируемых площадок фотошаблона причем размеры площадок шаблона вь1Прл- иены с отклонением от номинальных размеров контролируемых площадок фотошаблона на величину допуска смещения. На фиг. 1 изображено устройство, разрез; на фиг. 2 - то же, с шаблоном для контроля негативных фотошаблонов, вид сверху; на фиг. 3 - шаблон для контроля позитивных фотошаблонов; на фиг. 4 пример определения годного фотошаблона; на (Ьиг. 5 - пример определения бракованного фотошаблона. Устройство для контроля фотошаблонов состоит из рамки 1, в которой, в случае контроля фотошаблонов негативного изображения, закреплен прозрачный контрольный шаблон 2, на одной из сторондкоторого имеются непрозрачные контрольные площадки Э-, расположение которых соответствует расположению площадок контролируемого фотошаблона и размеры которых уменьшены относительно размеров площадок контролируемого фотошаблона на величину допуска смещения от номинального расположения. Относительно контрольных площадок 3 шаблона установлены штифты 4 для базирования контролируемого фотошаблона. В случае контроля фотошаблонов позитивного изображения используется контрольный шаблон (фиг. 3), на одной из сто рон которого имеются прозрачные контрол ные площадки 5, расположение которых 79 аналогично расположению плошадок контролируемого фотошаблона, и размеры которых увеличены относительно размеров площадок контролируемого фотошаблона на величину допуска смешения от номинального расположения. Фотошаблон устанавливают на контрольный шаблон-2 так, чтобы его фотоэмульсионный слой соприкасался с той поверхностью контрольного шаблона 2, на которой нанесены контрольные площадки 3. Годность контролируемых фотошаблонов определяется по наличию световой щели между контрольными площадками 3 контрольного шаблона 2 и площадками контролируемого фотошаблона (фиг. 4). Брак контролируемых фотошаблонов определяется по отсутствию на любом участке световой щели между контрольными площадками 3 контрольного шаблона 2 и площадками контролируемого фотошаблона (фиг. 5). Формула изобретения Устройство для контроля фотошаблонов, содержащее рамку с базовыми штифтами и шаблон из прозрачного материала с контрольными метками, отличающее- с я тем, что, с целью повышения производительности процесса контроля, контрольные метки шаблона выполнены в виде нанесенных на поверхности шаблона площадок, .расположение и конфигурация которых соответствует расположению и конфигурации контролируемых площадок фотошаблона, причем размеры площадок шаблона выполнены с отклонением от номинальных размеров контролируемых площадок фотошаблона на величину допуска смещения. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1.Медведев А. М., Контроль и испытания плат печатного монтажа. М., 1975, с. 64. 2.Там же, с. 65. /1-А

.Поёерхноетб HOf/777noMf f f п

J ffUffffff.ff

.Г

Л

1

I

оооооооо оооооооо о о о о о о о оооооооо оооооооо

fPui. 3

(Pus.2

Фиг.