Фотоотверждаемая композиция для флексографских фотополимерных печатных форм Советский патент 1983 года по МПК B41N1/00 G03C1/68 

Изобретение относится к фото- I отвержденным композшлиям и может быть использовано в полиграфической промышленности для .изготовления фотополимерньох печатных форм флексографской печати. .

Известна фотоотверждаемая композиция для флексографской печати на основе ненасыщенного полиэфира til.

Печатная форма, из готовлен Н31Я на основе данной композиции, проявляется органическими растворителями и имеет небольшое относительное удлинение.

Наиболее близкой к предлагаемой является фотоотверждаемая композиция , содержащая, мае.ч.: ненасыщенный полиэфир 100 у ненасыщенный мономер 5-60J фотоинициатор 0,00110; ингибитор 0., 005-2.

Однако композиция характеризуется недостаточной стойкостью к спиртоводньм растворам и низким относительным удлинением, что приводит к искажениям при печати и не позволяет ис- пользовать эти формы на печатных ма- шинах с малым диаметром формного вала.

Цель изобретения - повышение стойкости флексографских фотополимерных i

печатных форм к действию спирто-водных растворов и увеличение относительного удлинения форли.

с Поставленная цель достигается тем,, . что фотоотверждаемая композиция включающая ненаснаденный полиэфир, не-; насыщенный монсмер, фотоинициатор и ингибитор, в качестве ненасыщенного

-д полиэфира содержит кислый нёнасЕдценНый ПОЛИЭФИР общей форялулы

О

О

. KO-C-RrC-O-RfC-Ri-C-OH 1

ен.

Н,

15

гЗе Rf-CK iH-,,-c-atia-; ЯГ-(сНг-«;.н:-о)л-,

СНэ

20 - (CHf-CH-CH.i-C CK-CH4)lj-3-:

СЖ СНэ . -(CHrCH 5jf-CH)ji-0-,

25

он - . .

и о . - снгсн - о-с-Ссн);р&- о снг-сн2-о - р

30 п 11-33/

при следующем соотношении компонентов , мае.ч.:

Кислый ненасыщенный полиэфир100 Ненасыщенный

мономер15-40

Фотоинициатор0,5-2,0

Ингибитор0,01-0,50

Предлагаемая композиция позволяет получать флексографские фотополимерные печатные формы, проявляемые водньоми растворами солей щелочных металлов, устойчивые к действию растворителей спирто-водных красок (весовое набухание в смеси этанол : вода 40:60 за 24 ч экспозиции 4-8%} и имеющие высокое относительное удлинение UOO-150% ;.

В табл. 1 приведены составы композиции по примерам.

Таблица

Кислый ненасыщенный полиэфир, где R.-tH CH-;R2- CH2-CH2-0-E-(tH,U-Li-СН2-СН2-0-, R -CH CH Rg -CCHj-CHr 0 CH,j :CH-i R2 -4CH2 CH-0)f,-T CHa CH2 R -C-CH-il 2 -(CH2-CH-CH2- C CH-CH)-0-,n 20 CNСНз Стирол Метиловый эфир метакрилOBо.й кислоты Бутиловый эфир метакриловой кислоты Бензоин Метиловый эфир бензоина Гидрохинон Бутилгидрохинон Кислый ненасыщенный полиэфир формулы (1) получают рутем взаимодействия 2 моль циклического ангищзида ненасыщенной дикарбоновой кислоты с 1 моль полиола с первичньгми гвдрокси ...„„„„V- - . ными группами У/2 при 80-140 с в течение 4-10 ч до достижения кислотного числа 28-56. В качестве циклических ангидридов ненасыщенных дикарбоновых кислот используют: малеиновый, итаконовый и цитраноновый ангидриды, в качестве полиольной компоненты используют полиэфиры, олигодиены и др. полимеры, содержащие концевые гидроксильные группы 2, и имеющие мол.м. 11002400. Композиция содержит в качестве ненасыщенного мономера стирол и его производные, а также их смесь с акри ловой , метакриловой кислотами и их эфирами; в качестве фотоинициатора 24--Пh 11 n 20 n 33 100 10 20 5 0,5 1,.4 0,01ОД 0,2 .бензоин и его эфиры, бензофенон, антрахинон и его производные; в.качестве ингибитора гидрохинон и его производные. Кислый ненасыщенный полиэфир смешивают в реакторе-смесителе при комнатной температуре с ненасыщенными MOHCMepajiiH, фотоинициатором и ингибитором до получения гомогенной системы. Фотоотверждаемую композицию отстаивают в течение 24 ч для удаления пузырьков воздуха, заливают в копировальную раму и экспонируют с двух сторон лампами ЛУФ-80 на расстоянии 10 CNi в течение 10-15 мин, причем с одной стороны через негатив. Остатки неотвердившейся композиции смывают 3%-Hbw водньм раствором кальцинированной ооды. Полученную форму подвергают дополнительной сяиивке при доэкспозиции в течение 7 мин.

Относительное удлинение, % 40

ВесЬвое набухание в смеси

э.танрл : вода -.40:60

за 24 ч экспозиции, % 15 Предлагаемая фотоотверждаемая ком позиция позволяет, получить флексограф ,ские фотополимерные печатные формы для печати спирто-врдньми красками, способные к проявлению водными растворами солей щелочных металлов, и пригодные для печати с формных валов малого диаметра, что позволяет отказаться от многостадийного/ дорогостоящего производства флексографских резиновых печатных фррм и, таким образом, снизить себестоимость продукции и повысить ее качество. Формула изобретения -Фотоотверждаемая композиций для флексографских фотополимерных печатных форм, включающая ненасыщенный по лиэфир, ненасыщенный монсмер, фотоинициатор и ингибитор, отличаю щаяся тем, что, с целью повышения стойкости флексографских фотопол мерных печатных форм к действию спир то-водных растворов и увеличения относительного удлинения формы, в качестве ненасыщенного полиэфира компо зиция содержит кислый ненасыщенный п лиэфир общей формулы

Результаты лабораторных испытаний представлены в табл. 2.

Таблица 2

120

110 120

150 00 О О и ИII И НО-С-Р -t-O-R -C-R- С-ОН, СН СН- , -t-CHj--, -ICHj-CH-O)-, -(СН -СН-СН - С СН-СН2)„-0-. (CHj , {CHj-UKj-O -с - (СН2)4-С-о -СН2-СНг-0-; п 11-33, ри следующем соотношении компонентов, ае.ч.:. Кислый ненасыщенный полиэфир100 Ненасыщенный мономер15-40 фотоинициатор0,5-2,0 Ингибитор0,01-0,50 Источники информации, ринятые во внимание при экспертизе 1.Патент ОНА 4038084, л. G 03 С 1/68, 1977. 2.Патент США № 3556791, л. G 03 С 7/00, 1971.