СПОСОБ ВАКУУМНОГО КОНДЕНСАЦИОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ Российский патент 1995 года по МПК C23C14/30 

Описание патента на изобретение RU2033475C1

Изобретение относится к металлургии, а более конкретно к получению защитных и декоративных покрытий, и может найти применение практически во всех отраслях машиностроения и металлообработки.

Известен способ конденсационного нанесения покрытий в вакууме, по которому создают дуговой разряд низкого давления между катодом и коаксиально ему расположенным анодом, распыляют катод, создают поток пара и конденсируют покрытие на подложке.

Недостаток данного способа состоит в наличии в потоке пара микрокапель величиной в десятки микронов, которые, осаждаясь на подложке, ухудшают качество покрытия (в частности, снижают адгезию и негативно влияют на электрофизические и оптические свойства напыленного слоя).

Наиболее близким к изобретению является способ вакуумного конденсационного нанесения покрытий, по которому создают поток пара путем бомбардировки распыляемой мишени сканирующим по ее поверхности электронным пучком, направляют поток пара на подложку и конденсируют покрытие на подложке. За счет непрерывного сканирования электронного пучка по поверхности мишени последняя поддерживается в расплавленном состоянии.

Этот cпоcоб, принятый в качестве прототипа изобретения, также не свободен от недостатков. Так, для него характерна невысокая эффективность испарения, особенно при использовании водоохлаждаемой мишени.

Изобретение позволяет устранить указанный недостаток прототипа, повысить эффективность процесса за счет снижения энергозатрат.

Указанная задача решается благодаря тому, что по способу, по которому создают поток пара путем бомбардировки распыляемой мишени сканирующим по ее поверхности электронным пучком, направляют поток пара на подложку и конденсируют покрытие на подложке, осуществляют фиксацию электронного пучка в каждой из бомбардируемых точек поверхности распыляемой мишени в течение времени t, определяемого по формуле:
K <t< где L, δ C, Тпл и а соответственно удельная теплота испарения, глубина пробега электронов, удельная теплоемкость, температура плавления и коэффициент температуропроводности материала мишени;
Uэ и Рэ соответственно ускоряющее напряжение и поверхностная плотность мощ- ности электронного пучка; К 2,35 ˙ 10-15 коэффициент пропорциональности.

Фиксирование электронного пучка в каждой из точек поверхности распыляемой мишени при соблюдении зависимости (1) между свойствами материала мишени, энергетическими параметрами электронного пучка и временем фиксации приводит к взрывному (близкому к сублимационному характеру эмиссии материала мишенью. Указанный характер испарения качественно отличен от такового в прототипе.

Взрывное испарение материала происходит в малом объеме, где имеют место торможение электронов и выделение энергии электронного пучка. При этом более 60% его энергии расходуется на испарение материала мишени, а тепловые потери на нагрев всей мишени не превышают 5.15%
При реализации способов нанесения покрытий, принятых в качестве аналога и прототипа, составы конденсата и испаряемого сплава существенно различаются. Конденсат обогащается элементом сплава с более высоким парциальным давлением паров. В результате избирательного испарения формируется покрытие со слоистой структурой. Для выравнивания химического состава и изменения структуры слоя приходится применять дополнительную операцию (высокотемпературный отжиг).

Использование изобретения позволяет, с одной стороны, исключить образование крупнокапельной фазы, что объясняется близким к сублимационному характером эмиссии напыляемого материала, а с другой стороны максимально приблизить состав конденсированного покрытия к составу материала распыляемой мишени.

На чертеже представлена схема для реализации способа.

С помощью источника 1 создается электронный пучок 2, который направляется на поверхность распыляемой мишени 3. Посредством отклоняющей системы 4 осуществляются сканирование электронного пучка по поверхности распыляемой мишени и его фиксирование в отдельных ее точках на время t, заданное зависимостью (1). Кратковременная интенсивная бомбардировка микроучастка распыляемой мишени (точка 5) в течение указанного времени приводит к взрывному (близкому к сублимационному) испарению микрообъема материала. Образовавшийся паровой поток 6 направляется на подложку 7, где производится конденсация с образованием покрытия. Электронный пучок 2 посредством отклоняющей системы 4 перемещается в другую точку (8) поверхности распыляемой мишени, и элементарный цикл повторяется до образования покрытия требуемой толщины на подлежащей напылению поверхности подложки.

Возможность осуществления изобретения подтверждается примерами его практической реализации.

П р и м е р 1. Наносили покрытие с использованием признаков способа, включенных в формулу изобретения, и способа-прототипа. Материал распыляемой мишени медь. Результаты испытаний сведены в таблицу.

Таким образом, эффективность испарения повысилась почти в 8 раз.

П р и м е р 2. Параметры способа такие же, как в примере 1, однако время t выбрано равным 12 мкс. При этом испарение практически прекращалось ввиду малости времени фиксирования: энергии, подводимой электронами, оказалось недостаточно для обеспечения взрывного характера испарения материала.

Похожие патенты RU2033475C1

название год авторы номер документа
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФУЛЛЕРЕНСОДЕРЖАЩЕЙ ПЛЕНКИ НА ПОДЛОЖКЕ 2013
  • Семенов Александр Петрович
  • Семенова Ирина Александровна
RU2532742C1
СПОСОБ РЕГИСТРАЦИИ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ПЛОТНОСТИ ПОТОКА ЭЛЕКТРОНОВ В СЕЧЕНИИ ИМПУЛЬСНОГО СИЛЬНОТОЧНОГО ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА 1991
  • Богданов Л.Ю.
  • Соминский Г.Г.
RU2006879C1
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ 2001
  • Ремнев Г.Е.
  • Исаков И.Ф.
  • Тарбоков В.А.
  • Макеев В.А.
RU2205893C2
Способ вакуумного нанесения тонких пленок 1989
  • Закутаев Александр Николаевич
  • Исаков Иван Фалалеевич
  • Ремнев Геннадий Ефимович
SU1708919A1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ГРАНУЛ 1997
  • Силин М.Б.
  • Жаров М.В.
RU2117556C1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФЕРРОМАГНИТНОЙ ПЛЕНКИ ИЗ НАНОКЛАСТЕРОВ СИЛИЦИДОВ НА ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЕВОЙ ПОДЛОЖКИ 2010
  • Битюцкая Лариса Александровна
  • Лазарев Александр Петрович
  • Сигов Александр Сергеевич
  • Богатиков Евгений Васильевич
  • Рубинштейн Владимир Михайлович
  • Дикарев Юрий Иванович
  • Абрамов Александр Владимирович
RU2458181C2
СПОСОБ ОЦЕНКИ УРОВНЯ ПОДГОТОВКИ ОПЕРАТОРА 1991
  • Голикова О.Г.
  • Городецкий И.Г.
  • Садов В.А.
RU2038043C1
СПОСОБ ЛАЗЕРНО-ТЕРМОВАКУУМНОГО КОНДЕНСАЦИОННОГО НАПЫЛЕНИЯ ПОКРЫТИЯ 1999
  • Будрина Г.В.
  • Мордасов В.И.
  • Мурзин С.П.
  • Сазонникова Н.А.
RU2170284C2
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОТЛИВОК ИЗ ТУГОПЛАВКИХ ХИМИЧЕСКИ АКТИВНЫХ СПЛАВОВ 1990
  • Надежин А.М.
  • Бибиков Е.Л.
  • Полуэктов И.А.
  • Ходоровский Г.Л.
RU1777286C
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАКЛЕПОК ИЗ АРМИРОВАННОГО ПОЛИМЕРНОГО МАТЕРИАЛА 1992
  • Новиков В.А.
  • Шишкин В.А.
  • Козловский А.В.
RU2010662C1

Иллюстрации к изобретению RU 2 033 475 C1

Реферат патента 1995 года СПОСОБ ВАКУУМНОГО КОНДЕНСАЦИОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ

Использование: для получения защитных и декоративных покрытий различного назначения в области металлургии. Сущность изобретения: способ позволяет повысить эффективность испарения за счет сокращения удельных энергозатрат. Для этого, создавая поток пара путем бомбардировки распыляемой мишени сканирующим по ее поверхности электронным пучком и направляя поток пара на подложку с последующей его конденсацией и образованием покрытия, осуществляют фиксацию электронного пучка в каждом из обрабатываемых точек мишени в течение времени t, задаваемого зависимостью где L, σ, c, Tпл и a - соответственно удельная теплота испарения, глубина пробега электронов, удельная теплоемкость, температура плавления и коэффициент температуропроводности материала мишени: Uэ и Pэ - соответственно ускоряющее напряжение и поверхностная плотность мощности электронного пучка; K=2,35·10-15 - коэффициент пропорциональности. 1 табл., 1 ил.

Формула изобретения RU 2 033 475 C1

СПОСОБ ВАКУУМНОГО КОНДЕНСАЦИОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ, при котором создают поток пара путем бомбардировки распыляемой мишени сканирующим по ее поверхности электронным пучком, направляют поток пара на подложку и конденсируют покрытие на подложке, отличающийся тем, что осуществляют фиксацию электронного пучка в каждой из бомбордируемых точек поверхности распыляемой мишени в течение времени t, определяемого по формуле

где L, δ C, Tпл, a соответственно удельная теплота испарения, глубина пробега электронов, удельная теплоемкость, температура плавления и коэффициент температуропроводности материала распыляемой мишени,
Vэ, Pэ соответственно ускоряющее напряжение и поверхностная плотность мощности электронного пучка;
K 2,35 · 10-15 коэффициент пропорциональности.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 1995 года RU2033475C1

Шиллер З
и др
Электронно-лучевая технология
М.: Энергия, 1980, с.203.

RU 2 033 475 C1

Авторы

Бобров Г.В.

Митин Б.С.

Поляков В.А.

Юшкин А.В.

Барвинок В.А.

Богданович В.И.

Даты

1995-04-20Публикация

1992-12-10Подача