СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МАГНИТООПТИЧЕСКИХ СТРУКТУР Российский патент 1995 года по МПК C30B19/02 C30B19/12 C30B29/28 

Описание патента на изобретение RU2038432C1

Изобретение относится к технологии получения эпитаксиальных слоев феррит-граната и может быть использовано в магнитооптике при создании управляемых транспортеров, изоляторов и других устройств с высокими магнитооптическими параметрами.

Известен способ получения магнитооптических структур феррит-граната (ФГС), включающий наращивание Bi-содержащего слоя из переохлажденного раствора-расплава на подложку из кальций-ниобий-галлиевого граната (КНГГ).

Недостатком данного способа получения феррит-гранатовых структур является низкое качество Bi-содержащего слоя.

Кальций-ниобий-галлиевый гранат имеет параметр элементарной ячейки в интервале 12,503-12,506 в зависимости от содержания компонент. Такой параметр ячейки позволяет ввести в осаждаемую пленку необходимое для магнитооптических применений количество висмута.

Однако кристалл КНГГ имеет катионный дефицит в октаэдрических позициях кристаллографической решетки, что является причиной нарушения морфологии поверхности подложки. Поэтому при взаимодействии с агрессивными свинец- и висмутсодержащими раствор-расплавами при выращивании пленки подложка либо разрыхляется, либо осаждающаяся пленка кристаллизуется с дефектами в виде трещин.

Предлагаемый способ получения магнитооптических структур включает жидкофазное осаждение Bi-содержащей эпитаксиальной пленки из переохлажденного раствора-расплава на подложку из кальций-ниобий-галлиевого граната, причем перед эпитаксиальным наращиванием на подложку КНГГ напылением наносят слой кремния толщиной 0,1-0,2 мкм, после чего ее отжигают при 900-910оС в течение 5-6 ч.

При этом происходит диффузия кремния в приповерхностную область подложки и перераспределение ионов в кристаллической решетке, в результате чего снижается катионный дефицит кристалла КНГГ и улучшается морфология поверхности подложки. Магнитооптические структуры, полученные предлагаемым способом, не имеют трещин и обладают заданными магнитооптическими характеристиками.

Толщина слоя кремния подбиралась опытным путем. В результате эксперимента определено, что пленка кремния указанной толщины имеет хорошую адгезию к поверхности подложки. Нижний предел толщины определяется равномерностью (без разрывов) осаждаемого слоя. Верхний предел толщины определен по технологическим соображениям: чтобы не допустить снижение качества поверхности подложки за счет длительного ее разогрева время осаждения кремниевого слоя не должно превышать 2 ч, что соответствует 0,2 мкм напыленного слоя.

Температура и время отжига определяется условиями диффузии кремния в подложку. При температуре отжига выше 910оС, за время, превышающее 6 ч, происходит рекристаллизация кремния с материалом подложки, в результате чего происходит снижение качества поверхности она становится мутной.

При низкой температуре (менее 900оС) и малом времени отжига (менее 5 ч) диффузия кремния в подложку не происходит, а следовательно, не происходит перераспределение ионов в ее кристаллической решетке и не улучшается морфология поверхности подложки.

П р и м е р. Поверхность подложки КНГГ ориентации (III) обезжиривается органическими растворителями. После чего подложка помещается в вакуумную камеру установки и на ее поверхность в течение 1,5 ч наносится слой кремния. Толщина слоя кремния составляет 0,15 мкм. Затем подложка со слоем кремния отжигается в течение 5 ч при 905оС в муфельной печи. После отжига подложка дополнительно не обрабатывается.

На поверхность подготовленной таким образом подложки при 700оС в течение 3 мин осаждается эпитаксиальная пленка состава (YBiLu)3(FeGa)5O12. Толщина выращенной пленки составляет 2,0 мкм. Качество поверхности пленки оценивается путем наблюдения в проходящем поляризованном свете микроскопа. Установлено, что пленка не имеет трещин и прозрачна.

В таблице приведены физико-технические параметры выращенной пленки по предлагаемому способу и способу-прототипу.

Как видно из таблицы, предлагаемый способ обеспечивает повышение качества поверхности подложки и качества пленки, что косвенно доказывается снижением коэрцитивности и повышением пропускания пленки, выращенной указанным способом, по сравнению с способом-прототипом. Улучшение морфологии поверхности подложки повышает коэффициент вхождения висмута в пленку и тем самым обеспечивает увеличение фарадеевского вращения.

Похожие патенты RU2038432C1

название год авторы номер документа
Способ получения магнитнооптической структуры 1989
  • Островский Игорь Вениаминович
  • Еськов Николай Анатольевич
  • Пронина Наталья Владимировна
  • Грошенко Николай Александрович
SU1675409A1
МАГНИТООПТИЧЕСКИЙ ЭЛЕМЕНТ 1993
  • Рандошкин В.В.
RU2098856C1
Способ получения монокристаллических плёнок железо-иттриевого граната с нулевым рассогласованием параметров кристаллической решётки плёнки и подложки 2022
  • Шумилов Алексей Гениевич
  • Федоренко Андрей Александрович
  • Недвига Александр Степанович
  • Семук Евгений Юрьевич
  • Наухацкий Игорь Анатольевич
  • Бержанский Владимир Наумович
  • Шапошников Александр Николаевич
  • Томилин Сергей Владимирович
RU2791730C1
МАГНИТООПТИЧЕСКАЯ ТОНКОПЛЕНОЧНАЯ СТРУКТУРА 1996
  • Ильяшенко Е.И.
  • Клин В.П.
  • Соловьев А.Г.
RU2138069C1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ СЛОЖНЫХ ОКСИДОВ 1992
  • Остроушко А.А.
  • Остроушко И.П.
RU2048618C1
МАГНИТООПТИЧЕСКАЯ СТРУКТУРА 1988
  • Рандошкин В.В.
SU1642869A1
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ СЛОЖНЫХ ОКСИДОВ 1992
  • Остроушко А.А.
  • Пименов Д.А.
  • Миронова Н.В.
  • Остроушко И.П.
  • Петров А.Н.
RU2048617C1
Способ получения носителя информации 1987
  • Рандошкин Владимир Васильевич
  • Чани Валерий Иванович
SU1481857A1
МАГНИТООПТИЧЕСКИЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ, СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ ПЛЕНКИ, СПОСОБ ВИЗУАЛИЗАЦИИ НЕОДНОРОДНОГО МАГНИТНОГО ПОЛЯ (ВАРИАНТЫ) И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 1999
  • Гусев М.Ю.
  • Козлов Ю.Ф.
  • Неустроев Н.С.
  • Рандошкин В.В.
RU2168193C2
МАГНИТООПТИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ 2012
  • Костишин Владимир Григорьевич
  • Читанов Денис Николаевич
RU2522594C1

Реферат патента 1995 года СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МАГНИТООПТИЧЕСКИХ СТРУКТУР

Использование: в магнитооптике при создании управляемых транспорантов, изоляторов и т.д. Сущность изобретения: структуру получают путем жидкофазного осаждения висмутсодержащей эпитаксиальной пленки из переохлажденного раствора-расплава на подложку из кальций-ниобий-галлиевого граната. Предварительно на подложку напыляют слой кремня толщиной 0,1 - 0,2 мкм с последующим отжигом ее при 900 - 910°С в течение 5 - 6 ч. Такая обработка обеспечивает повышение качества поверхности подложки и пленки. Улучшение морфологии поверхности подложки повышает коэффициент вхождения висмута в пленку и тем самым обеспечивает увеличение фарадеевского вращения. 1 табл.

Формула изобретения RU 2 038 432 C1

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МАГНИТООПТИЧЕСКИХ СТРУКТУР, включающий жидкофазное осаждение висмутсодержащей эпитаксиальной пленки из переохлажденного раствора-расплава на подложку из кальций-ниобий-галлиевого граната, отличающийся тем, что предварительно на подложку напыляют слой кремния толщиной 0,1 0,2 мкм с последующим отжигом ее при 900 910oС в течение 5 6 ч.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 1995 года RU2038432C1

Еськов Н.А
и др
Переносная печь для варки пищи и отопления в окопах, походных помещениях и т.п. 1921
  • Богач Б.И.
SU3A1
Письма в ЖТФ, т.15, N 2, 1989, с.27-30.

RU 2 038 432 C1

Авторы

Пронина Н.В.

Недвига А.С.

Каравайников А.В.

Даты

1995-06-27Публикация

1992-03-25Подача