СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ Российский патент 2000 года по МПК H05K3/18 

Описание патента на изобретение RU2153784C1

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и предназначено для использования при металлизации отверстий печатных плат, изготавливаемых из фольгированного диэлектрического материала.

Известны способы металлизации отверстий печатных плат, включающие подготовку поверхности (обезжиривание и промывку в проточной воде), нанесение раствора фосфоросодержащей соли меди путем погружения в раствор, выдержку, термообработку, охлаждение до комнатной температуры, промывку в проточной воде и электрохимическое меднение (см. авт. свид. СССР N 921125, кл. H 05 К 3/18, 1976 и авт. свид. СССР N 921126, кл. Н 05 К 3/18, 1978).

Известные способы, в связи с их низкой травящей способностью, не позволяют получить концентрацию меди в растворе, обеспечивающую необходимую проводимость осадка. Это приводит к тому, что после операции гальванического наращивания меди возможно образование точечных и зонных непрокрытий, следовательно, снижение выхода годных печатных плат.

Наиболее близким по технической сущности к заявляемому является способ металлизации отверстий печатных плат, включающий предварительную обработку заготовки печатных плат в водном растворе основания и ее химическую металлизацию в водном растворе фосфоросодержащей соли меди и основания, термообработку, промывку и гальваническое наращивание металла. В качестве основания при предварительной обработке подложки используют растворы аммиака, либо моноэтаноламина, либо их смесь. А в качестве основания в растворе химической металлизации используют аммиак (см. авт. свид. СССР N 1739833, кл. Н 05 К 3/18, 1990).

Недостаток известного способа заключается в том, что растворы, содержащие указанные основания и фосфоросодержащую соль меди, обладают травящей способностью. Поэтому во время работы с фольгированным диэлектриком в растворах подготовки поверхности и химической металлизации постоянно растет концентрация двухвалентной меди. Это приводит к необходимости частой корректировки раствора. В процессе корректировки 15-20% объема насыщенного медью раствора активации приходится сливать в очистные сооружения. Особенно указанный недостаток проявляется при осуществлении технологического процесса на автоматизированных линиях термохимического меднения, так как на операциях активации заготовок печатных плат применяется принудительная подача растворов. Кроме того, травящая способность раствора не позволяет применять данный метод при изготовлении печатных плат с повышенной плотностью монтажа из диэлектрического материала с тонкой (5 мкм) фольгой.

Техническая задача, на решение которой направлено заявляемое изобретение, состоит в том, чтобы исключить травление меди с поверхности печатных плат в процессе химической металлизации отверстий и тем самым существенно сократить потери рабочего раствора в процессе обработки (активации) заготовок печатных плат, а также расширить возможности беспалладиевой металлизации.

Поставленная задача достигается за счет того, что в известном способе металлизации отверстий печатных плат, включающем предварительную обработку заготовки печатных плат в водном растворе основания и ее химическую металлизацию в водном растворе фосфоросодержащей соли меди и основания, термообработку, промывку и гальваническое наращивание металла, согласно изобретению, в процессе химической металлизации проводят катодную обработку медной поверхности заготовки печатных плат током плотностью 0,8-1,0 А/дм2.

Введение в процессе химической металлизации катодной обработки медной поверхности заготовки печатных плат током плотностью 0,8-1,0 А/дм2 приводит к созданию эффекта катодной защиты, за счет чего снижается скорость увеличения концентрации двухвалентной меди.

Способ металлизации отверстий печатных плат осуществляют следующим образом.

Предварительно обезжиренную промытую заготовку печатной платы из фольгированного диэлектрического материала с просверленными отверстиями подвергают химической металлизации путем погружения в водный раствор фосфоросодержащей соли меди и основания, например, на основе раствора гипофосфита меди, приготовленного из аммония фосфорноватистокислого (аммония гипофосфита) по известному способу (см. авт. свид. СССР N 1699906, кл. С 01 В 25/165, 1988). В процессе химической металлизации проводят катодную обработку медной поверхности заготовки печатной платы током плотностью 0,8-1,0 А/дм2. При этом заготовки печатных плат перемещаются в горизонтальной плоскости через зону обработки между двумя анодами из инертного материала, а медная поверхность заготовки печатной платы является катодом. Нанесение рабочего раствора может проводиться, например, путем принудительной прокачки его через отверстия заготовки печатной платы.

Экспериментально была установлена зависимость изменения концентрации двухвалентной меди в растворе активации от катодной плотности тока, подаваемого на поверхность печатных плат, и от количества обработанных заготовок, представленная в таблице.

Из таблицы видно, что уже при катодной плотности тока - 0,75 А/дм2 скорость увеличения концентрации двухвалентной меди в растворе активации снижается на порядок. При плотности тока - 1,0 А/дм2 концентрация меди остается без изменений. При дальнейшем увеличении катодного потенциала идет восстановление меди на поверхности печатных плат и снижение ее концентрации в растворе.

Таким образом, выбрав оптимальный состав раствора химической металлизации (активации), его легко можно поддерживать в заданном интервале концентраций, что исключает травление меди с поверхности печатных плат и процесс становится регулируемым.

Способ обеспечивает улучшение экологической обстановки на предприятии и расширяет технологические возможности беспалладиевой металлизации переходных отверстий двухсторонних печатных плат.

Похожие патенты RU2153784C1

название год авторы номер документа
СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1991
  • Фадеев Е.И.
  • Ревзин Г.Е.
  • Ломовский О.И.
RU2019925C1
СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1993
  • Ломовский О.И.
  • Фадеев Е.И.
  • Фадеев В.Е.
RU2084087C1
Однослойная или многослойная печатная плата и способ ее изготовления 1990
  • Юрген Хупе
  • Вальтер Кроненберг
SU1816344A3
Композиция для электрохимического меднения сквозных отверстий печатных плат 2023
  • Алешина Венера Халитовна
  • Григорян Неля Сетраковна
  • Аснис Наум Аронович
  • Ваграмян Тигран Ашотович
  • Абрашов Алексей Александрович
RU2817024C1
СПОСОБ АКТИВАЦИИ ДИЭЛЕКТРИКОВ 2015
  • Алкаев Андрей Викторович
  • Жмакин Евгений Олегович
  • Охват Юрий Юрьевич
  • Росинкин Сергей Игоревич
RU2604556C1
СПОСОБ БЕСПАЛЛАДИЕВОЙ АКТИВАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ ПЛАСТМАСС 2014
  • Финаенов Александр Иванович
  • Закирова Светлана Михайловна
  • Рахметулина Лидия Анатольевна
  • Краснов Владимир Васильевич
  • Неверная Ольга Геннадиевна
RU2588918C1
СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1989
  • Старикова Т.А.
  • Галецкий Ф.П.
  • Болотова Г.И.
  • Фриденберг Е.С.
  • Могуленко А.В.
  • Григорьева Л.Н.
RU1720467C
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МНОГОСЛОЙНОЙ ПЕЧАТНОЙ ПЛАТЫ 2015
  • Мылов Геннадий Васильевич
  • Дрожжин Игорь Владимирович
  • Левин Дмитрий Викторович
RU2603130C1
СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1990
  • Чулкевич А.К.
  • Кудряшов С.Н.
  • Гуляев Б.И.
  • Носов В.М.
  • Ковалев Е.Е.
SU1739833A1
Способ металлизации отверстий печатных плат 1979
  • Михайлов Юрий Иванович
  • Маккаев Алмаксуд Магомедович
  • Ломовский Олег Иванович
  • Болдырев Владимир Вячеславович
SU921124A1

Иллюстрации к изобретению RU 2 153 784 C1

Реферат патента 2000 года СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и предназначено для использования при металлизации отверстий печатных плат, изготавливаемых из фольгированного диэлектрического материала. Технический результат состоит в том, чтобы исключить травление меди с поверхности печатных плат в процессе химической металлизации отверстий и тем самым существенно сократить потери рабочего раствора в процессе обработки (активации) заготовок печатных плат, а также расширитель возможности беспалладиевой металлизации. Способ металлизации отверстий печатных плат включает предварительную обработку заготовки печатных плат в водном растворе основания и ее химическую металлизацию в водном растворе фосфоросодержащей соли меди и основания, термообработку, промывку и гальваническое наращивание металла. Новым является то, что в процессе химической металлизации проводят катодную обработку медной поверхности заготовки печатных плат током плотностью 0,8 - 1,0 А/дм2. 1 табл.

Формула изобретения RU 2 153 784 C1

Способ металлизации отверстий печатных плат, включающий предварительную обработку заготовки печатных плат в водном растворе основания и ее химическую металлизацию в водном растворе фосфоросодержащей соли меди и основания, термообработку, промывку и гальваническое наращивание металла, отличающийся тем, что в процессе химической металлизации проводят катодную обработку медной поверхности заготовки печатных плат током плотностью 0,8-1,0 А/дм2.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2000 года RU2153784C1

СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1990
  • Чулкевич А.К.
  • Кудряшов С.Н.
  • Гуляев Б.И.
  • Носов В.М.
  • Ковалев Е.Е.
SU1739833A1
СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1991
  • Фадеев Е.И.
  • Ревзин Г.Е.
  • Ломовский О.И.
RU2019925C1
СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1993
  • Ломовский О.И.
  • Фадеев Е.И.
  • Фадеев В.Е.
RU2084087C1
СПОСОБ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ОТВЕРСТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1989
  • Старикова Т.А.
  • Галецкий Ф.П.
  • Болотова Г.И.
  • Фриденберг Е.С.
  • Могуленко А.В.
  • Григорьева Л.Н.
RU1720467C
Раствор для электрохимической металлизации 1978
  • Михайлов Юрий Иванович
  • Ломовский Олег Иванович
  • Маккаев Алмаксуд Магомедович
  • Болдырев Владимир Вячеславович
SU921126A1
US 4085285 A, 18.04.1978
US 4374868 A, 22.02.1983
СПОСОБ ОТВЕРЖДЕНИЯ ПОЛИЭФИРНЫХ СМОЛ И КОМПОЗИЦИЙ НА ИХ ОСНОВЕ 0
SU231795A1
DE 3907004 A1, 06.09.1990
Устройство сопряжения, система транспортировки активированного угля и способ многопроцессной очистки отходящего газа 2018
  • Е Хэнди
  • Лю Яньфей
  • Вэй Цзиньчао
  • Лю Чанци
  • Фу Сюймин
  • Ян Бэньтао
RU2753901C1

RU 2 153 784 C1

Авторы

Блохина И.В.

Заикин О.И.

Ковалев Е.Е.

Милькин С.Л.

Руденко А.В.

Даты

2000-07-27Публикация

1999-08-16Подача