СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ИОННОГО ЛУЧА Российский патент 2003 года по МПК H01J27/14 H01J37/28 

Описание патента на изобретение RU2219618C2

Изобретение относится к области электроники, а более конкретно к способам получения ионного луча.

Известен способ получения ионного луча путем термоионной эмиссии [Черняев В. Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров: Учебник для вузов - 2-е изд., перераб. и доп. - М.: Радио и связь, 1987, - 464 с., стр.303, рис. 13.8(9)].

Недостатком аналога является отсутствие сфокусированности луча при большой интенсивности и невозможности получения ионного луча прямолинейной направленности.

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является способ получения ионного луча, включающий ионизацию инертного газа электронами, возбужденными пересекающимися электрическим и магнитным полями, бомбардировку ионизированным газом мишени [Черняев В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров: Учебник для вузов - 2-е изд. , перераб. и доп. - М. : Радио и связь, 1987, - 464 с., стр.310, рис. 13.11(12)].

Недостатком прототипа является также отсутствие сфокусированности луча при большой интенсивности и невозможности получения ионного луча прямолинейной направленности.

В основу изобретения положена техническая задача обеспечить высокую сфокусированность луча при малой интенсивности ионного луча прямолинейной направленности.

Поставленная задача решается тем, что поток электронов и первичный ионный луч создают от мишени к зонду путем последовательного воздействия прямым электрическим, магнитным и обратным электрическим полями, затем между мишенью и зондом устанавливают подложку и вновь воздействуют прямым электрическим полем, причем мишень и подложку предварительно электрически связывают и создают вторичный ионный луч.

Введение в способ получения ионного луча последовательного воздействия прямым электрическим, затем магнитным и обратным электрическим полями на поток электронов и первичный ионный луч от мишени к зонду, затем вновь воздействия прямым электрическим полем на вторичный ионный луч от зонда к подложке обеспечивает высокую сфокусированность луча при малой интенсивности прямолинейной направленности.

Сущность изобретения поясняется фиг.1, и фиг.2. На фиг.1 показана схема электронно-ионной системы прямого воздействия. На фиг.2 показана схема электронно-ионной системы обратного воздействия.

Электронно-ионная система (фиг.1 и фиг.2), реализующая способ, содержит зонд 1, мишень 2, источник электрического поля 3 и магнитного 4. Вектор напряженности электрического поля и вектор индукции магнитного взаимно перпендикулярны. Блок управления 5 электрически связан с источниками электрического и магнитного полей. Между зондом 1 и мишенью 2 расположена подложка 6 с возможностью вращения посредством привода 7.

Способ реализуется следующим образом.

На источник 3 электрического поля из блока управления 5 подают сигнал, зонд 1 заряжают положительно, а мишень 2 - отрицательно (фиг.1), тем самым создают поток электронов от мишени 2. Затем отключают источник 3 электрического поля, включают источник 4 магнитного поля и воздействуют на электроны лоренцевой силой, посредством которой, в результате столкновения электронов с атомами инертного газа, осуществляют их ионизацию и бомбардировку ионизированным газом мишени 2. Далее отключают источник 4 магнитного поля и включают, через блок управления 5, источник 3 электрического поля, но с противоположной полярностью, т.е. зонд 1 заряжают отрицательно, а мишень 2 - положительно. Затем между мишенью 2 и зондом 1 устанавливают подложку 6 посредством привода 7 и вновь через блок управления 5 воздействуют прямым электрическим полем, причем мишень 2 и подложку 6 предварительно электрически связывают и создают вторичный ионный луч от зонда 1 к подложке 6. Вторичный ионный луч состоит из ионов, образованных бомбардировкой мишени 2 инертным газом.

Применение предложенного способа получения ионного луча обеспечивает высокую сфокусированность луча при малой интенсивности ионного луча прямолинейной направленности, что имеет большое значение для применения таких лучей в нанотехнологии.

Похожие патенты RU2219618C2

название год авторы номер документа
СПОСОБ ВОССТАНОВЛЕНИЯ ЗОНДОВ ДЛЯ НАНОТЕХНОЛОГИИ 2002
  • Ивашов Е.Н.
  • Степочкин А.А.
RU2241066C2
СПОСОБЫ, ИСПОЛЬЗУЮЩИЕ УДАЛЕННУЮ ПЛАЗМУ ДУГОВОГО РАЗРЯДА 2013
  • Гороховский, Владимир
  • Грант, Вильям
  • Тейлор, Эдвард, У.
  • Хьюменик, Дэвид
  • Брондум, Клаус
RU2640505C2
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ НА ИЗДЕЛИЯ ЗАЩИТНО-ДЕКОРАТИВНЫХ ПОКРЫТИЙ 1992
  • Вахминцев Г.Б.
  • Березников В.И.
  • Уваров Л.А.
RU2039844C1
ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ С ПОГРУЖЕНИЕМ В ДУГОВУЮ ПЛАЗМУ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ И ИОННАЯ ОБРАБОТКА 2014
  • Гороховский, Владимир
  • Грант, Вильям
  • Тейлор, Эдвард
  • Хьюменик, Дэвид
RU2662912C2
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ЗАГОТОВКИ В УСТАНОВКЕ ВАКУУМИРОВАНИЯ (ВАРИАНТЫ) 2012
  • Хельмут Рудигир
  • Юрген Рамм
  • Бено Видриг
  • Трой Фом-Браукке
RU2543575C2
СПОСОБ ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЙ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ СПОСОБА НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ ОСАЖДЕНИЕМ ПАРОВ 2009
  • Хельмут Рудигир
  • Юрген Рамм
  • Бено Видриг
  • Трой Фом-Браукке
RU2519709C2
ГЕНЕРАТОР НЕЙТРОНОВ 2008
  • Гроувз Джоэл Л.
RU2491796C2
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ЗАЩИТНО-ДЕКОРАТИВНЫХ И ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙ 1992
  • Дудкин Владимир Александрович[Ua]
  • Пуха Владимир Егорович[Ua]
  • Вус Александр Степанович[Ua]
RU2023742C1
ПЛАЗМЕННО-ИММЕРСИОННАЯ ИОННАЯ ОБРАБОТКА И ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ ПРИ СОДЕЙСТВИИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ 2014
  • Гороховский, Владимир
  • Грант, Вильям
  • Тейлор, Эдвард
  • Хьюменик, Дэвид
RU2695685C2
ПОЛУЧЕНИЕ ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМЫ В КРИВОЛИНЕЙНОМ ПЛАЗМОВОДЕ И НАНЕСЕНИЕ ПОКРЫТИЯ НА ПОДЛОЖКУ 1997
  • Додонов А.И.
  • Башков В.М.
RU2173911C2

Иллюстрации к изобретению RU 2 219 618 C2

Реферат патента 2003 года СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ИОННОГО ЛУЧА

Изобретение относится к электронике, а более конкретно к способам получения ионного луча. Технический результат - повышение сфокусированности луча при малой интенсивности ионного луча прямолинейной направленности. Поток электронов и первичный ионный луч создают от мишени к зонду путем последовательного воздействия прямым электрическим, магнитным и обратным электрическим полями, затем между мишенью и зондом устанавливают подложку и вновь воздействуют прямым электрическим полем, причем мишень и подложку предварительно электрически связывают и создают вторичный ионный луч. 2 ил.

Формула изобретения RU 2 219 618 C2

Способ получения ионного луча, включающий ионизацию инертного газа электронами, возбужденными пересекающимися электрическим и магнитным полями, бомбардировку ионизированным газом мишени, отличающийся тем, что поток электронов и первичный ионный луч создают от мишени к зонду путем последовательного воздействия прямым электрическим, магнитным и обратным электрическим полями, затем между мишенью и зондом устанавливают подложку и вновь воздействуют прямым электрическим полем, причем мишень и подложку предварительно электрически связывают и создают вторичный ионный луч.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2003 года RU2219618C2

ЧЕРНЯЕВ В.Н
Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров
- М.: Радио и связь, 1987, с.310
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УСТРОЙСТВА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ 1989
  • Волков В.В.
  • Мирошкин С.И.
  • Шалимов С.В.
  • Савельев А.А.
RU2176681C2
Походная разборная печь для варки пищи и печения хлеба 1920
  • Богач Б.И.
SU11A1
Перекатываемый затвор для водоемов 1922
  • Гебель В.Г.
SU2001A1
US 5393985 А, 28.02.1995.

RU 2 219 618 C2

Авторы

Ивашов Е.Н.

Львов Б.Г.

Степанчиков С.В.

Даты

2003-12-20Публикация

2001-12-17Подача