Устройство для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрических поверхностей второго порядка Российский патент 2024 года по МПК C03C23/00 H01J37/32 

Описание патента на изобретение RU2832425C1

Изобретение относится к области электроэрозионной обработки и может быть использовано в производстве изделий из кварцевого стекла.

Наиболее известным технологическим приемом обработки кварцевого стекла является газопламенная обработка поверхности в условиях динамического вакуума, так как кварцевое стекло обладает способностью пропускать при высоких температурах газы, что объясняется диффузией этих газов через массу стекла [Глаголев С.П. Кварцевое стекло. Его свойства, производство и применение. // М.: Государственное химико-техническое издательство, 1934. – 214 с.]. После газопламенной обработки в кварцевом стекле всегда наблюдается присутствие значительного количества водородсодержащих примесей, в том числе, в виде гидроксильных групп [Постников В.С. Оптическое материаловедение: курс лекций. // Пермь : Изд-во ПНИПУ, 2013. – 280 с.]. При получении высококачественных кристаллов и стекол (в ампулах и тиглях из кварцевого стекла) для оптических применений особые требования предъявляются к степени чистоты аппаратуры из кварцевого стекла. По этой причине в настоящее время в промышленности для получения особо чистых изделий из кварцевого стекла используют высокотемпературный отжиг в электровакуумных печах. Высокая стоимость такой обработки для крупногабаритных изделий (химических реакторов, трубопроводов) делает актуальной разработку новых устройств для плазмохимической обработки внутренней полости аппаратуры на открытом воздухе в условиях цехов или исследовательских лабораторий.

Из уровня техники известен плазмохимический реактор низкого давления, обеспечивающий плазму высокой плотности для осуществления процесса в виде травления и осаждения [Александров С.Е., Киреев В.Ю., Костюков Д.А. и др. // Патент РФ №2797472 от 06.06.2023, Бюл. №16] – аналог. Реактор содержит рабочую камеру и модуль формирования плазмы. В рабочей камере расположен подложкодержатель, соединенный с высокочастотным генератором и стабилизатором температуры. Внутри рабочей камеры на расстояние 3-10 мм от ее боковых стенок установлено диэлектрическое кольцо, на внешней стороне которого сформирован проводящий металлический элемент, соединенный с источником постоянного напряжения. Металлический элемент диэлектрического кольца и подводящие провода электрически изолированы от плазмы и заземленных поверхностей рабочей камеры. Подача постоянного напряжения различного значения и знака на металлический элемент обеспечивает управление скоростью, равномерностью и селективностью процессов травления. Стоит отметить, что у аналога отсутствует описание системы откачки и газонапуска. Устройство не может быть использовано для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрических поверхностей второго порядка, например, труб, так как авторы заявляют, что его конструкция разработана только для обработки пластин, то есть поверхностей первого порядка.

Известно устройство для плазмохимического травления пластин большого размера [Смирнова Т.С., Петраков В.И., Сергеев С.А., Лебедев Э.А. // Патент РФ №168094 от 18.01.2017, Бюл. №2] – аналог. Устройство включает корпус камеры, две группы электродов, выполненных в виде концентрических колец, изолированный подложкодержатель и систему газонапуска, электроды выполнены в виде полых концентрических водоохлаждаемых колец, зазор между которыми составляет от 5 до 8 мм, одна группа электродов заземлена, причем центральный электрод находится под высокочастотным потенциалом и выполнен в виде стержня, а движение газового потока в каждом кольцевом канале осуществляют перпендикулярно поверхности обрабатываемой пластины и контролируют натекателями. Подложкодержатель расположен вне зоны возбуждения плазмы таким образом, что зона обработки пространственно отделена от зоны генерации плазмы. Очевидно, что аналог не может быть использован для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрических поверхностей второго порядка даже при самой глубокой модернизации устройства, так как в конструкцию устройства заложен существенный недостаток – зона обработки пространственно отделена от зоны генерации плазмы.

Известно устройство для локального плазмохимического травления подложек [Абрамов В.А., Аксенова Л.А., Климов А.В. // Патент РФ №2451114от 10.01.2012 Бюл. №1] – прототип. Устройство содержит вакуумную камеру, электроды, системы откачки и напуска плазмообразующего газа. Верхний электрод установлен на подвижной плите и снабжен механизмом регулирования параллельности электродов относительно друг друга, выполненным в виде трех вертикальных стоек, закрепленных на основании камеры и снабженных шаровыми опорами. На каждой стойке выполнены подвижные упоры с механизмом регулирования зазора в виде прецизионного подъемника, на котором установлен нижний электрод, являющийся подложкодержателем. Необходимым условием локализации тлеющего разряда у выступающих участков поверхности высокочастотного электрода является то, что межэлектродное расстояние L должно быть больше длины свободного пробега электронов в плазме λ (L>>λ). При характерном межэлектродном расстоянии L=100 мкм, давлении плазмообразующего газа ~104 Па и удельной мощности в высокочастотном тлеющем разряде ~104 Вт/см3 устройство обеспечивает равномерность и высокую скорость травления плоских подложек. Для крупногабаритных изделий, содержащих однопараметрические поверхности второго порядка (химических реакторов, трубопроводов), прототип не может быть использован по причине своих конструктивных особенностей и параметров технологического режима, а именно: для получения особо чистых изделий из кварцевого стекла требуется давление плазмообразующего газа ~105 Па и удельная мощность в разряде ~105 Вт/см3, а прецизионное поддержание равномерности зазора с микронной точностью при сканировании внутренних полостей поверхностей второго порядка вообще не представляется возможным.

Задачей настоящего изобретения является разработка устройства для плазмохимического травления внутренней полости однопараметрической поверхности второго порядка изделий из кварцевого стекла.

Технический результат достигается за счет того, что внутренняя полость однопараметрической поверхности второго порядка, например, трубы из кварцевого стекла подвергается обработке высокотемпературной плазмой дугового разряда в атмосфере инертного газа аргона. Разность химических потенциалов гидроксильных групп в кварцевом стекле и в атмосфере воздуха при высоких температурах дугового разряда приводит к удалению водородсодержащей примеси в окружающее пространство вдоль всей образующей цилиндра по мере продвижения трубы относительно дугового разряда по типу зонной плавки. Однородность и равномерность радиального воздействия плазмы достигается за счет влияния магнитного поля двух соленоидов, размещенных вблизи дугового разряда коаксиально электродам и включенных последовательно в высокочастотную электрическую цепь синфазно друг другу.

Устройство, схема которого представлена на фиг.1, работает следующим образом: цилиндрические электроды 1 и 2 размещают во внутренней полости кварцевой трубы 7 с зазором между ними; два соленоида 3 располагают снаружи трубы вблизи зоны дугового разряда 5 и подключают последовательно в высокочастотную электрическую цепь синфазно друг другу; высокочастотный генератор 4 через реостат 6 питает электрическую цепь дугового разряда необходимой мощностью; плазмообразующий газ аргон подается в зону дугового разряда через канал в электроде 1; продвижение трубы относительно дугового разряда вдоль всей образующей цилиндра приводит к плазмохимическому травлению внутренней полости кварцевой трубы с непрерывным удалением гидроксильных групп по типу зонной плавки. На фиг. 2 показано изображение устройства готового к работе. В результате плазмохимического травления в ближней и средней ИК-областях спектра наблюдается заметное снижение концентрации гидроксильных групп в кварцевом стекле (фиг. 3, кривая 1 – спектр пропускания до обработки, кривая 2 – после обработки).

Устройство пригодно для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрических поверхностей второго порядка и может быть использовано в промышленности для получения особо чистых изделий из кварцевого стекла.

Похожие патенты RU2832425C1

название год авторы номер документа
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛОКАЛЬНОГО ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ ПОДЛОЖЕК 2010
  • Абрамов Владимир Александрович
  • Аксенова Лидия Александровна
  • Климов Андрей Владимирович
  • Рубинштейн Владимир Михайлович
  • Сергиенко Анатолий Иванович
  • Цукерман Александр Аронович
  • Черных Владимир Кириллович
RU2451114C2
Способ нанесения антиэмиссионного покрытия из пиролитического углерода на сеточные электроды мощных электровакуумных приборов 2020
  • Кузнецов Вячеслав Геннадьевич
  • Кострин Дмитрий Константинович
  • Логвиненко Андрей Сергеевич
  • Сабуров Игорь Викторович
RU2759822C1
Вакуумно-дуговое устройство 1980
  • Аксенов Иван Иванович
  • Брень Виктор Григорьевич
  • Падалка Валентин Глебович
  • Саблев Леонид Павлович
  • Ступак Римма Ивановна
  • Хороших Владимир Максимович
SU1040631A1
РЕАКТОР ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР 2009
  • Виноградов Анатолий Иванович
  • Голишников Александр Анатольевич
  • Зарянкин Николай Михайлович
  • Тимошенков Сергей Петрович
  • Путря Михаил Георгиевич
RU2408950C1
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ХАЛЬКОГЕНИДНЫХ СТЕКОЛ СИСТЕМЫ As-S И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ 2015
  • Мочалов Леонид Александрович
  • Лобанов Алексей Сергеевич
  • Стриковский Аскольд Витальевич
  • Костров Александр Владимирович
  • Степанов Андрей Николаевич
  • Воротынцев Владимир Михайлович
  • Нежданов Алексей Владимирович
  • Машин Александр Иванович
RU2585479C1
СПОСОБ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 2000
  • Рябый В.А.
  • Савинов В.П.
  • Спорыхин А.А.
  • Ли Хион-Джу
RU2178219C1
КОМБИНИРОВАННЫЙ ИНДУКЦИОННО-ДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН И СПОСОБ ПОДЖИГА ИНДУКЦИОННОГО РАЗРЯДА 2014
  • Уланов Игорь Максимович
  • Исупов Михаил Витальевич
  • Литвинцев Артем Юрьевич
  • Мищенко Павел Александрович
RU2558728C1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН 2003
  • Гомжин И.В.
  • Лебедев Э.А.
  • Ефремов Д.А.
RU2249883C1
РЕАКТОР ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР 2017
  • Павлов Георгий Яковлевич
  • Сологуб Вадим Александрович
  • Айрапетов Александр Арменакович
  • Бирюков Михаил Георгиевич
  • Одиноков Вадим Васильевич
  • Карпенкова Елена Владимировна
  • Гусева Наталья Борисовна
  • Павлов Владимир Борисович
  • Неклюдова Полина Алексеевна
  • Никонов Александр Михайлович
  • Петров Александр Кириллович
  • Вавилин Константин Викторович
  • Кралькина Елена Александровна
RU2670249C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ БИС С ДВУХУРОВНЕВОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИЕЙ 1991
  • Красножон А.И.
  • Фролов В.В.
  • Хворов Л.И.
RU2022407C1

Иллюстрации к изобретению RU 2 832 425 C1

Реферат патента 2024 года Устройство для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрических поверхностей второго порядка

Изобретение относится к области электроэрозионной обработки и может быть использовано в производстве изделий из кварцевого стекла. Устройство для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрической поверхности второго порядка изделий из кварцевого стекла включает в себя электроды, выполненные цилиндрическими, длиной, равной или больше длины полости обрабатываемой однопараметрической поверхности второго порядка. Коаксиально электродам вблизи зоны дугового разряда расположены два соленоида, включенные последовательно в высокочастотную электрическую цепь синфазно друг другу. При этом одном из электродов выполнен канал для подачи плазмообразующего газа аргона в зону дугового разряда. Техническим результатом является разработка устройства для плазмохимического травления внутренней полости однопараметрических поверхностей второго порядка. 3 ил.

Формула изобретения RU 2 832 425 C1

Устройство для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрической поверхности второго порядка изделий из кварцевого стекла, включающее в себя электроды, отличающееся тем, что электроды выполнены цилиндрическими длиной, равной или больше длины полости обрабатываемой однопараметрической поверхности второго порядка, коаксиально электродам вблизи зоны дугового разряда расположены два соленоида, включенные последовательно в высокочастотную электрическую цепь синфазно друг другу, а в одном из электродов выполнен канал для подачи плазмообразующего газа аргона в зону дугового разряда.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2024 года RU2832425C1

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛОКАЛЬНОГО ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ ПОДЛОЖЕК 2010
  • Абрамов Владимир Александрович
  • Аксенова Лидия Александровна
  • Климов Андрей Владимирович
  • Рубинштейн Владимир Михайлович
  • Сергиенко Анатолий Иванович
  • Цукерман Александр Аронович
  • Черных Владимир Кириллович
RU2451114C2
СПОСОБ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 2000
  • Рябый В.А.
  • Савинов В.П.
  • Спорыхин А.А.
  • Ли Хион-Джу
RU2178219C1
ПЛАЗМЕННАЯ ОБРАБОТКА ПОВЕРХНОСТИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ БАРЬЕРНЫХ РАЗРЯДОВ 2007
  • Боулос Махер И.
  • Когельшатц Ульрих
  • Нессим Кристин
RU2462534C2
Плазмохимический реактор низкого давления, обеспечивающий плазму высокой плотности для осуществления процесса в виде травления и осаждения 2022
  • Александров Сергей Евгеньевич
  • Киреев Валерий Юрьевич
  • Костюков Денис Андреевич
  • Одиноков Вадим Васильевич
  • Осипов Артем Арменакович
  • Шубников Александр Валерьевич
  • Щуренкова Светлана Александровна
RU2797472C1
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ВТОРОГО ПОРЯДКА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 1999
  • Саяпин С.Н.
  • Синев А.В.
RU2170161C2
Устройство для подачи материала к прессу 1981
  • Артемьев Владимир Варсонофьевич
SU997926A1

RU 2 832 425 C1

Авторы

Борисенко Дмитрий Николаевич

Колесников Николай Николаевич

Фурсова Татьяна Николаевна

Даты

2024-12-24Публикация

2024-04-19Подача