Изобретение относится к гальваностегии, в частности к подготовке поверхности пермаллоя перед электроосаждением толстых (до 300 мки) медных покрытий. Цель изобретения - улучшение сцепления меди с пермаллоем и уде шевление процесса. Положительный эффект достигает ся тем, что после промывки проводят дополнительное электрохимическое травление в 4,35-13,06 М растворе соляной кислоты при катодной плотности тока 3-10 А/дм с последующим электрохимическим нанесением подслоя меди при катод ной плотности тока 5-10 А/дм- в солянокислом растворе с добавками двухлористой меди. Травление в соляной кислоте обеспечивает активирование поверх ности, что приводит к хорошему сцеплению пермаллоя с медным слое Катодную обработку при травлении проводят для очистки пермаллоя от продуктов растворения, образовавшихся на поверхности, выделяющимся водородом. Использование концентрации сол ной кислоты ниже 1,31 М не обеспечивает удовлетворительное сцепление. Понижение плотности катодного тока ниже 3,0 А/дм- не обеспечива очистку и активирование поверхнос в результате чего происходит отсл ивание медного слоя. При повышени плотности тока вьппе 10 А/дм происходит глубокое травление, в результате которого идет отслаивани наносимого металла. После промывки и активирования наносят слой меди толщиной 0,62,2 мкм из концентрированного раствора соляной кислоты (13,14 М Затем в раствор вводят двухлористую медь в концентрации 1-10 г/л. Нанесение промежуточного слоя необходимо для предотвращения моментального образования окисного слоя на поверхности пермаллоя. Максимально предельную концентрацию соляной кислоты выбирают, что снизить выделение водорода при электроосаждении меди из хлористо го раствора. Увеличение концентра ции двухлористой меди до 10 г/л 56 позволяет увеличить скорость осаждения качественных осадков меди. Дальнейшее увеличение концентрации двухлористой меди нецелесообразно, так как ведет к удорожанию процесса. Уменьшение концентрации двухлористой меди ниже 1 г/л нецелесообразно из-за частой корректировки раствора и увеличения времени осажд,ения. Процесс осаждения меди ведут при плотности тока 2,5-10 А/дм 0,52мин. Понижение плотности тока не обеспечивает максимальной скорости процесса, Повьш1ение плотности тока вьш1е 10 приводит к осаждению некачественных осадков. Выбор времени электролиза определяется тем, что толщина медного подслоя (0,6-2,2 мкм) обеспечивает сцепление медного слоя с толстным медным слоем (до 300 мкм), Осаждение слоя меди толщиной, 300 мкм проводят из сернокислого электролита, содержащего в г/л: сернокислую медь 200; серную кислоту 50, Предлагаемый способ обеспечивает наращивание медного слоя толщиной до 300 мкм. Нанесение покрытий осуществляют на образцы сплавов 80НХС и 81НМА, Пример 1. Нанесение медных покрытий осуществляют в следующей последовательности, Электрохимическое обезжиривание в растворе, в г/л: едкий натрий (калий) 10-20; карбонат натрия 20-30; тринатрийфосфат 30-50; стекло натриевое жидкое 3-5, Температура раствора 70-90 С, плотность тока 10 А/дм- при вьщержке на катоде 3мин и на аноде 2 мин, Промывка в холодной проточной воде: Электрохимическое травление в растворе соляной кислоты (1,3113,14 М) при плотности тока 3-10 А/дм одну минуту. Электроосаждение меди (0,62,2 мкм) из концентрированного раствора соляной кислоты, содержа щей двухлористую медь (1-10 г/л), Процесс ведут при плотности тока 2,5-10 0,5-2 мин. Промывка в проточной холодной воде,
Электроосаждение меди (до 300 мкм) из стандартного сернокислого электролита меднения в г/л: медь сернокислая 200; серная кислота 50. Процесс ведут при плотности тока 3-5 А/дм 4-5 ч.
Проведенные испытания на сцепление медного покрытия по методу изгиба до излома образца показывают, что медные покрытия (до 300 мк), полученные по предлагаемому способу имеют хорошее сцепление
12013564
с пермаллоем, поскольку при изломе образца отслаивания покрытия не происходит.
В таблице приведены данные, ил3 люстрирующие предлагаемый способ.
Как видно из таблицы, предлагаемый способ обработки приводит к последующему нанесению покрытий с 10 хорошим сцеплением и позволяет заменить дефицитньй двухлористый никель на двухлористую медь.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ получения металлических покрытий на алюминии | 1981 |
|
SU1032047A1 |
СПОСОБ ГАЛЬВАНИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ МОЛИБДЕНОВЫХ СПЛАВОВ | 2017 |
|
RU2653515C1 |
ЭЛЕКТРОЛИТ И СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ МЕДИ НА ТОНКИЙ ПРОВОДЯЩИЙ ПОДСЛОЙ НА ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН | 2012 |
|
RU2510631C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАГНИТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ СТРУКТУР | 2017 |
|
RU2682504C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ АНТИКОРРОЗИОННОГО ПОКРЫТИЯ | 2019 |
|
RU2718794C1 |
СПОСОБ ПОДГОТОВКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЗДЕЛИЙ ИЗ НЕРЖАВЕЮЩЕЙ СТАЛИ ПЕРЕД ГАЛЬВАНИЧЕСКИМ МЕДНЕНИЕМ | 2013 |
|
RU2549037C2 |
ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ЗАЩИТНОГО ПОКРЫТИЯ СПЛАВОМ ОЛОВО-НИКЕЛЬ НА ИЗДЕЛИЕ ИЗ УГЛЕРОДИСТОЙ СТАЛИ И СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ЗАЩИТНОГО ПОКРЫТИЯ СПЛАВОМ ОЛОВО-НИКЕЛЬ НА ИЗДЕЛИЕ ИЗ УГЛЕРОДИСТОЙ СТАЛИ | 2023 |
|
RU2804814C1 |
Способ получения металлическихпОКРыТий HA издЕлияХ из бЕРиллия | 1978 |
|
SU850753A1 |
ЭЛЕКТРОЛИТ И СПОСОБ МЕДНЕНИЯ | 2005 |
|
RU2282682C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ МЕДНОГО ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ НА ДЕТАЛИ ИЗ АЛЮМИНИЯ И ЕГО СПЛАВОВ | 2011 |
|
RU2471020C1 |
СПОСОБ ПОДГОТОВКИ ПОВЕРХНОСТИ ПЕРМАЛЛОЯ ПЕРЕД НАНЕСЕНИЕМ МЕДНЫХ ПОКРЫТИЙ, включающий электрохимическое травление в щелочном электролите и промывку, отличающийся тем, что, с целью улучшения сцепления меди с пермаллоем и удешевления процесса, после промывки проводят дополнительное электрохимическое травление в 4,35-13,06 М растворе соляной кислоты при катодной плотности тока 3-10 А/дм с последующим электрохимическим нанесением подслоя меди при катодной плотности тока 5-10 А/дм из раствора, содержащего; Двухлористая 3-10 медь, г о в Соляная кисло4,35-13,06 та, М Вода, л До 1.
Патент США N 4055472,С 25 D 5/40, 1977 | |||
Мельников П.С | |||
Справочник по гальванопокрытиям в машиностроении, - М.: Машиностроение,1979, с.59-60. |
Авторы
Даты
1985-12-30—Публикация
1982-12-08—Подача