СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ В ПРОЦЕССЕ ИХ ОСАЖДЕНИЯ Советский патент 1995 года по МПК H01L21/66 

Описание патента на изобретение SU1202461A1

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля толщины слоев при изготовлении полупроводниковых приборов.

Цель изобретения повышение точности и расширение класса контролируемых слоев.

На фиг. 1 показан ход лучей при генерации теплового излучения в исходной структуре; на фиг. 2 приведен график изменения интенсивности собственного теплового монохроматического излучения образующейся структуры во времени, в процессе осаждения слоя.

На фиг. 1: осаждаемый слой 1, подслой 2 исходной структуры, подложка 3 исходной структуры, пучок 4 теплового излучения, вышедший через осаждаемый слой 1, пучок 5 теплового излучения, отраженный от границ: осаждаемый слой газопаровая фаза и осаждаемый слой подслой и вышедший через осаждаемый слой 1.

На фиг. 2: I величина регистрируемого сигнала; t время длительности процесса осаждения; Iо величина регистрируемого сигнала до начала осаждения; tо момент времени, с которого начата регистрация сигнала Iо; t1 момент времени, соответствующий началу осаждения слоя; t2, t3, t4, t5 и t6 моменты времени, соответствующие регистрации экстремальных значений сигнала; tф момент прекращения осаждения слоя; Iф величина регистрируемого сигнала после прекращения осаждения; tк момент времени прекращения регистрации сигналов.

П р и м е р. Контролируется процесс осаждения слоя поликристаллического кремния на исходную структуру, представляющую собой подложку монокристаллического кремния с подслоем нитрида кремния.

Исходные данные: материал подложки n-Si, температура осаждения 1300 К, монохроматичность теплового излучения определяется используемым интерференционным фильтром с максимумом пропускания, равным 68% на длине волны 2,44 мкм.

Нагревают исходную структуру и модель абсолютно черного тела (АЧТ) до 1300 К и измеряют мощности собственного теплового излучения, выходящего через подслой структуры Еструк. и модели абсолютного черного тела ЕАЧТ измерения проводят в спектральном диапазоне, определяемом интерференционным фильтром. В произвольных единицах Еструк. 77, а ЕАЧТ= 120. Определяют излучательную способность εo по формуле
εo=
εo 0,642
Помещают исходную структуру в реактор (если измерения Еструк. проводились вне реактора) и нагревают до температуры осаждения.

В интервал времени t1-tо пять раз измеряют сигнал Iо. Измеренные значения сигнала Io в произвольных единицах равны 70; 70; 70,1; 69,9; 70. Определяют среднее арифметическое значение сигнала Iо 70. В момент времени t1 начинают газотранспортное осаждение поликристаллического слоя кремния и непрерывно регистрируют интенсивность собственного теплового монохроматического излучения образующейся структуры I(t) (фиг. 2). В момент времени tф прекращают осаждение слоя. Определяют значение сумы Iмаск + Iмин, соответствующей последнему целому полупериоду зависимости I(t), (интервал времени t6-t5). Эта сумма равна 82 + 67 149.

Определяют показатель преломления n по формуле:
n , где (Iмакс + Iмин)N сумма соседних максимального и минимального значений интенсивностей теплового излучения образующейся структуры, соответствующая последнему целому полупериоду зависимости I(t), предшествующему моменту прекращения осаждения слоя.

n 3,57. По оси t (фиг. 2) определяют длину отрезков t2-t1 13 мм; t3-t2 20 мм; t6-t5 6 мм. Рассчитывают значения
h1= 0,65 и hN= 0,3. Определяют толщину осажденного слоя в соответствии с соотношением
d (h1+N+hN), где N число целых полупериодов зависимости I(t);
h1 расстояние, измеренное по оси t от точки t1 до t2 в долях отрезка t2-t3 (фиг. 2);
hN расстояние измеренного по оси t то точки t6 до tф, в долях отрезка t5-t6 (фиг. 2).

d (0,65+4+0,3) 0,846 мкм Погрешность в определении толщины слоя d за счет относительной погрешности в определении n, равной 0,02, не превышает ±0,0017 мкм. При определении толщины осажденного слоя поликристаллического кремния из анализа полученной зависимости I(t) по способу-прототипу, получается толщина равная 0,883 мкм. Причем погрешность в определении толщины, за счет неточно заданного для расчета d значения n, составляет ± 0,1 мкм.

Похожие патенты SU1202461A1

название год авторы номер документа
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ В ПРОЦЕССЕ ИХ ОСАЖДЕНИЯ НА НАГРЕТУЮ ПОДЛОЖКУ 1991
  • Биленко Д.И.
  • Ципоруха В.Д.
RU2025828C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ 1994
  • Лазукин В.Ф.
  • Погорельский С.Л.
  • Сухоруких А.В.
  • Шипунов А.Г.
RU2097799C1
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ТОКА КОРОТКОГО ЗАМЫКАНИЯ 2014
  • Жантлесова Асемгуль Бейсембаевна
  • Исабекова Бибигуль Бейсембаевна
RU2554282C1
СИСТЕМА ПРЕДОТВРАЩЕНИЯ ОБРАЗОВАНИЯ КОЛОНИЙ СПОРОВЫХ ФОРМ МИКРООРГАНИЗМОВ 2013
  • Струпинский Михаил Леонидович
RU2542489C1
Низкотемпературный способ формирования полупроводниковых слоев фосфида галлия и твердых растворов на его основе на подложках кремния 2016
  • Гудовских Александр Сергеевич
  • Кудряшов Дмитрий Александрович
  • Морозов Иван Александрович
  • Никитина Екатерина Викторовна
  • Монастыренко Анатолий Ойзерович
RU2690861C2
СПОСОБ ЗОННОЙ ПЕРЕКРИСТАЛЛИЗАЦИИ ГРАДИЕНТОМ ТЕМПЕРАТУРЫ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН НА ОСНОВЕ АЛЮМИНИЕВЫХ ЗОН 1995
  • Лозовский В.Н.
  • Малибашева Л.Я.
  • Балюк А.В.
  • Малибашев В.А.
RU2107117C1
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ВЕКТОРА ГАРМОНИЧЕСКОГО СИГНАЛА 2008
  • Агамалов Юрий Рубенович
RU2377577C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОРЯЧЕПРЕССОВАННЫХ ДЕТАЛЕЙ ИЗ АЛЮМИНИРОВАННОЙ СТАЛИ 2017
  • Блез, Александр
RU2715925C1
Способ увеличения срока хранения продуктов питания с использованием антибактериальных функциональных наноматериалов, полученных атомно-слоевым осаждением 2022
  • Максумова Абай Маликовна
  • Хидирова Садина Тарлановна
  • Магомедов Мустафа Закарьяевич
  • Цахаева Райсанат Омариевна
  • Абдулагатов Азиз Ильмутдинович
  • Абдулагатов Ильмутдин Магамедович
RU2807483C1
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ РАССТОЯНИЯ ДО КОНТРОЛИРУЕМОГО ОБЪЕКТА (ЕГО ВАРИАНТЫ) 1997
  • Касаткин Б.А.
RU2125278C1

Иллюстрации к изобретению SU 1 202 461 A1

Формула изобретения SU 1 202 461 A1

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ В ПРОЦЕССЕ ИХ ОСАЖДЕНИЯ, включающий регистрацию временной зависимости интенсивности собственного теплового монохроматического излучения образующейся структуры I(t) и определение толщины слоя по числу полупериодов этой зависимости и значению показателя преломления осаждаемого слоя, отличающийся тем, что, с целью повышения точности и расширения класса контролируемых слоев, перед осаждением измеряют излучательную способность и интенсивность собственного теплового излучения нагретой до температуры процесса осаждения исходной структуры на длине волны монохроматического излучения и искомую величину определяют, используя вычисленный по следующей форме показатель преломления h:

где εo излучательная способность исходной структуры;
среднее арифметическое значение интенсивности собственного теплового излучения исходной структуры;
(Iмакс + Iмин)N сумма соседних максимального и минимального значений интенсивностей, определенных из зависимости J (t), соответствующая последнему целому полупериоду.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 1995 года SU1202461A1

Kamins T.I
Dell Oca CI In-process thickness monitor for rolycrystalline silicon derosition
J Electrochem
Soc
Контрольный висячий замок в разъемном футляре 1922
  • Назаров П.И.
SU1972A1

SU 1 202 461 A1

Авторы

Биленко Д.И.

Ципоруха В.Д.

Даты

1995-07-25Публикация

1984-05-14Подача