Устройство для лужения Советский патент 1987 года по МПК B23K3/06 

Изобретение относится к устройствам для пайки и может быть использовано при подготовке к пайке выводов электрорадиоэлементов, в том числе микросхем,

Цель изобрет ения - повьпиение производительности устройства.

На фиг. показано предлагаемое устройство, разрез; на фиг.2 - то же, вид сверху; на фиг.З - то же, первый вариант исполнения; на фиг.4 - разрез А-А на фиг.З; на фиг.5 - устройство, второй вариант исполнения, вид сверху; на.фиг.6 - разрез Б-Б на фиг.З; на фиг.7 - гибкая лента, вид сверху; на фиг.8 - разрез В-В ка фиг.7; на фиг.9 - вид Г на фиг.7.

Устройство для лужения (фиг.1 и 2) содержит резервуар 1 (основная ванна) с расплавленным припоем 2 (нагревательные элементы не показаны), Держатели 3 микросхем 4 с выводами 5 установлены на транспортере 6 (в данном варианте транспортер 6 шаговый). Держатели 3, выполненные в виде корпуса с направляющими и пружиной, установлены на транспортере 6 с возможностью поворота на 90 и 180 (механизм поворота не показан). В ре- зервуаре 1 размещен дополнительный транспортер 7, выполненный в виде цепи. В отверстия втулок 8 транспортера 7 установлены штоки 9 с возможностью перемещения. На штоках 9 размещены ванны 10 для лужения (дополнительные ванны). Штоки 9 поджаты к кулачку 11 пружинами 12. Транспортер 7 натянут звездочками 13 на осях 14. Для предотвращения его прогиба служит направ- ляющая 15. Привод транспортера 7 выполнен в виде захватов 16, установленных на транспортере 17, имеющем об- привод с транспортером 6, взаимо- действуюш 1х с ваннами 10. Таким образом достигается уравнивание скоростей перемещения транспортера 6 с держателями 3 и транспортера 7 с ваннами 10. Профиль кулачка 11 выполнен с возможностью подьема ванн 10 в зоне лужения выше уровня припоя до погружения в припой ванн 10 вьшодов 5 микросхем 4 и с возможностью опускания ванн под действием пружин 12 ниже уровня припоя в резервуаре 1 при выходе их из зоны лужения. Профиль кулачка может предусматривать также участок для опускания ванн 10 при повороте держателя на 180° и подьема

5

Q 5 0 0

5

5

0

5

для окунания в припой выводов второй стороны микросхемы (для лужения второй стороны может быть предусмотрена и отдельная ванна, а между ваннами с припоем размещена ванна с флюсом для окунания в нее выводов второй стороны). Вне зоны лужения ванны 10 размещены ниже уровня, припоя 2. Стрелками показано направление перемещения транспортеров 6 и 7. На фиг.2 устройство условно показано без припоя. Кулачок 11 может быть выполнен подвижным с возможностью регулирования высотой его установки высоты подъема ванн 10. Кулачок 11 предназначен для управления перемещением ванн 10 перпендикулярно направлению движения транспортера 7 в горизонтальной плоскости. На фиг.З и 4 показан вариант выполнения устройства для лужения, содержащего два резервуара 1, выпол- HeHHiiix с возможностью передвижения их относительно друг друга (не показано) для наладки устройства на облу- живаемый тип микросхем. Каждый резервуар снабжен транспортером 7, движение которого осуществлено в вертикальной плоскости. Ванны 10 выполнены щелевыми с возможностью удержания в них при подьеме из резервуара 1 припоя капиллярными силами. Ширина щели может быть 0,5-1,5 мм. Ванны установлены на транспортере 7 таким образом, что в зоне лужения выводов образуют общую единую щель 18. Держатель 3 вьшолнен в виде многогнездовой кассеты. Привод транспортера 7 осуществлен посредством колес 19 от транспортера 6 (например, реечная передача), Транспортер 6 размещен между резервуарами 1, Кулачок 11 предназначен для подачи в зоне лужения ванн 0 до погружения в них выводов 5 микросхем 4.

На фиг.5 и 6 показан вариант выполнения устройства для лужения, содержащего два резервуара 1, выполненных с возможностью их раздвижения для нападки устройства на облуживае- мый тип микросхем. Между резервуарами 1 размещен держатель микросхем 4 на транспортере 6. Держатель 3 выполнен в виде многогнездовой кассеты. В каждый резервуар 1 установлена с возможностью перемещения замкнутая гибкая лента 20, образующая щелевую полость на прямолинейных участках. В зоне лужения в резервуарах 1 выполнены окна, перекрывающие щели гибкой ленты 20, которые служат ваннами для лужения. Внутренние поверхности щели ленты выполнены смачиваемым припоем. Ширина щелевой полости равна ширине щели в щелевых ваннах, т.е. 0,5-1,5 мм. Привод ленты показан в виде шкивов 21, 22 и 23, Шкив 22 приводится в движение от транспортера 6 колесами 24. Для направления ленты 20 в резервуаре 1 последний снабжен направляющими 25 и 26. На участках сгибов ленты 20 корпус н направляющие образуют с лентой 20 зазоры 0,050,2 мм, которые достаточны для движе-15 второй стороны микросхемы для опускания ленты, но недостаточны для проте- ния ванны 10 предусматривается поникания через них припоя, так как мате- жение профиля кулачка 11 (возможно риал 27 резервуара 1 и направляющие опускание ванны 10 ниже уровня при- 25 и 26 выполнены с поверхностями, поя в резервуаре 1). Держатель с мик- не смачиваемыми припоем. Для улучше- 20 росхемой поворачивают на 180 .

ния перемещения ленты 20 на ней может быть выполнена перфорация отверстий, а на шкивах 22 и 23 - соответствую- этим отверстиям выступы (не показаны) . Лента 20 взаимодействует с припоем 2 в резервуаре 1 на прямолинейном участке, противоположном зоне лужения. Стрелками показано направление перемещения держателя 3 и ленПри дальнейшем перемещении транспортеров 6 и 7 кулачком 11 осуществляют подъем ванны 10 до погружения в нее выводов микросхемы. После вы- 25 держки выводов в припое осуществляют опускание ванны 10, а держатель поступает в позицию выгрузки. В данном варианте время цикла зависит только

от времени загрузки - выгрузки микро

ты 20. Устройство может быть снабже- 30схем, которое может быть равно 1 с.

но механизмом очистки припоя, вьшол-При этом производительность устройненным в виде перегородки, установ-ства равна 3600 микросхем в час. ленной в щелевой полости ленты в зоне Отличие работы устройства, покавзаимодействия с припоем 2 в резер-занного на фиг.З и 4, заключается в

вуаре 1 (не показано). Лента. 20 снаб-35 г° держатель 3 обеспечивает

жена загнутыми лепестками 28, образую-непрерывную подачу микросхем 4. При ш,ими щелевую полость. Ширина лепестэтом транспортер 7, приводимый в движение от транспортера 6, на котором установлен держатель 3, также переков может быть 1-3 мм,глубина щели 5-6 мм. Лента показанас перфорированными отверстиями 29(фиг,9).

Устройство работаетследующим образом.

В варианте, показанном на фиг. и 2, транспортер 6 выполнен шаговым в связи с TBMj что его необходимо останавливать для загрузки и выгрузкн микросхем. Позиция загрузки показана

45 временно облуживают выводы обеих сторон микросхем. Размещение ванн 10 может быть согласовано с размещением микросхем в держателе 3, однако при образовании общей щели это необяза-

слева, а - справа на транспортере 6. На позиции загрузки в дер-50тельно. После выдержки выводов в при- жатель 3 устанавливают микросхему 4.пое ванны 10 отводят в исходное поло- Прн перемещении на один шаг транс-жение относительно транспортера 7. портера 6 держатель 3 поворачиваютДальнейшее перемещение транспортера на 90° для установки выводов в верти-у обеспечивает погружение в припой кальной плоскости (механизм поворота 55отработавших ванн 10.

держателя 3 не показан). Ванны 10 на транспортере 7 синхронно с транспортером 6 перемещают в резервуаре 1. В зоне лужения осуществляют посредФормула изобретения

1, Устройство для лужения, содержащее ванну с расплавленным припоем.

ством.кулачка 11 при перемещении транспортера 7 подъем ванн 10 выше уровня припоя в резервуаре до погружения в припой в ванне 10 выводов 5 на требуемую глубину. При подъеме ванны 10 сжимается пружина 9, осуществляющая возврат ванны в исходное положение при понижении профиля- кулачка 11. Выводы выдерживают в припое не более 2 с. В течение этого времени транспортер 6 может отработать несколько ходов, но ванна 10 неподвижна относительно выводов 5, погруженных в ее припой. Для лужения

При дальнейшем перемещении транспортеров 6 и 7 кулачком 11 осуществляют подъем ванны 10 до погружения в нее выводов микросхемы. После вы- 25 держки выводов в припое осуществляют опускание ванны 10, а держатель поступает в позицию выгрузки. В данном варианте время цикла зависит только

непрерывную подачу микросхем 4. При

этом транспортер 7, приводимый в движение от транспортера 6, на котором установлен держатель 3, также перемещается непрерывно и с той же скоростью, что и транспортер 6. В рабочей зоне лужения ванны 10 подают кулачком 11 до погружения вьшодов в припой на необходимую глубину. Одновременно облуживают выводы обеих сторон микросхем. Размещение ванн 10 может быть согласовано с размещением микросхем в держателе 3, однако при образовании общей щели это необяза-

тельно. После выдержки выводов в при- пое ванны 10 отводят в исходное поло- жение относительно транспортера 7. Дальнейшее перемещение транспортера у обеспечивает погружение в припой отработавших ванн 10.

Формула изобретения

1, Устройство для лужения, содержащее ванну с расплавленным припоем.

5132

транспортер с держателями деталей и привод его перемещения, отличающее ся тем, что, с целью повышения производительности, оно снабжено дополнительным транспорте- ром с последовательно закрепленными на нем дополнительными ваннами, при этом дополнительные ванны установлены с возможностью взаимодействия с основной ванной.

2. Устройство по и,1, отличающееся тем, что, с целью образования единой прямолинейной щели в зоне лужения, дополнительные ванны выполнены щелевыми и установлены на

776

транспортере без зазора относительн одна другой,

3.Устройство по пп,1 и 2, о т - личающее ся тем, что дополнительные ванны выполнены в виде замкнутой гибкой ленты с щелевой полостью для припоя, при этом по крайней мере часть ленты размещена в основной ванне,

4.Устройство по пп.1 и 2, о т - личающееся тем, что дополнительные ванны установлены с возможностью возвратно-поступательного перемещения относительно транспортера.

Изобретение относится к области пайки и предназначено для лужения выводов микросхем при подготовке к пайке. Цель изобретения - повышение производительности устройства. Устройство содержит резервуар 1 с жидким припоем 2, держатели 3 микросхем 4. В резервуаре 1 размещены ванны 10 для лужения. Устройство снабжено механизмом погружения выводов в припой путем подъема ванн 10. Транспортер 7 может перемещаться в горизонтальной плоскости и в вертикальной плоскости. В последнем случае возможно лужение одновременно с двух сторон выводов. Устройство может быть выполнено с гибкой лентой, в которой лепестки образуют паз для заполнения его припоем. Гибкую ленту перемещают с той же скоростью, что и держатели 3. Повышение производительности лужения достигается тем, что в момент лужения нет необходимости в остановке держателя с микросхемой, а непрерывное перемещение их обеспечивает убыстрение цикла, что зависит только от скорости перемещения. Производительность устройства зависит только от длины рабочей зоны лужения. 3 з.п. ф-лы, 9 ил. сл со to со ьо фиг.1

Г2

//

фигЛ

ери г. 5

; 2

fus7

в -в

cpas.3

Составитель Е.Тютченкова Редактор М.Дылын Техред И.Попович Корректор М.Демчик

Заказ 2907/15 Тираж 975Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4