Устройство для лужения погружением Советский патент 1977 года по МПК B23K3/06 

Изобретение .относится к пайке. Известны устройства, применяемые для лужения и пайки погружением. Такие устройства имеют резервуар с расплавленным припоем, в котором находятся приспособле ния для подачи припоя. В известном устройстве имеется ванна, извлекаемая из резервуара в момент пайки 1. Однако это устройство не обеспечивает очистку припоя в ванне в случае работы устройства без защитной жидкости, а сам уровень припоя в ванне не стабилен за сче различных условий слива из ванны. Известно также устройство для пайки деталей погружением, которое имеет подогреваемый резервуар с припоем и ванну Для пайки, а также поршневой unnHHltp, установленный в резервуаре, с радиальны- ми отверстиями, расположенными ниже уро ня припоя. Ванна для пайки располагае тся на рабочем торце поршня, который двигается внутри цилиндра. Забор свежего припоя происходит из внутренних слоев припоя резервуара, что повышаеткачество Inesmbix соединений 2. Однако при подъеме ванны в верхнее положение, где производится пайка или лужение детали, происходит отекание припоя по различным остающимся загрязнениям, находящимся на нарум ной стороне ванны. Мениск припоя (линия уровня) находится в неустойчивом положении и достаточно влияния какого-нибудь фактора, например, вибрации, как происходит слив неопределе ной дозы припоя, в результате уровень припоя является непостоянным при работе устройства. В связи с высокими требованиями к точности лужения выводов радиоэлементов, например, интегральных микросхем, огран чению тепловых загрузок . на выводы и как следствие этого к параметрам технологических процессов монтажа и сборки радиоэлектроаппаратуры в микроиспоянении необходимо иметь устройство с повьпиенно точностью уровня припоя. Целью изобретения является повышение точности уровня припоя.:

Это яосгигается теы, что подвижная ванна снабжена крышкой с прорезью, предназначенной для ввода элементов, подлежа, щих лужению, установленной и закрепленной на верхнем торце ванны на расстоянии не более 3,5 мм. При этом крышка имеет сь&йство смачиваться припоем.

Кроме того крышка имеет отверстия для удаления излишнего припоя с верхней поверхности крышки.

На фиг. 1. изображено устройство в разрезе (ванна находится в нижнем положении на фиг. 2 - то же, ванна находатся в верхнем положении.

-. Устройство для лужения погружением содержитподогреваемый резервуар 1с расплавяенным-прнпеем- у-йа- -верхнем- ypoi не которого находится слой защитной жи{К кости 3, предохраняющей поверхность- при поя 2 от окисления,

Ванна 4 (расположена внутри резервуара и имеет возможность перемещения вверх и вниз от приводного устройства.

Над верхним торцом ванны 1 4 установлена на расстоянии не более 3,5 мм крьпц ка 5, имеющая свойство смачиваться припоем, например, предварительно залуженная, с прорезью 6 для ввода выводов радиО - эйемента 7 при подъеме ванны 4 в верхнее «по лржение.

В резервуаре 1 установлена и закреплена к нему втулка 8, через отверстие в которой проходит вгнна 4.J При этом нижний торец втулки 8 находится ниже уровня Припоя 2, а верхний- над припоем 2.

На крышке Б имеются отверстия 9 для обеспечения возможности стекания излишнего припоя с верхней поверхности крышки.

При нижнем положении ванны 4, когда она находится ниже нижнего среза втулки 8 5г1рш1ой 2 заполняет внутреннюю полость втулки. Двигаясь вверх, внутри втулки, ванна выталкивает столб припоя, находящегося над ванной, через верхний торец втулки 8. Избыток припоя сливается в резервуар 1.

В рабочем верхнем положении (см.фиг.2 верхний тореп ванны 2 находится выше верхнего торца втулки. При этом оставшийся припой удерживается в ванне нижней поверхностью крышки 5, а излишки припоя удаляются через отверстия 9. Выводы радиоэлемента 7 опускаются в прорезь 6 крышки 5 и выдерживаются необходимое время в припое ванны.

После вьшолнения операции лужения ра диоэлемент 7 переносится на другую поз ПИЮ обработки, а ванна 2 опускается в исходное положение.

Устройство позволяет в момент .луж&ния иметь поверхность припоя, очищенную от загрязнений и окислов, а также удобно регулировать конечную высоту подъема вавны без нарушения стабильности уровня йрштоя, что имеет значение при механизи-г рованном лужениивыводов радиоэлементов

.Формула изобретения

Устройство для лужения погружением, содержащее подогреваемый резервуар с припоем, малую подвижную ванну Длялужецния, расположенную внутри резервуара, втулку, установленную внутри резервуара, отличающееся тем, что, с целью повышения точности уровня припоя, подвижная ватш снабжена крышкой, смачиваемой припоем, с прорезью для ввода облуживаемых элементов, закрепленной на верхнем торце, ваины с зазором относительно поверхности ванны.

Источники информации, принятые во внв мание при экспертизеУ

1.Авторское свидетельство СССР,

№ 222148, М. Кл. В 23 К 3/О6,,. 1965.

2.Авторское свидетельство СССР

№ 288524, М. Кл В 23 К 3/06, 196&