Дозатор сыпучего материала Советский патент 1987 года по МПК G01F11/00 G01F13/00 

Изобретение относится к устройстам для дозирования сыпучих материаов в процессах плазменного порош- ового напыления, в частности для нерерывного дозирования порошка в роцессе нанесения покрытий на трубы з кварцевого стекла, и является совершенствованием изобретения авт. св. № 1137309.

Целью изобретения является уменьшение расхода газа и повышение равномерности дозирования.

На фиг. 1 изображен дозатор сыпучего материала, разрез; на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1.

Дозатор сыпучего материала содержит основание 1, герметично соединенное с крышкой 2. В основании 1 за-. креплб ны патрубок газопровода 3, пат-- рубок 4 подач сыпучего материала в желоб 5 тарелки 6, соединенный с загрузочным бункером 7, патрубок 8 отбора сыпучего материала, подшипник 9 и стакан 10. Загрузочный бункер 7 снабжен дополнительным газопроводом 11 и регулирующим клапаном 12. Приводной вал 13 тарелки 6 установлен в подшипнике 9 с возможностью осевого перемещения, также как и ра- диально-упорный подшипник 14. Тарел- ка 6 имеет выступ 15 и отверстия 16и: установлена с зазором 17 относительно поверхности 18 основания 1. Патрубки подачи 4 и отбора 8 сьшучего материала установлены с зазорами: между патрубком подачи сыпучего материала 4 и дном 19 - зазор 20j стенкой желоба 21 - зазор 22; стенкой желоба 23 - зазор 24; между патрубком отбора сыпучего материала 8 и дном 19э стенками 21 и 23 - зазоры 25-27 соответственно. Между подшипником 14 и основанием 1 установлена прулсина 28 сжатия, прижимающая подшипник 9 к

.

шайбе 29. Входное отверстие 30 патрубка отбора сыпучего материала 8 выполнено в виде щели, длинная сторона 31 которой перпендикулярна оси желоба 5, а передняя кромка 32 смещена относительно передней образующей 33 патрубка 8 отбора сыпучего материала ТВ сторону газопровода 3.

0 Дозатор сыпучего материала работает следующий образом..

Сьшучий материал помещается в загрузочный бункер 7. По патрубку газопровода 3 и дополнительному газо5 проводу 11 подается рабочий газ, под давлением которого сыпучий материал поступает из загрузочного бункера 7 через патрубок 4 подачи сыпучего ма териала в желоб 5. Тарелка 6 враща0 ется с постоянной частотой и переносит сыпучий материал к патрубку 8 отбора сыпучего материала, в который последний увлекается газом, подаваемым по патрубку газопровода 3. Умень-5 шение расхода газа обусловлено малой площадью входного отверстия патрубка 8 отбора сыпучего материала, а повышение равномерности дозирования - уменьшением площади, с которой проис-0 ходит отбор.сыпучего материала.

Формула изобретения

Дозатор сыпучего материала по авт. св. № 1137309, отличающийся Тем, что, с целью уменьшения расхода газа и повышения равномерности дозирования, входное отверстие патрубка отбора сыпучего материала выполнено в виде щели, длинная сторона которой перпендикулярна оси желоба, а передняя кроЪ1ка смещена относительно передней образующей патрубка отбора сыпучего материала в сторону патрубка газопровода.

Фиг.г

ВШ1ИПИ Заказ 5987/38

Произв.-полнгр. пр-тие, г. Ужгород ул. Проектная, 4

Тираж 694 Подписное

Изобретение м.б. использовано для непрерывного дозирования порошка в процессе нанесения покрытий на трубы из кварцевого стекла. Для уменьшения расхода газа и-повышения равномерности дозирования входное отверстие 30 патрубка 8 отбора сыпучего материала вьшолнено в виде щели, длинная сторона которой перпендикулярна оси желоба 5. Передняя кромка щели смещена относительно передней образующей патрубка 8 в сторону газопровода 3. Сыпучий материал из загрузочного бункера .7 под давлением рабочего газа, подаваемого по газопроводам 3 и 11, поступает в желоб 5„ Вращающаяся с пост, скоро- . стью тарелка 6 переносит материал к i патрубку 8, в который он увлекается газом, подаваемым по патрубку газопровода 3. 2 ил. С S С 00 СП sl 00 2f Л 24 2i IS iS /9 21 2в Vuz.fI--