Устройство для электроискрового легирования Советский патент 1988 года по МПК B23H9/00 

4

о 4 к; ьс

N

Изобретение относится к электрофизическим и электрохимическим методам обработки и, в частности, касается устройств для электроискрового легирования.

Цель изобретения - повышение производительности обработки за счет ионизации межэлектродного промежутка лидирующим разрядом.

На чертеже изображена принципиальная схема устройства.

Устройство для электроискрового легирования содержит импульсный высоковольтный источник 1 питания, соединенный с управляемыми вентилями 2, блок 3 управления, выход которого соединен с управляющими входами 4 вентилей 2, разделительные цепочки 5, подключенные к анодам вентилей 2 и выполненные в виде параллельно включенных дросселей 6 и вентилей 7, стержневые электроды 8, установленные изолированно один от другого в диэлектрическом элект- рододержателе 9. Отрицательный полюс источника I питания, цепочки 5 и обрабатываемая деталь 10 заземлены.

Расстояние между стержнями электродов 8 установлено в диапазоне (0,4-0,8), где - критическое расстояние, при котором происходит пробой между электродами 8 при установленном напряжении источника 1 питания.

Верхний предел 0, обеспечивает гарантированный пробой по торцам электродов 8 (установлено экспериментально). Нижний предел 0,4t/Kp обеспечивает отсутствие коротких замыканий между электродами.

Устройство работает следующим образом.

Источник 1 питания вырабатывает высоковольтные импульсы, которые поступают на управляемые вентили 2 и вход блока 3 управления. Блок 3 управления открывает первый вентиль 2, импульс поступает на первый электрод 8 и первую разделительную цепочку 5. Таким образом, остальные электроды 8 в этот момент находятся под потенциалом земли относительно первого электрода 8. Так как разделительные цепочки 5 ненагруженных электродов 8 имеют в этот момент емкостно-активное сопротивление, а зазор между первым и вторым электродами меньще критического, то происходит пробой между первым электродом 8 и ближайшим к нему ненагруженным электродом 8.

Разряд проходит по торцам электродов 8 из-за краевого эффекта. Этот разряд ини- хширует пробой между первым электродом 8 и деталью 10. В момент возникновения следующего импульса блок 3 управления открывает второй управляемый вентиль 2. Высоковольтный импульс поступает на второй электрод 8. Процесс повторяется аналогично

Блок 3 управления последовательно распределяет высоковольтные импульсы до последнего электрода 8, затем возвращается на первый и т. д.

Емкостно-активный характер ненагруженных разделительных цепочек 5 по отнощению к электроду 8, находящемуся под напряжением, обеспечивается тем, что вентили 7 и дроссели б имеют паразитную е.м- кость и активное сопротивление, что приводит к возникновению разрядов между торr цами электродов 8.

Таким образом, при подаче высоковольтного импульса на электрод 8 первоначально за счет краевого эффекта и наличия паразитных емкостей происходит пробой между его торцом и торцами соседних электродов 8,

0 затем развивается разряд между электродом 8 и деталью 10. Лидирующий маломощный импульсный разряд между торцами электродов 8 обеспечивает ионизацию промежутка электрод 8 - деталь 10, что приво- дит к снижению плотности мощности на по- верхности детали 10. В результате умень- щается разрушающее воздействие искрового разряда, т. е. происходит улучшение микрогеометрических показателей обработанной поверхности, а также повыщается произво0 дительность.

Формула изобретения

Устройство для электроискрового легирования, содержащее источник питания,

5 вентили, диэлектрический электрододержа- тель и установленные в нем параллельно друг другу стержневые электроды, при это.м аноды вентилей соединены с положительны.м полюсом источника питания, катоды вентилей - с электродами, а отрицательный по0 люс источника питания заземлен, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности, вентили выполнены управляемыми, в устройство введен блок управления поочередным включением вентилей,

5 катоды вентилей заземлены через разделительные цепочки, содержащие параллельно включенные вентиль и дроссель, -а электроды установлены на расстоянии (0,4-0,8) , где - максимальное расстояние, на котором происходит пробой между электрода0 ми при заданном напряжении источника питания.

Изобретение относится к электрофизическим и электрохимическим методам обработки и, в частности, касается устройств для электроискрового легирования. Цель изобретения - повьппение нроизводнтель- ности легирования за счет ионизации межэлектродного промежутка лидирующим разрядом. Источник 1 питания вырабатывает высоковольтные импульсы, которые через управляемые вентили 2 поступают на электроды 8 поочередно. За ечет наличия разделительной цепи 5 из вентиля 7 и дросселя 6 и того, что расстояние между электродами 8 выбрано меньше критического, на котором происходит пробой, лидирующий разряд проходит через нагруженный электрод 8 и ближайший к нему. Происходит ионизация межэлектродного промежутка, после чего возбуждается основной разряд между электродом 8 и деталью 10. 1 ил. (Л с