Ячейка для электролитического покрытия металлами шеек коленчатых валов Советский патент 1989 года по МПК C25D5/06 

Изобретение относится к гальваническим покрытиям и может быть использовано для электролитического покрытия металлами шеек коленчатых валов. Цель изобретения - расширение технологических возможностей путем обработки шеек различных диаметров, автоматизация процесса и повышение качества покрытия - достигается тем, что ячейка содержит трубы 1,2,3 для подвода электролита, съемный анод 7, тампон 8 и дендритосниматель 6, при этом все трубы объединены через цилиндрические распределители 4 с распределительной головкой 5, а рабочая поверхность тампона и анода имеет форму дуги, эквидистантную поверхности обрабатываемого вала 9. 1 з.п. ф-лы, 4 ил.