Способ химического фрезерования металлических деталей Советский патент 1990 года по МПК C23F1/00 

Изобретение относится к методам химической размерной обработки металлов и может быть использовано в машиностроении для получения деталей различного профиля.

Цель изобретения - расширение технологических возможностей и получение деталей сложного профиля.

На фиг. 1 изображена схема устройства для.реализации способа химического фрезерования; на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1; на фиг.З - схема

к расчету профиля экрана : на фиг.4 (а,б,в,г) - профили деталей, которые 1можно получить по данному способу.

Устройство для реализации способа химического фрезерования металлических деталей содержит насадку 1, в которой фиксируется заготовка 2 прямоугольной формы. Вдоль обрабатываемой поверхности заготовки 2 устанавливают нерастворяющийся экран 3 определенного, предварительно рассчитанного профиля. Насадка 1 системой

трубопроводов соединена с центробежным насосом 4. У входа в насадку выполнена буферная емкость 5, служащая для стабилизации потока реагента. Вен тиль 6 и ротаметр 7 предназначены для установки требуемого расхода растворителя. Химический реагент после прокачки через зазор между заготовкой 2 и экраном 3 поступает в емкость 8.

Способ осуществляют следующим образом.

После установки и фиксации заготовки 2 в насадке 1 и размещения вдоль , обрабатываемой поверхности заготовки нерастворяющегося экрана 3 в образовавшийся между экраном и заготовкой зазор подают с постоянным расходом Х1тмическнй реагент. Вследствие изменяющейся по длине зазора скорости реагента происходит неравномерный С7эем металла заготовки и формирование детали заданного профиля. Неодинаковый запланированный металлосъем при диффузионном растворении обрабатываемой поверхности заготовки 2 вследствие изменения скорости реагента обеспечивают за счет переменного по длине сечения зазора между деталью

п - стехиометрический коэффициент.

Такое выполнение зазора обеспечивает создание потока реагента с изменяющейся по определенному закону скоростью вдоль поверхности растворения, что позволяет получить неравномерный запланированный съем металла и получение деталей сложной формы.

Формула изобретения

Способ химического фрезерования металлических деталей, включающий воздействие химического реагента на обрабатываемую поверхность при его принудительном прокачивании через зазор, образованный деталью и нераст- воряющимся экраном и переменный по длине детали, отличающийтехнологических возможностей и получения деталей сложного профиля, осу- ществляют не одинаковый вдоль обрабатываемой поверхности заготовки запланированный металлосъем при диффузионном ее растворении, создавая различные скорости реагента в переменных

Изобретение относится к методам химической размерной обработки металлов и может быть использовано в машиностроении для получения деталей различного профиля. Целью изобретения является расширение технологических возможностей и получение деталей сложного профиля. После установки и фиксации заготовки в насадке и размещения вдоль обрабатываемой поверхности заготовки нерастворяющегося экрана в образовавшейся между экраном и заготовкой зазор подают с постоянным расходом химический реагент. Изменение скорости реагента и как следствие неодинаковый запланированный металлосъем при диффузионном растворении обрабатываемой поверхности заготовки обеспечивают за счет переменного по длине сечения зазора между деталью и экраном. Ординату экрана по продольной координате X рассчитывают по формуле: H (X)=H(X)+{[H(X)-H₀]^M+1+ΑΤ}^1/(M+1), где Α=A₀^.C_R^.N^.(Q/B)^M.(M+1)/ρ

Τ - время обработки детали

H₀ - начальная толщина заготовки

H(X),H(X) - толщина детали и ордината экрана в произвольном сечении

A₀,M - постоянные кинетики растворения

ρ-плотность металла

B-ширина канала

X - продольная координата

C_R,Q - концентрация и расход раствора химического реагента

N-стехиометрический коэффициент. 4 ил.

и экраном. Ординату экрана по продолъ-30 по длине произвольных сечениях зазора

ной координате х рассчитывают по формуле1

Н(х) Мх) + Н(х) - + ) ,

Mp.(S)Vi);

время обработки детали; начальная толщина заготовки;

(x), (х)

А

о m

f

ъ

х С

R

толщина детали и ордината экрана в произвольном сечении;

постоянные кинетики растворения;

плотность металла; ширина зазора; продольная координата;

концентрация и расход раствора химического реагента;

5

0

5

0

между деталью п экраном, ординату экрана в которых по продольной координате рассчитывают по формуле: f

Н(х) h(x) + Н(х) - ) ,

/ А о Сап / Q nf . где с/ --- ) (т+ 1);

h(x),H(x) - толщина детали и ордината экрана в произвольном сечении; продольная координата; начальная толщина.заготовки;

постоянные кинетики растворения; время обработки детали; концентрация и расход раствора химического реагента;

стехиометрический ко- эффициент плотность металла; ширина канала.

х

ho

А,., га

л

L

г О

« ч

п

Р Ъ

t

Фиг.1

Фиг. 2

фиг. 5

ФигЛ