Фотополимеризующая композиция Советский патент 1991 года по МПК G03C1/58 

Изобретение относится к фотополиме- ризующимся композициям, которые используются химико-фотографической промышленностью для изготовления фотополимеризующихся пластин, применяющихся в полиграфической промышленности и других отраслях народного хозяйства для получения фотополимерных печатных форм.

Целью изобретения является улучшение теплостойкости фотополимеризующей- ся композиции и повышение качества фотополимеризующихся пластин.

Фотополимеризующаяся композиция включает в себя сложный эфир целлюлозы ацетосукцинат целлюлозы или ацетофталат целлюлозы формулы

СбН702(ОСОСНз)х (ООЖСООНМОН)нну)Ъ 0) где Х-1,6... 1,8;

Y-0.6...0.7;

Z-18Q...300;

R (CH2)2, С6Н4,

а также блоксополимер окиси этилена и окиси пропилена общей формулы

(С2Н40)п(СзНбО) (II) где RI - НО, Н(СН2}р, Н(СН2) LCOO, ОСзНеО; R2 - С2Н,0, (СзНбО)т; Кз-Н.(С3НбО)тН; п, т, mim 1-75. L-1-30

К 1 или 2 (соответствует валентности

Ri).

Пример 1.100 г (мае.ч.) ацетофталата целлюлозы формулы (I) со степенью замещения ацетильными группами х 1,75, степенью замещения фталильными группами (R - СвНз) у - 0,65 и степенью полимеризации z 230 смешивают с 50 г (мас.ч.) блок- сополимера формулы (II), имеющего следующие характеристики (табл. 2): RI - H(CH2), Ra - , RS - Н, m 9, п 4, ,K 1, 1 г .(мас.ч.) 1-хлорантрахинона и 0,1 г (мас.ч.) гидрохинона. Смесь тщательно перемешивают в смесителе до получения однородной массы и выдавливают через плоскощелевую головку шнекового экстру- дера-при 150°С. Получают пленку толщиной 0,7 мм. Пленку приклеивают к металлической подложке при помощи клея на основе гидроксилсодержащего уретанового каучука и отвердителя - полиизоцианата.

В качестве металлической подложки используют хромированную жесть толщиной 0,25 мм, покрытую эпоксидным лаком, включающим также бутанолизированную фенолпаратретичнобутилфеноформальдег- идную смолу и фосфорную кислоту в качестве отвердителя.

После отверждения клея в течение 48 ч полученные фотополимеризующиеся пластины подвергают испытаниям.

Оптимальное время экспонирования определяют следующим образом.

На поверхности фотополимеризующе- гося слоя закрепляют тест-негатив, содержащий повторяющиеся участки, экспонируют УФ-светом (лампы ЛУФ-80, расположенные на расстоянии 6 см от фото- полимеризующегося слоя) в течение различ- ного времени путем перекрывания отдельных участков тест-негатива светонепроницаемой бумаги. Вымывают пробелы 0,3%-ным водным раствором гидроокиси натрия при 40°С, контролируя время вымывания до клеевого слоя, промывают водой и сушат в естественных условиях. Полученную тест-форму рассматривают через лупу с увеличением х 10, За оптимальное время экспонирования принимают минимальное время, в течение которого образуются печатающие элементы, профиль которых у основания имеет угол 65 - 75°.

За оптимальное время вымывания принимают минимальное время, в течение которого пробелы на тест-форме, полученной при оптимальном времени экспонирования, вымываются до клеекого слоя.

Разрешающую способность определяют, рассматривая через лупу с увеличением хЮ миру разрешающей способности на

тест-форме, полученной при оптимальном времени экспонирования.

Аналогично готовят тест-форму для определения удельного сопротивления печатающих элементов сдвигу, экспонируя фотополимеризующуюся пластину через соответствующий тест негатиа в течение опти- мального времени экспонирования и вымывая пробелы в течение оптимального

0 времени, Удельное сопротивление печатающих элементов сдвигу определяют, испытывая тест-форму на разрывной машине.

Испытания повторяют через 3, 6 и 12 мес хранения образцов.

5 Результаты испытаний приведены в табл. 1 и 2.

Параллельно готовят фотополимеризующуюся композицию, в составе которой диглицидилметакрилат пентаэритрита за0 меняют аналогичным количеством триэтиленглмкольдиметакрилата. Из фото- полимеризующейся композиции готовят, как описано выше, фотополимеризующуюся пластину.

5Пластину испытывают аналогично описанному,

Примеры 2-10. Готовят по примеру 1 фотополимеризующуюся композицию, состав которой приведен в табл. 1 и 2. Из

0 композиции получают как описано в примере 1, фотополимеризующуюся пластину. Ее испытывают, как описано з примере 1,

Результаты испытаний приведены в табл. 3.

5 При подготовке материалов отбирают только те составы, которые обеспечивают получение фотополимеризующейся пластины и затем фотополимерной печатной формы. При содержании в композиции менее

0 25 мас.ч. эфира метакриловой кислоты, являющегося сшивающим агентом при иници- ированной УФ-светом радиальной полимеризации (фотополимеризации), теряется способность фотополимеризующейся

5 композиции к образованию трехмерной нерастворимой структуры, в результате чего формирование печатающего рельефа не происходит.

При содержании эфира метакриловой

0 кислоты белее 150 мас.ч. фотополимеризу- ющаяся композиция приобретает текучесть при нормальной температуре и непригодна к формованию слоя. При содержании пластификатора менее 25 мас.ч. фотополиме5 ризующаяся композиция теряет способность к переработке термопластическим способом. Содержание пластификатора более 100 мас.ч. придает композиции текучесть при нормальных условиях и тем самым потерю способности к сохранению

геометричесих размеров после формования. Содержание фотоинициатора менее 0,5 и более 5 мае,ч. не обеспечивает возможности получения фотополимерной печатной формы с печатающими элементами, проф- иль которых у основания имел бы угол 65 - 75°, ни при каких режимах экспонирования и вымывания. Содержание термоингибитора менее 0,05 мае.ч. не обеспечивает сохранности фотополимеризующейся композиции в процессе формования, при котором происходит термополимеризация, и слой оказывается неспособным к дальнейшей переработке. Содержание термоингибитора более 0,5 мас.ч. приводит к тому, что оказывает не только термо-, но и фотоинги- бирующее действие, в результате чего форму требуемого качества не удается получить ни при каких режимах экспонирования и вымывания.

целлюлозы ацетосукцинат целлюлозы или ацетофталат целлюлозы формулы СбН702(ОСОСНз)х(ОСОРСООН)у(ОН))Ь где R - (СН2)2, СбН4,

х 1.6-1,8;

у 0,6-0,7;

z 180-300,

а качестве эфира метакриловой кислоты - диглицидилметакрилат пентаэритрита или смесь диглицидилметакрилата пентаэритрита с триэтиленгликольдиметакрилатом, взятых в соотношении от 9:1 до 1:9, в качестве пластификатора - блок-сополимер окиси этилена и окиси пропилена формулы

(C2H40)n(C3H60),

где RI - ОН, H(CH2)LO, H(CH2)LCOO, ОСзНеО; R2 - С2Н40, (СзН60)т ; Рз - Н, (СзНеО)п Н,

т, n, mi, гц 1....75; С 1...30; R 1 или 2 (соответствует валентности RI) . в качестве фотоинициатора - 1-хлорантраТ л и ц а 2

Изобретение относится к фотополиме- ризующимся композициям, которые используются в полиграфической промышленности. Целью изобретения является улучшение теплостойкости фотополимери- зующейся композиции и повышение качества фотополимеризующихся пластин. Изобретение позволяет получать фотополи- меризующиеся пластины с оптимальным временем экспонирования после хранения пластин в течение 12 мес 7-9 мин, временем вымывания 8-10 мин, разрешающей способностью 100 за счет композиции (мае.ч.), включающей карбоксилсодержа- щий сложный эфир ацетосукцината или аце- тофталата целлюлозы 100, эфир метакриловой кислоты (диглицидилметак- рилат пентаэритрита или его смесь с триэти- ленгликольдиметакрилатом с соотношением компонентов от 9:1 до 1:9) 25-150, пластификатор (блок-сополимер окиси этилена и окиси пропилена) 25-100, фотоинициатор (1-хло- рантрахинон или диметилбензилкеталь) 0,5-5, термоингибитор (гидрохинон) 0,05- 0.5. 3 табл. сл с