УСТРОЙСТВО для ГОРЯЧЕГО литья КЕРАМИЧЕСКИХДЕТАЛЕЙ Советский патент 1967 года по МПК B28B1/26 C04B33/28 G01F11/32 G01F15/16 

Известные устройства для горячего литья керамических деталей, включающие установленные на основании обогреваемые и оснащенные мешалками шликерные резервуары и механизм дозирования шликера, малопроизводительны и не обеспечивают автоматического поддержания основных лараметров при литье.

В предлагаемом устройстве опорная поверхность основания шликерных резервуаров наклонена к горизонту, а механизм дозирования выполнен с эластичной диафрагмой, приводимой в движение посредством гидропровода. Это позволяет повысить производительность устройства и предотвратить расслоение шликера.

На чертеже ло.казана схема предлагаемого устройства.

Устройство включает установленные на основании шликерные резервуары 1 н 2, обогреваемые и оснащенные мешалками 3, и механизм 4 дозирования шликера в литьевые

2|

формы 5. Опорные поверхности 6 шликерных резервуаров наклонены к горизонту, что улучшает условия перемешивания и вакуумирования шликера, а также самотека его из о щ-Ого резервуара в другой, а оттуда черезклапан в зону дозирования. Механизм дозирования выполнен с эластичной диафрагмой 7, приводнмой в движение гидроприводом 8.

Предмет изобретения

Устройство для горячего литья керамических деталей, включающее установленные на основании обогреваемые и оснащенные мешалками шликерные резервуары и механизм дозирования шликера в литьевые формы, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности и предотвращения расслоения шликера, опорная поверхность основания шликерных резервуаров наклонена к горизонту, а механизм дозирования выполнен с эластичной диафрагмой, приводимой в движение посредством гидропривода.