ФОРМА ДЛЯ ЛИТЬЯ ПОД ДАВЛЕНИЕМ В ВАКУУМЕ Советский патент 1968 года по МПК B28B7/46 C04B33/28 C04B33/28 

Изобретение относится к формам для литья под давлением в вакууме топкостенны.х керамических изделий из шликера.

Известиые формы аналогичного назначения включают корпус с рабочими поверхностями, облицованными фильтрующим материалом.

Цель изобретения - интенсификация отбора жидкой фазы шликера.

Достигается это тем, что корпус формы выполнен с кольцевым пазом, сообщаюш,имся с помош;ью каналов с источником разрежения.

Па чертеже изображена описываемая форма.

Форма для литья под давлением в вакууме тонкостенных керамических изделий из шликера включает корпус 1 с рабочими поверхностями 2, облицованными фильтрующим материалом, в качестве которого могут быть использованы пористые виды пластмасс, керамики и т. п. Корпус / выполнен с кольцевым пазом 3, который с помощью каналов 4 сообщается с источником разрежения (с вакуумной установкой).

Залитый в форму щликер 5 с двух сторон сдавливается рабочими поверхностями 2 под

давлением до 600 кг/см. Одновременно с этим в кольцевом пазе 3, с противоположной стороны рабочих поверхностей 2, через каналы 4 создается разрежение. Сочетание высокого давления, вакуума и двусторонних рабочнх

поверхностей позволяет сократить время отбора жидкой фазы шликера до нескольких секунд.

Предмет изобретения

Форма для литья под давлением в вакууме тонкостенных керамических изделий из шликера, включающая корпус с рабочими поверхностями, облицованными фильтрующим материалом, отличающаяся тем, что, с целью интенсификации отбора жидкой фазы щликера, корпус выполнен с кольцевым пазом, сообщающимся с помощью каналов с источником разрежения.