СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТИТАНОВОГО ПОКРЫТИЯ ЭЛЕКТРОЛИЗОМ ИЗ РАСПЛАВА Советский патент 1969 года по МПК C25D3/66 

Известен способ лолучения титанового по крытия из расплава, содержащего низп1ие хлориды титана и хлориды щелочных и. щелочноземельных металлов.

Предложенный способ отличается от известного тем, что, с целью получения плотных и равномерных осадков сплава титан-ванадий, в расплав вводят низшие хлориды ванадия и анодный сплав титана с ванадием, процесс ведут при температуре 800-900°С и катодной плотности тока 0,1-1,5 а/см. Для проведения процесса электролитического осаждения сплава применяют электролизер, выполненный из нержавеющей стали.

Исходный расплав состоит из низших хлоРИДОВ титана и ванадия. Его готовят путем выдержки солевой смеси низших хлоридов ванадия (или титана) и хлоридов щелочных и (или) щелОЧноземельных металлов. Концентрация хлоридов ванадия или титана составляет 2-7 вес. % в пересчете на металл. Этот исходный расплав выдерживают в стальном тигле в течение 8-12 час при 900°С в атмосфере аргона в контакте с измельченным до крупности 5 мм анодным сплавом титана с ванадием. Длительная выдержка обеспечивает установление равновесия между низшими хлоридами титана и ванадия с одной стороны и сплавом титан - ванадий с

другой. В зависимости от нужного состава покрытия применяют анодные сплавы с содержанием от 5 до 50 вес. % ванадия.

Пример. При осаждении покрытия из электролита, полученного выдержкой исходной смеси хлоридов; хлористого натрия, хлористого калия и дихлорида титана (5 вес. % титана) в контакте с анодным сплавом, содержащем 25 вес. % ванадия (остальное титан), за 15 мин получают покрытие, толщиной 100 мк, хорошо сцепленное с катодом. При катодной плотности тока 0,2 а/аи2 в покрытии содержится 22 вес. % ванадия.

Покрытия на стали, полученные но предлагаемому способу, используют в качестве защитных в растворах солей и минеральных кислот.

Предмет изобретения

Способ получения титанового покрытия электролизом из расплава на основе низших хлоридов титана, хлоридов щелочных или щелочноземельных металлов, отличающийся тем, что, с целью получения плотных и равномерных осадков сплава титан - ванадий, в расплав ВВОДЯТ низшие хлориды ванадия и анодный снлав титана с ванадием, продесс ведут при температуре 800-900°С и катодной плотности тока 0,1 -1,5 а/см.