Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для получения рельефиых изображений, которые могут быть использованы, иапример, для получения печатных форм в полиграфии или для получеиия изделий, выполиенпых фотогравировкой, например при изготовлении полупроводниковых приборов - диодов, триодов и др., а также для изготовления металлических масок, сеток, шаблонов и других изделий в электронной промышлеиности.
Известны фотонолимеризующиеся композиции, состоящие из полимера - сополимера бутадиена и акрилонитрила и сенсибилизатора азидного типа, например 2,6-ди-(4-азидобеизаль) циклогексанона.
Одиако эти фотополи.меризующиеся композиции удовлетворительио выдерживают действие кислых травителей низких и средних концентраций. Концентрированные кислоты, нанример плавиковая, и особеипо окислители, азотная кислота, разрушают эти фотоиолимеризующиеся композиции. В щелочных средах с концентрацией выще 5% эти фотоиолимеризующиеся композиции не применяются ввиду их недостаточной щелочестойкости.
Предлагаемая композиция отличается тем, что для получения рельефных изображений с высокой химической стойкостью к кислым и щелочным средам любой концентрации, а
также высокой стойкостью при электролитических процессах в гальванических ваниах состав ее состоит из хлорвинилового полимера и сенсибилизатора азидного типа, напрпмер 2,6-ди-(4-азидобензаль) циклогексанона. Пример 1. Берут композицию следующего состава:
Лак ХСЛ (ГОСТ 7313-55), ,мл50
Сенсибилизатор, г0,5-I
Хлорбензол, мл15
Толуол, мл35
Расчетное количество сенсибилизатора (очувствителя) растворяют в смеси хлорбензола и толуола, добавляют в лак ХСЛ и фильтруют. Полученный композиционный лак наносят на обезжиренную поверхность заготовки иоливом с последуюидим цеитрифугироваиием. Для активации фотополимеризации заготовку с паиесеииым слоем подвергают термообработке прп 100-120°С в течение 10 мин. Затем через стеклянный негатив ртутно-кварцевой ламиой нроизводят экспоннроваиие слоя в течение 5 мин ири освещенности 20000 лк. Полученную копию проявляют в смеси органических растворителей, наиример, бутилацетат, ацетои и толуол в соотношении 1:2:7 об. ч. в течение 3 мин с последующей душевой промывкой водой для удалеиия остатков растворенного слоя и сушкой. При необходимости для увеличения адгезии полученного рельефного изображення к подложке последнее подверггпот термообработке при 180-190°С в течение 10 мин до нолучепня черного блестящего слоя. Пример 2. Берут комнознцпю следующего сосгава: Перхлорвиыиловая смола, г Сенсибилизатор, г Хлорбензол, мл Толуол, мл Расчетное количество смолы растворяют в толуоле, а сенсибилизатор в хлорбензоле. Полученные растворы сливают и фильтруют. Композицию наносят на обезжиренную поверхность заготовки нутем нолива с последующим центрифугировапием. Для активацнн фотополимеризацин заготовку с ианесенным слоем нодвергают термообработке при 100-120°С в течение 10 мин. Через стеклянный негатпв нроизводят эксионировапие слоя ртутно-кварцевымп лампами 5 мин при освещенности 20000 лк. Копню проявляют в оргаипческих растворителях, например в смеси бутилацетат, ацетон, бутанол, в соотношеппи 1:2:7 об. ч. в теченне 3 мин с последующей душевой промывкой водой для удалепня остатков растворенного слоя и сушкой. При необходпмостн получепное рельефное изображение подвергают термообработке при 180- 190°С в течепие 10 мин. Пример 3. Беру композицию следующего состава: Полнхлорвиииловая смола, г10 Сенсибилизатор, г0,5-1 Циклогексанон, мл100 Расчетное количество смолы и очувствителя (сенсибилизатора) растворяют в циклогексаноие. Полученный раствор фильтруют. Комнознцию наносят на обезжнренную поверхность заготовки путем нолива с последующим центрифугированием. С целью активации фотоиолимеризации заготовку с нанесенным слоем сушат при 100-120°С в течение Юлия. Затем через стеклянный негатив нроизводят эксионирование с помощью ртутнокварцевой ламиы в течепие 5 мин ири освещенности 20000 лк. Копию проявляют в смеси циклогексаиона н бутанола (2:1) в течение 2- 3 мин с последующей душевой промывкой водой и сушкой. Для улучшения адгезии иолученного рельефного изображения к подложке последнее нагревают до 180-190°С и выдерживают нри этой температуре 10 мин. Предмет изобретения Фотополпмеризующаяся композиция для иолуче Н1я рельефных изображений на основе хлорвиниловых нолимеров, отличающаяся тем, что, с целью получения рельефных пзображеинй с высокой стойкостью к кислым и щелочным средам любой концентрации, а также высокой стойкостью при электролитических ироцессах в гальваипческих ваниах, в состав композпцип введен сенсибилизатор азидиого типа, например 2,6-ди-(4-азидобензаль) Циклогексанон.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ получения защитных рисунков с помощью негативных фоторезистов | 1978 |
|
SU920624A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕГАТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА | 1968 |
|
SU211317A1 |
СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ МАТЕРИАЛ | 1972 |
|
SU330421A1 |
Бессеребряная светочувствительнаяКОМпОзиция | 1978 |
|
SU811196A1 |
Фотографический материал | 1972 |
|
SU475594A1 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЕМЫЙ ЛАК | 1972 |
|
SU343456A1 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩИЕСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНЫХ ИЗОБРАЖЕНИЙ | 1969 |
|
SU246320A1 |
Светочувстивтельная негативная композиция | 1976 |
|
SU622036A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОМПОЗИЦИИ РЕГИСТРИРУЮЩЕГО СЛОЯ ТЕРМОПРОЯВЛЯЕМОГО ФОТОМАТЕРИАЛА | 1983 |
|
SU1153694A1 |
СОСТАВ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО СЛОЯ ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА | 1985 |
|
SU1360403A1 |
Авторы
Даты
1970-01-01—Публикация