Светочувстивтельная негативная композиция Советский патент 1978 года по МПК G03C1/68 

Описание патента на изобретение SU622036A1

Изобретение относится к светочувст вительным негативным композициям, используемым при производстве печатных плат и интегральных микросхем в ф-отолитс графин.

Известна светочувствительная негативная композиция, включающая светочувствительный сополимер стирола и аляилового спирта, модифициоованный хлоран гвдридом фуранкарбоновой кислоты, сенсибилизатор-4,4 . -бис (диметиламино) .бензофенон и органический растворитель, например хлорбензол ij.

Недостатком известной негативной композиции является ее низкая светочув ствительиость.

Цель изобретения - повышение светочувствительности негативной композшши.

Поставленная цель достигается тем, что предлагаемая светочувствительная не гативная композиция, вк/гючающая светочувствительный сополимер стирола 4,4бис (диметиламнно) бензофенон и хлорбензол, в качестве светочувствительного сойолимера стирола содержит сополимер

стирола и п-формилстирола при следующем соотношении кокотонентов, вес.%:

Сопо/шмер стирола

3-5

и п -формилстирола

4,4-бис-(диметипамино) беизофенон

0,1-0,2

Хлорбензол Остальное

Предлагаемая композиция обладает повышенной светочувствительностью, входящий в ее состав сополимер стирола и П-формилостирола дешев и доступен.

Пример. Получение сополимера стирола и п -формилстирола.

1,ОО г (О,ОО8 моль) п-формилсти- рола; 1,42 г (О,О14 моль) стирола; О,0096 г (0,О25 моль/л) диШ1Т5 ила азоизомасляаой кислоты н 0,О12 г (о,025 моль/л) додецилмеркаптана помешают в ампулу, подсоединенную к форвакуумному насосу. Из реакционной смеси удаляют воздух, ампулу заполняют аз том. Сополимеризацию ггооводят в термостате при 7О ± О,О5 С в течение 4,5 ч. По окончании реакции ампулу охлаждают, содержимое растворяют в бензоле и высаждают 5-6-кратным избытком метилового спирта. Сополимер сушат до постоянного веса. Выход сополимера 1,84 г (76%)Сополимер представляет собой белый аморфный порошок. Содержание звеньев формилсткролр 3.7,2 мол.%. Мол.ввс образца 35,. П р и м е р 2. Получение негативно работающего защитного слоя. Готовят светочувствительную композииию следующего состава, вес.%: светочувствительный полимер 3-5, сенснбилнаатор О,1-О,2, растворитель - остальное На обезжиренную кремниевую подложку с напьшенным слоем алюминия нанося методом центрифугирования при 2,5тыс. об/мин, слой полимерной композиции ТОЛЩИНОЙ 0,15-0,20 мкм. Слой высушивают в течение 1О мин при комнатной температуре и 2О мин при 75-8ОС. Экспонирование фотослоя проводят методом контактной печати лампой ДРШ-25О на установке экспонирования и совмешення УСП-О2 при освещенности 2О25 тыслкжс в течение 30-35 с. Проявление изображения осуществляют погружением в раствор хлорбензола на 2 мин и высушиванием струей воздуха. Качество изображения контролируют с помощью микроинтерферометра МИИ-4. Разрешающую способйость светочувствительной компознови определяют с помощью штриховой миры (1ОО линий/м Получено четкое разрешение линий во всех элементах миры. Сушку Проявленного слоя (задубливанив) Осуществляют ступенчато: в течение 1О Mtfa при 110 С и затем 15 мин при 13О°С. Травление алюминия проводят горячей (85 С) ортофосфорной кислотой. КомПО.ЗИЦИЯ проявляет удовлетворительную тойкость к травителю в течение 8-10 мин, получены вытравленные рельефы. Предлагаемая композиция обладает светочувствительностью 1 10 лк с что на порядок выше светочувствительно сти композиции-прототипа. Кроме того, предлагаемая композиция обладает хорошей адгезией к алюминию и хорошей стойкостью к ортофосфорной кислоте, может использоваться в качестве негативного фоторезиста при производстве печатных плат и микросхем. Формула изобретения Светочувствительная негативная композиция, включающая светочувствительный сополимер стирола, 4,4-бис-(диметиламино) бензофенон и хлорбензол,о т л ичающаяся тем, что, с целью повышения) светочувствительности композиции, в качестве светочувствительного сополимера стирола композиция содержит сополимер стирола и П -формилстирола при следующем соотношении компонентов, вес.%: Сополимер стирола и it -формилстирола3-5 4,4-бис(диметиламйно) бензофенонО,1-О,2 ХлорбензолОстальное Источники информации, принятые во внимание при экспертизе: 1. Патент США № 3738973, кл. 260-47, 1973.

Похожие патенты SU622036A1

название год авторы номер документа
Фотополимеризующаяся композиция 1981
  • Кузнецов Владимир Николаевич
  • Тряпицын Сергей Алексеевич
SU996984A1
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ СУХОГО ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА 1999
  • Тряпицын С.А.
RU2163724C1
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 2000
  • Цейтлин Г.М.
  • Кузнецов И.В.
RU2190869C2
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ СУХОГО ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА 1985
  • Тряпицын С.А.
  • Кузнецов В.Н.
SU1295930A1
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ ВОДНО-ЩЕЛОЧНОГО ПРОЯВЛЕНИЯ 1986
  • Бобров В.Ф.
  • Быстров В.И.
  • Пергамент А.Л.
  • Кузнецов В.Н.
  • Тряпицын С.А.
  • Волков В.П.
SU1342280A1
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 1985
  • Кузнецов В.Н.
  • Валеев И.Б.
SU1371281A1
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 2000
  • Цейтлин Г.М.
  • Кузнецов И.В.
RU2190870C2
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 2000
  • Цейтлин Г.М.
  • Кузнецов И.В.
RU2190871C2
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 1992
  • Бутовецкий Д.Н.
  • Ковшова Н.Я.
  • Крупнов Г.П.
  • Быстров В.И.
  • Шипова Л.М.
RU2054706C1
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1984
  • Кузнецов В.Н.
  • Тряпицын С.А.
  • Валеев И.Б.
SU1199089A1

Реферат патента 1978 года Светочувстивтельная негативная композиция

Формула изобретения SU 622 036 A1

SU 622 036 A1

Авторы

Бурыкина Людмила Константиновна

Былина Георгий Станиславович

Зятьков Иван Павлович

Григорьев Владимир Васильевич

Сагайдак Дмитрий Ильич

Даты

1978-08-30Публикация

1976-03-26Подача