Изобретение относнтся к области плазменного нанесения покрытия.
Известно устройство для подачи сыпучих материалов к установкам плазменного на иыления, содержащее герметичный корпус с выходиым .каналом и узел дозироваипя, выполпеиный в виде регулировочной иглы с нейтральным каналом для подачи газа.
Предложенное уст-ройство отличается от 1 звестного тем, что в регулировочной игле на расстоянии от ее нижнего конца равным ее ходу имеются отверстия, расположенные в радиальиом иаправлеиии. Это обеспечивает равиомерность нодачи материала к устаиовке.
На чертеже изображено предложенное устройство и разрезы по А-А и Б-Б.
Устройство содержит герметичный корнус / с выходным каналом 2 н узел дозирования, выполненный в виде регулировочиой иглы 3 С центральиым каналом 4 для подачи газа. В игле 3 на расстоянии от ее пижнего конца равным ее ходу имеются отверстия 5, расположенные в радиальиом направлепии.
Перед загрузкой регулировочиая гайка 6 ставится в положепие «открыто. Бозвратиая пружина 7 поднимает регулировочную иглу, которая открывает канал 2. Засыпка порои1ка через выходпой канал 8 пронсходнт носле поворота устройства на 180° в вертикальной плоскости. После этого гайка 6 ставится в положение «закрыто, п регулировочная игла закрывает каиал 2. Затем устройство новорачивают в рабочее иоложеппе выходным каналом вниз. Па регулировочную иглу иадевают шланг 8 для подвода газа, а на выходной канал - гнланг 9 для транспортировки порошка. После включения подачи газа последний,
пройдя по капалу 4 п через отверстия 5 с больпюй скоростью, сжижает близлежаище к выходному капалу объемы порошка, который вытекает пз канала 2 подобно жидкости, попадая в илазмепную горелку.
Предмет н з о б р е т е п п я
Устройство для подачи сыпучих материалов к установкам плазменного иапыленпя, содержащее гермет1пп1Ый корпус с выходным каналом и узе.т дози:рования, выиолиеппы1 в виде регулировочной иглы с центральным каналом для нодачи газа, отличающееся тем, что, с целью обеспечения равномериостп нодачи материала, в регулировочной нгле на расстоянии от нижнего конца равным, ее ходу имеются отверстия, расположенные в радиальном направленпи.
npOKjia fco fi т/ о ен1/ц„ОткрытоA-A
6-6
„Открыта
Закрыто
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Порошковый питатель | 1986 |
|
SU1406026A1 |
Порошковый питатель | 1980 |
|
SU931796A1 |
Устройство для дозирования сыпучего материала в поток | 1981 |
|
SU974129A1 |
СПОСОБ ЭКОНОМИЧНОГО ПЛАЗМЕННОГО СВЕРХЗВУКОВОГО НАПЫЛЕНИЯ ВЫСОКОПЛОТНЫХ ПОРОШКОВЫХ ПОКРЫТИЙ И ПЛАЗМОТРОН ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (ВАРИАНТЫ) | 2006 |
|
RU2361964C2 |
ДВУХТОПЛИВНАЯ ФОРСУНКА ДВС | 2022 |
|
RU2784858C1 |
ДОЗАТОР ПОРОШКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ | 2010 |
|
RU2445583C1 |
Устройство для пневматической транспортировки сыпучих материалов из замкнутой емкости | 1982 |
|
SU1063745A2 |
ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН | 2016 |
|
RU2614533C1 |
ПЛАЗМАТРОН | 2003 |
|
RU2225084C1 |
Устройство для дозирования порошков с последующим смешиванием | 2019 |
|
RU2709180C1 |
Даты
1970-01-01—Публикация