ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ СОСТАВ Советский патент 1973 года по МПК G03F7/32 H05K3/28 

Описание патента на изобретение SU398914A1

1

Изобретение от 1осится к те.хнике изготовления многослойных иечатных илат.

Известен фоточувствительный состав для заищты миогослойных иечатных плат при травлении отверстий плат на основе пленкообразуюи1,его полимера, содержащий наполнитель, пластификатор, сенсибилизатор, сшивающие агенты и растворитель.

Известный фоточувствительный состав в качестве заидиты ири травлении отверстий в диэлектрике разрушается или отслаивается в процессе изготовления многослойных печатных схем.

С иелью повыщения химической устойчивости .состава к воздействию травптеля в предлагаемом фоточувствительном составе в качестве основного пленкообразующего полимера использован тройной этиленпропилендиеиовый соиолимер.

Рельефиое покрытие на осиове вышеуказанного состава устойчиво к действию смеси концентрированных серной и .плавиковой кислот при 65±2°С в течение 35-40 мин, а также к кислым и щелочным электролитам, применяемых в последующей операции металлизации отверстий.

Ниже приводится примерное содержание составляюидих смеси в иересчете на сухой остаток, %:

Тройной

этиленпронилендиеновыйсополимер марки

скэпт (с ненасыщенностью

1-5%)100

Полимерный наполнитель (полихлорвиниловая смола)20-50 Пигмент (фталоциамин, окись

цинка)20-40

Органические перекиси (перекись дикумила, грег-бутилпербензоата)1-10

Сенсибилизатор (хлорантрахинон, бензантрон, нафтохинон и др.)1 -10

Органические соли металлов переменной валентности (соли марганца и кобальта)0,52-2 Органические растворители ароматического ряда или бинарные смеси олефипов500-900.

Составляют композицию и получают рельеф следующим образом.

Приготавливают 3%-ный раствор СКЭПТ

в толуоле и фильтруют через батист. Затем

последовательио взвешивают все остальные

компоненты композиции, растворяют их в

небольших количествах толуола и сливают в

раствор сополимера, тщательно иоремещивая.

Пигмент в виде пасты, получещюй иеретиранием его с небольшим количеством раствора

СКЭПТ на шаровой мельнице в течение 40 час 6водят в общий раствор. После 7-10 час перемешивания фотосостав фильтруют через батист. Готовый фотосостав наносят на подложки из фольгированного диэлектрика поливом или окунанием до толщины П01кр|)1тия 12-15 мк и сушат при 110°С в течение 30 мин.

Затем образец экспонируют под ртутнокварцевой лампой ПРК-7 через негатив при непосредственном контакте последнего с экспонируемой Поверхностью с помощью вакуумной рамы. Расстояние от лампы до экспонируемой поверхности 200 мм. Время экспонирования 15 мин.

После экспонирования пластинки погружают в проявитель, представляющий собой

одну из смесей - керосин ; ацетон в соотношении 4:1, или н-гептан : ацетон -4:1, получая при этом рельефное изображение, адэкватное негативу.

Предмет изобретения

Фоточувствительный состав, например, для защиты многослойных печатных плат при травлении отверстий плат, на основе пленкообразующего полимера, содержащ 1Й наполнитель, пластификатор, сенсибилизатор, сшивающие агенты и растворитель, отличающийся тем, что, с целью повышения химической устойчивости состава к воздействию травителя, в качестве основного пленкообразующего полимера использован тройной этиленпропнлендиеновый сополимер.

Похожие патенты SU398914A1

название год авторы номер документа
Фотополимеризующаяся композиция 1981
  • Кузнецов Владимир Николаевич
  • Тряпицын Сергей Алексеевич
SU996984A1
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 1985
  • Кузнецов В.Н.
  • Валеев И.Б.
SU1371281A1
Фотополимеризующаяся композиция 1976
  • Кузнецов Владимир Николаевич
  • Карпов Владимир Дмитриевич
  • Милованов Владимир Павлович
  • Балакин Эдуард Михайлович
  • Козлов Виктор Иннокентьевич
SU739462A1
КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ЕЕ ОТВЕРЖДЕНИЯ 1997
  • Бирбаум Джин-Луц
  • Кунц Мартин
  • Кимура Акира
  • Кура Хисатоши
  • Ока Хидетака
  • Накашима Хироко
RU2210798C2
Светочувствительный материал для получения изображений 1977
  • Такео Мориуа
  • Тоси Ямагата
SU948301A3
ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ ДЛЯ ТРАФАРЕТНОЙ ПЕЧАТИ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ 2006
  • Абрамов Владимир Николаевич
  • Арефьев Николай Михайлович
  • Кочуков Алексей Викторович
  • Яковлев Владимир Борисович
RU2321037C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОПИРОВАЛЬНОГО МАТЕРИАЛА С НЕГАТИВНЫМИ СВОЙСТВАМИ 1966
  • Роланд Морав
SU215848A1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ 1983
  • Кузнецов В.Н.
  • Зверева Л.Н.
  • Валеев И.Б.
SU1222073A1
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1984
  • Кузнецов В.Н.
  • Тряпицын С.А.
  • Валеев И.Б.
SU1199089A1
ЭЛАСТИЧНАЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ 1998
  • Шибанов Владимир Викторович
  • Маршалок Игорь Иосифович
  • Мокрый Евгений Николаевич
  • Дзиняк Богдан Остапович
  • Блинов Владимир Николаевич
  • Капируля Владимир Михайлович
RU2141975C1

Реферат патента 1973 года ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ СОСТАВ

Формула изобретения SU 398 914 A1

SU 398 914 A1

Даты

1973-01-01Публикация