СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ШЛИФОВАЛЬНОЙ ШКУРКИ Советский патент 1973 года по МПК B24D11/00 

1

Изабретвн.ие касается производства шлифавалыного ивструмента.

Известен способ получвЕия шлифовальной шкурки, ПредуОмат/риваюш.ий навесение зерна «а основу ic иапользованИем элвкт|ростат1Ичеоких сил поля. При реал-изаадии известного ОПОСоб.а «Зблюдается распыление абразива из межэлектрояиого пространства в результате ослабления Поля .между основой и заряжаю1ЦИМ эл.актродОМ.

Для уст|ранвН1ИЯ указанного недостатка основе с клеем леред ее поступлением в осадительную «амеру соабщают дополиительный заряд, одноименный по полярност1И потйнци.алу осадительного электрода, при этом основа приобретает потенциал, по величине промежуточный между потенциалами заряжающего н осадительного электродов.

Предлагаемый cnoiCOi6 1иллюст|рируется чертежом.

В осадительной «амере 1 раз1меш;ены заземленный наряжающий электрод 2 и осадительный элакт|род 3, совдииеняый с высоковольтньш источником 4. Перад осадительной камерой установлен дополкителыный короиирующий электрод 5, «а который подается высокое напряжение от источника 4 через переменный делитель -напряжения 6. Над KOipOHWРУЮЩИ1М эл0кт1родо1М 5 устаповлен заземленный плоский электрод 7. Основа 8 подается с барабана 9, а готовая шкурка наматывается на приемный барабан 10.

После нанесения слоя клея основа 8 лопадает в промел уток между элект рода1ми 5 и 7, пде поверхность клея заряжается ионами, образующимися в поле KoipoH.Horo (разряда вблизи электрода 5 (в данном случае образуется заряд положительной полярности). Далее основа 8, несущая «а поверхности раюномериый элвкт|ричеокий заряд, поступает в осадительную камеру /, пде происходит осаждение Siaряженных на электроде 2 абраз-ианых частид на основу. В результате осаждения ионов на

поверхности основы 8 она приобретает потенциал, по величине промежуточный между потен|Циалам:и осадительного электрода 3 и заряжающего электрода 2. Электрическое пол-е концентрируется -меладу зарялсающим элекТ1родом и основой, п частицы образива -в подавляющем больщинстве летят на оонову, не распыляясь в окружающее пространство. Кроме того, равномерный лаверхностный заряд основы 8 способствует однородному нанесекию абразивных частиц на поверх1ность основы. Далее основа 8 с нанесенным абразивом проходит через сушильное устройст во (на чертеже не показано) и наматывается на приемный барабан 10. С помощью переменного делителя напрял ения 6 под.бирается оптимальная ipasiHocTb потенциалов злактродами 5 я 7, а следовательно, и шотенциал ocHiOвы 8.

П р е д М е т и з о б .р е т е и и я

1. Способ (Получения шлифовальной путем электроосаждения абразива на покрытую «леем основу, отличающийся тем, что, с щелью .исключения распыления а1бра;ЗИВ1Ного материала из межэлактродного прострадства и ip;a(BHOMBpiHoro расире делвн1ия его по повархности оюновы, 1ПО Слвдней neipein злектронанесепием абразива сообщают заряд, одноименный по полярности потенциалу осадительного электрода, TaiK что основа П р:ио1бретает потенциал, по величине промежуточный между потенциалами заряжающего и осадительного эл-ектроД01В.

2. Опоооб по п. 1, отличающийся тем, что электрический зарящ, сообщают путем осаждения «o-HOiB униполярного коронного разряда.

,3. Cnocoi6 1ПО п. 1, отличающийся тем, что электрический заряд соо-бщают путем облучения потоком частиц ионизирующи х излучений, на1пример а- или .