ТРАВИТЕЛЬ ДЛЯ ПЛЕНОК ОКИСИ ЖЕЛЕЗА Советский патент 1974 года по МПК H01L21/465 

1

Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов на напыленных пленках окиси железа.

Известно, что пленки, формируемые реактивным катодным распылением в кислороде, не .поддаются травлению в ко,пцентр,ированных кислотах при комнатной температуре.

Повышение температуры увеличивает испарение .кислоты и ухудшает адгезию фоторезиста, что отрицательно влияет на качество фотолитографии.

Цель изобретения состоит в разработке травителя для пленок окиси железа, который позвол.ит получить воспроизводимый р-исунок при фотолитографии.

Суш,ность изобретения состоит в том, что для травления ллеиок окиси железа Ре2Оз используется концелтрированная соляная кислота с добавлением солей FeCl2 или FeS04, ускоряюш,их процесс.

Приготовляется травитель следующим образом: в концентрированную соляную кислоту (уд. вес 1,18) добавляется соль FeCl2 или FeS04 из расчета: НС1 85-99 вес. % и FeCb или FeSO4 1 - 15 вес.%.

Меняя количественный состав компонентов травителя, можво регулировать скорость травления наиылезшых пленок окиси железа.

ЧТО очень существенно при проведении фотолитографии иа пленках Fe2O3, так как скоростью Т1ра(вления о/п.ределяется точность .передачи -рисунка при фотолитографии.

П р и м е р. Пленка окиси л елеза толщи0

НОЙ 1500-:2000 А напыляется на обезжиренную стеклянную подложку реактивным катодным распылением в кислороде. На подложку наносится фоторезист на центрифуге при ско0рости вращения 1100-1200 об/мин.

После этого подложку сушат, экспонируют и проявляют обычиы.м способом. Травление производят в 1%-иом растворе FeS04 в концентрированной соляной кислоте уд. веса 1,18.

После вытравливания рельефа фотошаблона фоторезист удаляют в диоксане и тщательно промывают в дистиллированной воде.

0

Предмет изобретения

Травитель для пленок окиси железа на основе концентрированной соляной кислоты, отличающийся тем, что, с .целью увеличения

5 скорости травления и улучшения воспроизводимост:- рисунка при фотолитографии, ои содержит соли двухвалентного железа от 1 до 15 вес. %.