Устройство для напыления прямоугольных интерференционных клиньев Советский патент 1974 года по МПК C23C15/00 

1

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может применяться для нанесения покрытий методом термического испарения при изготовлении интерференционных фильтров.

Известно устройство для напыления прямоугольных интерференционных клиньев, содержащее вакуумную камеру, испарители, подложкодержатели и поворотный механизм.

Недостаток известного устройства состоит в том, что оно малопроизводительно и имеет сложную конструкцию. Ири использовании устройства возможно нанесение слоев лишь переменной толщины, а следовательно, изготовление лишь диэлектрических клиновидных фильтров, и невозможно получение металлодиэлектрических фильтров, где требуется чередование слоев переменной и постоянной толщины.

Цель изобретения - упрощение конструкции и повышение производительности устройства.

Эта цель достигается тем, что держатель подложек выполнен в виде снабженной регулировочным винтом оправы, которая установлена на подставку в виде усеченного под углом полого цилиндра, размещенного в гнезде зубчатого колеса, взаимодействующего с зубчатым сектором механизма вращения.

На чертел е изображено предлагаемое устройство.

2

Устройство состоит из вакуумной камеры (на чертеже не показана), размещенных в ней испарителей и держателей напыляемых подложек. Держатель подложек выполнен в

виде установленной . на подставку в форме усеченного под углом полого цилиндра 1 оправы 2, представляющей собой круглый металлический диск с посадочным местом 3 для покрываемых подложек 4 и регулировочным

винтом 5 для нодрегулировки угла наклона подложек.

Устройство ставится в посадочное место 6 вращающегося держателя деталей подколпачной арматуры.

Для нанесения слоев равномерной толщины устройство ставится в посадочное место обращенным высокой стороной цилиндра к центру вакуумной камеры, т. е. к оси 7 вращения арматуры.

Испаритель 8 размещается так, чтобы в среднем расстояние между испарителем и двумя концами покрываемой подложки за полный оборот деталей вокруг оси 7 вращения оставалось одинаковым. Для этого йенаритель 8 ставится против удаленного конца подложки.

Для нанесения слоя переменной (клиновидной) толщины устройство при том же угловом положении подложек ставится обращенным низкой стороной цилиндра к оси 7 вращения, а испаритель 8 помещается против

3

опущенного конца подложки. В этом случае сохраняется постоянная разность между расстояниями испарителя и точками поверхности подложек.

Устройство поворачивается без нарушения вакуума с помощью механизма, состоящего из вращающегося шлифа 9 с секторной шестеренкой 10. При вращении шлифа с секторной шестеренкой поворачивается оправа 6 вместе с устройством.

Спектральный диапазон длин волн клиновых фильтров определяется количеством испаряемого вещества и материалом подложек, а ширина спектрального диапазона регулируется углом наклона подложек, устанавливаемым высотой цилиндра и регулировочным винтом.

Предмет изобретения

Устройство для напыления прямоугольных интерференционных клиньев, содержащее вакуумную камеру и размещенные в .ней испарители и держатели напыляемых подложек, связанных с механизмами вращения, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения производительноCTjr устройства, держатель подложек выполнен в виде снабженной регулировочным винтом оправы, которая установлена на подставку в виде усеченного под углом полого цилилдра, размещенного в гнезде зубчатого KO.ieca, взаимодействующего с зубчатым секто)ом механизма вращения.