Нагреватель для подогрева окисляемых в кислородной плпзме образцов Советский патент 1975 года по МПК C23C13/12 

1

Изобретение относится к тонкопленочной микроэлектронике.

Известен нагреватель для подогрева окисляемых в кислородной плазме образцов, содержащий столик с нагревательным элементом.

Однако известный нагреватель имеет низкую равномерность нагрева окисляемых образцов.

Цель изобретения - повышение равномерности нагрева окисляемых образцов.

Для этого нагревательный элемент выполнен в виде расположенной внутри столика, герметически закрытой и электрически изолированной от столика пластины, причем столик выполнен из неокисляемого термостойкого материала, например, из нержавеющей стали.

На чертеже показан предлагаемый нагреватель.

Предлагаемый нагреватель содержит корпус 1 столика, диэлектрические прокладки 2, нагревательный элемент 3, крышку 4 столика и вакуумный токоввод 5.

Корпус 1 столика выполнен из теплопроводящего неокисляемого и термостойкого материала, например из нержавеющей стали. Нагревательный элемент выполнен из тугоплавкого металла (вольфрам, молибден и т. д.) плоской формы и размещен в выфрезероваином окне корпуса столика, причем одной стоРОНОЙ он жестко соединен с корпусом столика, а другой - с вакуумным токовводом 5. Вакуумный токоввод 5 выполнен по стандартной технологии и жестко закреплен на крышке 4 столика. Вторым токовводом является контакт поверхности столика с корпусом установки. Крышка 4 столика вакуумно плотно соединена с его корпусом I с помощью вакуумного уплотнения - металлической прокладки 6.

Диэлектрические прокладки 2, служащие для предотвращения короткого замыкания нагревательного элемента и максимальной передачи от него тепла на стенки корпуса, изготовлены из тугоплавкого вакуумного и теплопроводящего диэлектрика (например, окисноберрилиевой керамики).

С целью осуществления процесса получения необходимой окисной пленки диэлектрическая подложка 7 с нанесенным слоем окисляемого вещества 8 жестко закрепляется на столике и подводится к окну плазменного генератора 9.

Процесс подогрева образцов осуществляется следующим образом.

В момент достижения оптимальной толщины окисной пленки в кислородной плазме осуществляется нагрев подложки с целью обеспечения дальнейщего роста окисла в процессе подачи на нагревательный элемент электрического напряжения. В начальный момент процесса окисления используются токи высокой плотности, в результате чего происходит скоростной нагрев столика, поскольку выделяемая тепловая энергия расходуется только на его нагрев, причем поверхность столика равномерно нагревается по всей плоскости соприкосновения с -подложкой благодаря высокой теплопроводности диэлектрических прокладок 2 и минимальному объему, занимаемому плоским нагревателем внутри столика. После достижения необходимой температуры расход электроэнергии снижается в связи с уменьшением плотности тока нагревателя до значения, требуемого для поддержания оптимальной температуры подлол ки. 4 Предмет изобретения Нагреватель для подогрева окисляемых в кислородной плазме образцов, содержащий столик с нагревательным элементом, отличающийся тем, что, с целью повыщения равномерности нагрева окисляемых образцов, нагревательный элемент выполнен в виде расположенной внутри столнка, герметически закрытой и электрически изолированной от столика пластины, причем столик выполнен из неокисляемого термостойкого материала, например из нержавеющей стали.

/Г/7 //

ъ Q

5; Сз

Ньслород

vX

U

сз

: