Светочувствительный негативный материал Советский патент 1976 года по МПК G03C1/00 

Изобретение относится к озеточузстзительным негативным материалам, применяемым в электронной, радиотехнической и полиграфической Промышленности.

Известен светочувствительный негативный материал - фоторезист, состоящий из подложки и светочувствительного слоя, содержащего плеикообразующую компоненту, сенсибнлизатор и растворитель. В -качестве пленкообразующей К01мпоненты ,в такОМ фоторезисте иопользуется модифицированный синтетпчеокий или натуральный каучук 1. Известный фоторезист обладает хорощей адгезией к подложке и разрешает линии шириной от 10 до 25 мкм При толщине слоя от 0,5 до 2,5 мкм, но имеет нестабильные свойства.

Известен также светочувствительный негативный материал - фоторезист, состоящий из 1ПОДЛОЖ1КИ и .светочувствительного слоя, содержащего Плен1К.ООбразующую компоненту- двойной С0полиме;р полиц1жлогек;садие;1а-,3 с зтиленовы1м Соеди-нением, сенспби.тизатор и ра|ст(воритель 2.

Оветочувствительный негативный материал на основе С01полимера полициклогексадиел.а-1,3 (ПЦГД) и.меет пороговую светочувслствительность 3Q --- и .коэффициент контрастOOfC

лости 7 . С ПОМОЩЬЮ светочув:Ствительны

материалов iia основе сополимера лолици.клоreiKcaдиена-L3 можно воспроизводить элементы схемы размером 5-10 мкм.

Одна1ко такой фоторезист имеет небольшие разрешающую способность, -светочувствительность t коэффициент контрастности.

Целью изобретения Я вляется повышение разрешающей способности, светочувствительности и прочности светочувствительного слоя.

Для этого предлагают использовать в каче:.тве пленкообразующей комлоненты трои;:ого сополи.мера циклогексадиена-1,3 дигидронафталина и дивинила при следующем соот 1ошении, вес. %:

Цикл oreixca диен-1,30,1-40

Дигидронафталин15-40

ДивинилОстальное

СветОчув:тБптельный слой фоторезиста н-меет пороговую светочувствительность

с W

S,, .4 коэффициент контрастности дж

Фотор

V v

тозволяет 1получать элеме/ь

ЗИСТ

ты размером 2 мкм. Введение третьей компоненты в сополимер (дигидронафталина) по1выщает механическую прочность слоя, что уменьшает возможность проколов при обработке слоев. Фоторезист обладает .хорошей адгезией :к гидрофильной поверхности и щелопестойкостью.

При,мер. Сополимер, содержащий 40% цшклогаксадиена-1,3, 20% дигидронафталина и 40% диви:нила, е весовой Ичонцентра.ции 20% .растворяют ,в смеси толуола и /г-ксилола в соотиошении 2:1. Сенсибилизатор, растзореииый в толуоле, сливают с раствором сополимера в соотношеиии 4:100 по весу сухих продуктов. РаспвОр светочувствительного состава фильтруют и иамосят на подложку методом цент1рифугирОВания. Слои фоторезиста сушат 15 мин иа ,воздухе и 30 мин при 70° С. Экспонироваяие ведут через стекляи1иый фотошаблон лампами ДРШ-250 или СВД-120 или другими источниками излучения, имею1ЦИ1МИ линии излучения в области 350-370 нм. О.блучен.ная пленка тароявляется в 3 порциях толуола 1ПО 0,5 мин s жаждой для удаления иеоблучепных участков. Фоторезист позволяет получать объе1кты размером 2 мкм.

Фор м у Л а

Светочуаствительный негативный материал, состоящий из подложки и светочувствительного слоя, содержащего пленкообразующую 1ко,мпоненту, сенсибилизатор и растворн1ель, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности, светочувствительности и прочности светочувствительного слоя, в качестве пленкообразующей компоненты ои содержит тройной сополимер ци|;слоге.ксадиена-1,3, дигидронафталипа и дивинила при следующем соотнощении, вес. %:

Цн;клогексаднен-1,30,1-40

15-40

Ди.гидроиафталин

Остальное.

ДИ;ВИННЛ

ИСтОЧ ники информации,

принятые во внимание при экспертизе::

1.Авт. ciB. Ло 249939 кл. G 03 С 1/00, 1967.

2.Авт. св. 330421 кл. G 03 С 1/00, 197

(прототип).