Матрица для завальцовки герметичного химического источника тока Советский патент 1977 года по МПК H01M2/00 H01M6/00 

1

Изобретение относнтея к электротехнической промышленности и быть использовано для изготовления герметичных химических источников тока.

Известна матрина для завальдовкн герметичного химического источника тока, содержащая корпус с вертикальным цилиндрическим каналом 1.

Невозможность применения такой матрицы для завальцовки изделий, высота которых определяется размерами электродов н сепарирующих деталей, является ее недостатком.

Наиболее близкой к изобретению по технической сущности и достигаемым результатам является матрица для завальцовки герметичного химического источника тока, содержащая корпус с вертикальным ступенчатой формы Ц11лиидрическим каналом со скруглеи ыми краями 2.

Недостатком такой матрицы является невысокая надежность герметизации элемента ввиду того, что завальцовка осуществляется на нежесткую основу и при этом возникают определенные трудности получения профиля химического источника тока, совпадающего с нрофилем матрицы, что является одним из основных условий, обеспечивающих надежпость по электрическим параметрам и герметичности.

С целью повышения надежности герметпзацип предлагается выполнять матрицу с отношением радиуса скругления верхней ступени канала к его диаметру, равным 0,01-0,02.

На чертеже изображена описываемая матрица, разрез.

Устройство работает следующим образом.

Нри опускании матрицы на завальцовываемый химический источник тока происходит центрирование изделия по диаметру нижней ступени вертикального цилиндрического канала, при этом в его верхней ступени осуществляется обжатие корпуса изделия н получение герметичного бортика, профиль которого зависит от характера деформации корпуса химического источника тока, который определяется отношением радиуса г скругления верхней ступени канала матрицы к его диаметру d.

Один из факторов - иоминал радиуса скругления верхней ступени канала матрицы- определяет степень соответствия бортика химического источника тока диаметру матрицы и геометрическую форму бортика. При уменьшении радиуса увеличивается развальцовка изделия (уменьшение диаметра бортика в районе радиуса матрицы и получение обратного конуса в верхней части бортика). Увеличение радиуса обеспечивает уменьшение износа матрицы, но в то же время приводит к

затруднениям в достижении требуемого профиля бортика химического источника тока. Поэтому допуски на радиус должиы быть нредельно ужесточены. Второй фактор-диаметр верхней ступени канала матрицы---учитывает влияние жесткости корнуса завальцовываемого изделия. Учет взаимосвязи радиуса и диаметра верхней ступени канала матрицы позволяет комплексно решить вопрос обеспечения профиля бортика химического источника тока.

Фор м у л а и 3 о б р е т е и и я

Матрица для завальцовки герметичного химического источника тока, содержаии1Я корпус с вертикальным ступенчатой формы цилиндрическим каналом со скругленными краями, отличающаяся тем, что, с целью повышения надежности герметизации, отношеHi;e радиуса скругления верхней ступени канала к смч) диаметру равно 0,ОЬ--0,02.

Источники информации, принятые во внимание нри экспертизе

1.Патент США № 2837593, кл. 136-166, 1958.

2.Дамье В. Н. и Рысухин Н. Ф. Производство гальванических элементов н батарей. М., «Выснгая школа, 1970, с. 297.