Способ нанесения металлических покрытий на изделия из металлов, диэлектриков или полуироводников с расиылением металла покрытия ири помощи искрового разряда уже известен.
Отличительной особенностью изобретения является использование для переноса частиц покрывающего металла фиксированной ударной волной, возникающей в междуэлектродиом промежутке и направляемой BbieMKoii в катоде.
Сущность изобретения поясняется прилагаемым чертежом.
Ударная волна, возникающая при искровом разряде, выбрасывает из зоны искры пары металла электродов. Локализация действия этой волны в пространстве, т. е. ее кумуляция, достигается предлагаемой конструкцией электродов. Анод А про.ходит через катод К, который имеет в своей толще выемку. Ударная волна, фокусируясь в этой выемке, направленно выбрасывает облако паров металла электрода, которое и иро зводит покрытие.
Обрабатываемое изделие .V располагается на расстоянии d от электродов и непосредственному воздействшо не подвергается. Это расстояние на много больше расстояния / между электродами, так что пробоя па изделие не .может произойти. Кроме того, изделие не включается непосредственно в с.чему.
Электрод А, служит для разгона частиц металла, с целью больщего внедрения и.х в изделие. С помощью этого способа покрываются металлом любые материалы: диэлектрики, полупроводники и проводники.
Предмет и з о б р е т е и и я
1. Способ нанесення металлических покрытпй на изделия из металлов, диэлектриков или полупроводников с распылением металла покрытия при помои;и искрового разряда, отл и ч а ю щи и с я тем, что частицы покрывающего металла направляются на покрываемую поверхность изделия увлекающей их фиксированной ударной волной, возникающей в междуэлектродном промежутке.
2. Устройство для нанесения покрытий по п. 1, отличающееся тем, что оно состоит из массивного металлического катода, являющегося вспомогательным электродом, имеющим углубление на поверхности, обращаемой к покрываемому изделию, причем рабочая часть электрода из металла покрытия помещена в полость указанного углубления, играющего роль кумулятивной выемки.
