Состав для очистки магнитных головок Советский патент 1980 года по МПК G11B5/41 

I

Изобретение относится к приборостроению и может быть использовано для очистки магнитных головок (МГ) в процессе эксплуатации аппарата магнитной записи (АМЗ), где эти МГ установленьи

Известно устройство, предназначенное для очистки МГ в процессе эксплуатации АМЗ, выполненное с петлей магнит ной ленты (МЛ), на одном из участков основы которой нанесен абразивный слой, очищающий аё только МГ, но и Прижимной ролик, ведущий вал и направляющие стойки ij.

Недостаток устройства в том, что абразивный слой выполнен из крупнозернистого порошка, что для ферритовых головок непригодно.

Наиболее близким к предлагаемому является состав для очистки МГ в АМЗ, наносимый на общую с рабочим слоем основу МЛ, содержащий в качестве абразивного материала алмазный , равномерно распределенный в связующем Ы.

Однако использование такого состава не только снимает с МГ продукты износа рабочего слоя МЛ, но и разрушает кромки рабочего зазора МГ, что выводит головки из строя.

Цель изобретения - осуществле1ше возможности восстановления в прсадессе чистки рабочей поверхности МГ исходной формы рабочего зазора.

Эта цель достигается за счет того, что в состав дополнительно введены дибутилфталат и 12%-ный раствор коллоксилина при следующем соотношении ингредиентов, вес. ч:

Алмазный порошок14-16

Дибутилфталат1,5-2,5

12%-ный раствор коллоксилина23-27

Растворитель53-65

При приготовлении состава в качестве алмазного используют абразив ный типа АСМ-5 (ГОСТ 92О6-7О), а в качестве связующего - в чистом виде 12%-ный раствор коллоксилина, состоящий из собстве но коллоксилина j в колЛичестве 12 вес. ч спирта 44 вес. ч. и ацетона 44 вес. ч. Для равномерного распределеиия в свяаукицем порошка, имеющего абразивный характер, т.е. алмазного порошка, исполь зуется растворитель, содермсащий, вес.ч: толуол 3Q ацетон 14, этил ацетат 21, бутил ацетат 26 и бутиловый cniqxr 9. Все это тщательно перемешиваетсй и сушится, потом наносится на основу магнитной ленты, именно на те участки основы, которые абсолютно чисты. В противном случае, учитывая, что все основы ЛШ в Жстоящее время выйолняются на базе полиэфирных смол, адгезия абразивного слоя окажется слабой, что может привести не только к порче самой МЛ, но и к деформации элементов АМЗ, куда попадет опавший с МЛ абразивный порошок. Использование предлагаемого состава создает условия для длительного сохранения работоспособности таких дорогих элементов АМЗ как МГ, удешевляет производство АМЗ и процесс его настройки, а также снижает потребление феррита. 7 Формула и 3 о б Р е т е н и я Состав для очистки магнитных головок в аппарате магнитной записи, наносимый на общую с рабочим слоем основу мапнигной ленты, содержащий в качестве абразивного материала алмазный порсоибк равномерно распределенный в связующем, отличающийся тем, что, с целью осуществления возможности восстановления в процессе чистки рабочей поверхности магнитных головок исходной формы рабочего зазора, в состав дополнительно введены дибутилфталат и 12%-ный раствор коллоксилина, при следующем соотношении ингредиентов, вес. ч.: Алмазный порошок14-16 Дибутилфталат1,5-2,5 12%-ный раствор коллоксилина23-27 Растворитель53-65 Источники информации, пркиятые во внимание при экспертизе 1.Патент США № 3439922, кл. 274-47, 22.О4.69. 2.Патент Японии Nfe 7747, кл. 1О2 Е О,; 25.04.66 (щзототип).