(54) СПОСОБ ДЕФЕКТОМЕТРИИ ОБЪЕКТОВ В ЭЛЕКТРИЧЕСКОМ ВБ1СОКОЧАСТОТНОМ ПОЛЕ
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ дефектометрии в высокочастотном электрическом поле | 1980 |
|
SU960614A1 |
Способ вихретоковой дефектометрии не-фЕРРОМАгНиТНыХ Об'ЕКТОВ | 1979 |
|
SU847176A1 |
Устройство для электромагнитной дефектометрии | 1980 |
|
SU945769A1 |
Электромагнитный способ измерения глубины дефектов протяженных электропроводящих объектов | 1980 |
|
SU938123A1 |
СПОСОБ МАГНИТОПОРОШКОВОЙ ДЕФЕКТОСКОПИИ И УСТРОЙСТВО, ЕГО РЕАЛИЗУЮЩЕЕ | 2022 |
|
RU2806246C1 |
Способ определения подверженности металлопроката изгибу и устройство для его осуществления | 2021 |
|
RU2780147C1 |
ПИРОЭЛЕКТРОМАГНИТНЫЙ СПОСОБ НЕРАЗРУШАЮЩЕГО КОНТРОЛЯ | 2000 |
|
RU2189583C2 |
Способ вихретоковой дефектометрии | 1988 |
|
SU1627970A1 |
СПОСОБ КОНТРОЛЯ И УПРАВЛЕНИЯ РЕЖИМАМИ РАБОТЫ ВАКУУМНЫХ ДУГОВЫХ ПЕЧЕЙ | 2003 |
|
RU2240365C1 |
СПОСОБ ДЕФЕКТОМЕТРИИ ПРОКАТНЫХ ЛИСТОВ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1998 |
|
RU2123401C1 |
I
Изобретение относится к способам неразрушающего контроля и может быть использовано для измерения параметров поверхностных дефектов.
Известен способ дефектоскопии объектов в электрическом высокочастотном поле, заключающийся в том, что объект контроля включают в цепь высокочастотного разряда и регистрируют топографию электрического поля на фотографической пластине, и по полученному изображению судят о параметрах дефектов 1.
Указанный способ не обеспечивает необходимой точности контроля, т. е. не позволяет судить о глубине выявляемых дефектов.
Наиболее близок к изобретени1о по технической сущности способ дефектометрии объектов в электрическом высокочастотном поле, заключающийся в том, что объект контроля включают в цепь высокочастотного разряда и с помощью оптико-электронного индикатора регистрируют топографию электрического поля 2.
Однако и этот способ не обеспечивает необходимой точности контроля, так как не
позволяет достоверно судить о глубине выявленных дефектов.
Цель изобретения - измерение глубины дефектов.
Поставленная цель достигается тем, что на объект контроля воздействуют постоянным магнитным полем, направленным по нормали к исследуемой поверхности, регулируют напряженность Н магнитного поля до получения четкого изображения переднего плана дефекта, измеряют установленную величину напряженности Н Н, из10меняют Н до получения четкого изображения заднего плана дефекта, измеряют величину Я Яг я по разности двух измеренных значений Н г-Н определяют глубину дефекта.
Сущность предлагаемого способа пояс15няется чертежом, где представлена схема контроля.
Схема контроля включает электрод 1, выполненный в виде разрядной обкладки и подключаемый к генератору высокой часто20ты, оптико-электронный индикатор 2, последовательно соединенные соленоид 3, ось которого перпендикулярна поверхности экрана оптико-электронного индикатора, источник 4 постоянного тока, регулировочный резистор 5 и измеритель 6 тока.
Предлагаемый способ реализуется следующим образом. Объект 7 контроля включают в цепь высокочастотного разряда, размещая его на электроде 1, и наблюдают полученное изображение с помощью оптикоэлектронного индикатора 2. Ток через соленоид 3, создаваемый источником 4 постоянного тока, регулируют с помощью резистора 5 до получения четкого изображения переднего плана дефекта. С помощью измерителя 6 тока измеряют величину тока в обмотке соленоида, пропорциональную напряженности Н магнитного поля. Резистором 5 изменяют величину тока-через рДмотку соленоида 3 до получения четкого изображения заднего плана дефекта, .яют величину установленного тока, пропорциональную Яг, определяют разность измеренных значений Н, и по ней о глубине дефекта.
Предлагаемый способ позволяет измерить глубину поверхностных дефектов, что существенно повышает информативность контроля.
Формула изобретения
Способ дефектометрии объектов в электтрическом высокочастотном поле, заключающийся в том, что объект контроля включают в цепь высокочастотного разряда и с помощью оптико-электронного индикатора регистрируют топографию электрического поля, отличающийся тем, что, с целью измерения глубины дефектов, на объект контроля воздействуют постоянным магнитным полем, направленным по нормали к исследуемой поверхности,регулируют, напряженность Н магнитного поля до получения четкого изображения переднего плана дефекта, измеряют установленную величину напряженности Н - Нi, изменяют Н до получения четкого изображения заднего плана дефекта, измеряют величину Я Яги по разности двух измеренных значений ) определяют глубину дефекта.
Источники информации,
принятые во внимание при экспертизе
№ 118135, кл. G 01 N 27/62, 1957 (протс-ип).
/////Л
Авторы
Даты
1981-07-07—Публикация
1979-08-01—Подача