Способ обработки полимерных эфиров метакриловой кислоты (оргстекло), с целью использования в качестве основы для фотографических материалов Советский патент 1952 года по МПК G03C1/74 

При изготовлении О бычных фотодластиноК в качестве подложки применяют стекло, а. при изготовлении форматных фотопленок подложкой служит целлулоид.

Оба типа подложки имеют с тцестзенные недостатки: первый - большой вес и хрупкость, а второй - большой процент усадки как в процессе фотографической обработки, так и во время хранения готового фотоснимка или негатива.

Предлагаемый способ позволяет устранить недостатки указанных типов фотоподложек благодаря применению в качестве основы для фотографических материалов полимерных эфиров метакрпловой кислоты (оргстекло) с дополнительныл5 покрытием поверхности оргстетсла лаком «на основе триацетата целлюлозы, предупреждаюндим десенсибилизацию светочувствительной эмульсии.

Сущность юиособа заклю-чается в следующем.

Фотоподложку изготавливают из полимерных эсЬиров лзетатер иловой кислоты (оргстекло) и покрывают одну ее сторону, предназсначенную для светочувствительной эмульсии, алоем лака.

Лак готовят из триацетата целлюлозы (3%-ный раствор), растворенного в смеси метилвнхлорида и метанола в соотношении 9:1. В готсвый лак добавляют дибутилфталат в количестве 20% от пленкообразующего вещества. На фотоподложку лак наноситс.ч обычным порядком путем полива или путем купагния фотсподложки. После этюго сушат лакированнугю фотоподложкл в токе сухоро воздуха при темПарат фе 50- 60°.

ДлЕ удержания эмульсионного слоя па лаковую сторону фотонодлож;; ; иас-юсится подстюй, состоящий из 1 % желатины, 19,75% зоды,

1% фта.ггиевой кислоты, 16% зтилового снпрта, 62% ацето а и 0,25% формалина (40%-ный раствор).

Ha ieceHVc на фотоподлол ку подслоя и сушка его производятся о-бычпым порядком, принятым в фотохимической промышленггэст;- пр;; производстве сЬотолл а стинс:-;.

Предмет и з о О р е тени я

Способ обработки полимерных эфиров метакрлл-овой .кислоты (орг№ 93344 стекло) с целью использования в качестве основы для фотографических материалов, отличающийся тем, что поверхность оргстекла покрывают лаком на основе триацетата целлюлозы и дальнейший полив ведут способами, применяемыми при поливе на триацетатную основу.