Ванна для гальванического нанесения медного покрытия на стальную основу Советский патент 1957 года по МПК C25D3/38 

Изобретение относится к составу ванны для гальванического нанесения медного покрытия на стальную оснсву.в частности, при изготовлении печатных радиосхем по методу переноса. Известные составы ванн для гальванических покрытий такого рода, содержащие сернокислые электролиты, не обеспечивают достаточно благоприятной структуры металла покрытия и дают нежелательно прочное сцепление между покрытием и стальной основой, что затрудняет процесс переноса при изготовлении печатных схем.

Для устранения этого недостатка поедлагается, согласно изобретению, использовать ванну, содержащую пирофосфатный электролит следующ,его состава:

1.Окись меди (СиО) - 40 г/л или

углекислая медь

(СиСОз)- 60 г/л

2.Фосфорная кислота

(НзРО.,)-100 г/л

или пирофосфорная кислота (H.iPaO)-100 г/.1

3. Пирофосфат натрия

(NaiP207 10Н,0) .- 300 -

400 г/л

Приготовление электролита производится следующим образом.

В кипящую фосфорную кислоту, разведенную до соответствующей концентрации, вводят порощкообразную окись меди. За счет выделения тепла при образовании фосфата меди жидкость полностью выпаривается. К сухому осадку добавляют нужное количество воды и в полученную взвесь фосфата меди вводят пирофосфат натрия. Полученный раствор фильтруют и сливают в ванну. Электролит без перемещивания допускает катодную плотность тока до 3-4 а/дм, а при перемещивании - до 8- 10 а1дм-. Ванна работает при температуре электролита 45-60° и кислотности рН 8-11.

Предмет изобретения

Ванна для гальванического нанесения медного покрытия на стальную основу, в частности, при изготовлении печатных радиосхем по методу

№ JIM03 -2 -

переноса, отличающаяся тем,(СиО)-40 г/л или углекислой мечто, с целью улучшения структурыди (СиСОз) - 60 г/л; фосфорной

осажденного 1металла н уменьшениякислоты (НзРО-)) или пирофосфорсценления покрытия со стальной ос-ной кислоты (Н4Р2О7) - 100 г/л;

новой, применяется следуюш ий со-пирофосфата натрия (Na.iP207

став электролита: окиси меди-101-120)-300-400 г/уг.