Печь-ванна для химико-термической обработки Советский патент 1985 года по МПК C21D1/46 

4

оо

00 00 Изобретение относится к химикотермической обработке деталей в машиностроении, может быть использо вано при сульфоцианировании деталей в расплавах, преимущественно при обработке деталей в расплавах на основе цианитов щелочных металлов, и, кроме того, может найти применение при других способах термической или химико-термической обработки деталей в расплавах. Известна печь-ванна, содержащая футерованный корпус и расположенный в нем тигель, крьшку с патрубком и загрузочное устройство СОНедостатком данного устройства является взаимодействие расплава для сульфоцианирования с атмосферой и связанное с этим быстрое накопление в расплаве карбоната щелочного металла, не участвующего в диффузионном насыщении, что приводит к снижению насыщающей способности расплава и его жидкотекучести. Известна установка, содержащая емкость с расплавом, нагревательные элементы и установленную на поверхности расплава крьщ1ку L2J. Недостатком известной установки применительно к условиям сульфоцианирования является возможность потери плавучести крьш1ки в легком I расплаве для сульфоцианирования, а также то, что закрываемая часть поверх ности расплава не изменяется при измен НИИ химического состава расплава, т.е не осуществляется дозирование взаим действия расплава с атмосферой и ст билизация химического состава расплава. Цель изобретения - стабилизация химического состава расплава. Указанная цель, достигается тем, что печь-ванна для химико-термическ обработки, содержащая емкость с рас плавом, нагревательные элементы и установленную на поверхности расплава крьшку, последняя выполнена полой с сечением в виде трапеции с большим основанием, обращенньм к расплаву. Причем площадь н1щнего основания крьшки составляет 65-97%, а площадь верхнего 35-65% площади поверхности расплава в емкости. На чертеже изображена печь-ванна для химико-термической обработки. Печь-ванна содержит футерованный корпус 1, тигель 2, заполненньй рас802плавом 3 для сульфоцианирования, теплоизолирующую крьпнку 4, плавающую на поверхности расплава полую крьпику 5 с сечением в виде трапеции. В крышке выполнены отверстия. Площадь нижнего основания крыщки 65-97%, а площадь верхнего 35-65% площади поверхности расплава в емкости. В крышке выполнены отверстия для прохода тяг подвесок с обрабатываемыми деталями. Печь-ванна работает следующим образом. После загрузки деталей, установленных в подвесках, в тигель на поверхности расплава .устанавливают крышку. Последняя вьшолнена так, что свободно плавает на поверхности расплава, перемещаясь вместе с ним при изменении уровня последнего. Это достигается, например, при выполнении крышки в виде плиты коробчатого сечения. Плавающая крышка закрывает 35-97% площади зеркала расплава, тем самьм предотвращая на закрываемой поверхности взаимодействие расплава с атмосферой (больше 97%). Увеличение площади нижнего основания крьш1ки приводит к ее заклиниванию, уменьшение же, когда она закрывает менее 65% поверхности зеркала, - к недостаточно эффективному : снижению скорости истощения расплава (менее, чем в 3 раза). Выполнение верхней части крьшши площадью менее 35% площади поперечного сечения емкости с расплавом делает применение крьшжи неэффективным, а повьшение свыше 65% снижает глубину регулирования - изменение скорости образования карбоната калия при изменении уровня погружения крышки в расплав с изменяющейся плотностью. При изменении химического, состава расплава относительная площадь закрыаемого расплава изменяется: при поьш1ении содержания карбоната щелочого металла, имеющего большую плотость, чем цианат, растет выталкиващая сила, крьш1ка частично вспльшает закрывает большую площадь расплава, нижая тем самым дальнейщее окисление ианата в карбонат; при низком содерании карбоната в расплаве крьш1ка есколько погружается, открывая дополительную часть поверхности расплава.

1. ПЕЧЬ-ВАННА ДЛЯ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ, содержащая емкость с расплавом, нагревательные элементы и установленную на поверхности расплава крышку, отличающаяся тем, что, с целью стабилизации химического состава расплава, крьппка выполнена полой с сечением в виде трапеции с большим основанием, обращенньм к расплаву. 2. Печь-ванна по п. 1, о т л ич а ш щ а я с я тем, что площадь нижнего основания крышки составляет 65-97%, а площадь верхнего 35-65% площади поверхности расплава в емкости.