Способ контроля отклонения формы поверхности от эталонной Советский патент 1985 года по МПК G01B11/25 G02B27/60 

Изобретение относится к измерению формы криволинейных поверхностей и может быть исполозовано для измерения неровностей поверхностей. Целью изобретения является повышение точности контроля отклонения формы поверхности от эталонной. На чертеже изображена схема, иллюстрирующая реализацию способа. Схема включает в себя эталонную поверхность 1, нерегулярный растр 2, растр 3, являющийся негативом изображения растра 2 на эталонной поверхности 1, проекторы 4 и 5, контролируемую поверхность 6 (или 7), устанавливаемую на место эталонной. На эталонную поверхность 1 проектором 4 проецируют нерегулярный растр 2, фотографируют изображение растра проектором 5, доработанным так, чтобы он обеспечивал фотографирование и последующее проецирование негатива без изменения его положения, и получают таким образом растр 3, согласованный с растром 2 по эталонной поверхности. Одновременное проецирование растров 2 и 3 на эталонную поверхность приводит к взаимному перекрытию их темных и светлых зерен, вследствие чего эталонная поверхность будет затенена. Положение растров в проекторах определяют с помощью, например, микрометров. Далее на место эталонной поверхности устанавливают в то же положение контролируемую поверхность 6. В местах отклонений поверхности от эталонной наблюдают светлые муаровые пятна, форма и размеры которых характеризуют форму и размеры искаженных участков. Освещенность в муаровом пятне пропорциональна величине отклонения контролируемой поверхности от эталонной. Чувствительность способа определяется размерами и плотностью расположения зерен нерегулярного растра и углом между направлениями проецирования растров. Нарастание освещенности в муаровом пятне происходит до того момента, пока рассогласование растров не достигнет размера зерна растра и особенно резко при начале рассогласования, что повышает точность контроля. Для восстановления согласования изображений растров в районе, примыкающем например, к точке А искаженного участка, изображение растра 2 необходимо сместить на поверхности влево на величину рассогласования М-Л, где М - масштаб увеличения; Д - величина смещения растра в своей плоскости параллельно плоскости, образованной осями проекторов. Измерив величину Д, находят величину h отклонения поверхности в точке А из соотношения h - где ft, f, - углы между осями проекторов и направлением отклонения. При отклонении поверхности от эталонной в противоположную сторону (поверхность 7) изображение растра 2 перемещают вправо, определяя тем самым величину отклонения в точке А . Если на контролируемой поверхности имебтся несколько участков с отклонениями от эталонной, равными отклонению в точке А, то согласование растров восстанавливается на всех таких участках одновременно, т. е. одним перемещением растра выявляют впадины или выпуклости, имеющие равные величины, что является дополнительным проимуществом способа, повышающим точность контроля, При доводке поверхности признаком совпадения ее с эталонной на участке обработки является его потемнение, что обеспечивает контролирование поверхности непрерывно в процессе обработки, не прибегая к измерениям и анализу муаровых полос как в известном. Таким образом, способ обеспечивает повыщение точности контроля и упрощение его.

СПОСОБ КОНТРОЛЯ ОТКЛОНЕНИЯ ФОРМЫ ПОВЕРХНОСТИ ОТ ЭТАЛОННОЙ путем проецирования на контролируемую поверхность двух растров из двух положений, согласованных по эталонной поверхности, отличающийся тем, что, с целью повышения точности, на контролируемую поверхность проецируют нерегулярные растры, один из которых является негативным по отношению к другому, перемещают один из растров до получения в контролируемом участке поверхности освещенности, равной освещенности этого участка на эталонной поверхности, и по величине и направлению перемещения рассчитывают величину и знак отклонения контролируемого участка от эталонной поверхности. S (Л а СП 00 00