Способ изготовления формообразующих матриц Советский патент 1985 года по МПК B23H9/12 

f Изобретение относится к электрофизическим методам обработки, к сочетанию .электрофизических методов с другими методами обработки, в частности с методом гальванопластики, и может быть использован для изготовления матриц пресс-форм и литформ, преимущественно с{1ржной конфигурации

Цель изобретения - расширение технологических возможностей и повышение стойкости получаеных матриц за счет получения более равномерного слоя оболочки и повьшения жесткости крепления.

На чертеже представлена ма1трица, изготовленная по предлагаемому способу.

Оболочка 1, используемая в качестве электрода-инструмента для образования полости в заготовке матрицы 2 закреплена в заготовке с помощью слоя припоя 3 и выступов дендритов А, входящих в выборки 5, которые образованы дендритами 4 при прошивке полости. Выборки залиты цветным металлом или сплавом 6.

Способ изготовления формообразующих матриц осуществляют следующим образом.

Методом гальванопластики по модели получают оболочку 1 из никелькобальта. В процессе гальванопластики на боковых CTeifKax оболочки стимулируют образование дендритов, например,с помощью экранов или другим методом.

Полученной оболочкой 1 (ее наружной стороной) в формовочной массе формуют гнезда,образуя песчаные форм

В полученные формы отливают черновые и получистовые электродыинструменты для предварительной об9501

работки полости в заготовке матрицы 2, используя для них металлы с коэффициентами усадки, обеспечивающими припуск под следующую обработку и необходимые размеры электродов-инструментов .

В заготовке 2 прошивают полость, используя последовательно черновые и получистовые электроды с ртверстиями для прокачки рабочей жидкости. После прошивки получают полость, эквидистантную оболочке с припуском 0,15-0,3 мм на сторону. Затем используя оболочку в качестве чистового электрода-инструмента обрабатывают матрицу до заданной глубины.

При необходимости полость дополнительно углубляют до достижения межэлектродного зазора 0,02-0,04 мм

0 по всей поверхности оболочки, а заданную высоту матрицы обеспечивают за счет снятия припуска с верхнего торца заготовки матрицы 2.

Наружную поверхность оболочки 1

5 очищают, обезжиривают и наносят на нее слой припоя толщиной 0,040,06 мм, используя припой с температурой плавления 260 .

Предварительно обезжирив полость, заготовку 2 нагревают до 280 , вставляют в полость оболочку 1 и, прикладьшая давление, охлаждают до комнатной температуры.

Выборки 5 в заготовке матрицы 2, образованные при прошивке дендритами 4 или другими выступами, расположенными на стенках оболочки, заливают цветным металлом или сплавом 6 с температурой плавления вьш1е температуры плавления припоя, которым крепят оболочку к корпусу матрицы.

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОРМ ОБРАЗУЮЩИХ МАТРЩ по авт.св. 821 отличающийся тем, что с целью расширения технологических возможностей и повьшения стойкости матриц за счет сохранения равномерной толщины оболочки и повьшения жесткости ее крепления, в заготовке матрицы предварительно формируют полость электродами-инструментами, полученными отливкой из металла с коэффициентом усадки, обеспечивающим припуск под следующую обработку, при этом отливку осуществляют в форме, отформованной наружной повецхностью оболочки, а при гальваническом получении оболочки - в местах, прилегающих к ее верхней частл, стимулируют рост дендритов, обеспечивающих при обработке матрицы формирование полостей, заливаемьпс при креплении оболочки термостойким припоем. . г